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掩模的严重缺陷会危害在该晶片上形成的集成电路的功能性。不会影响功能性的损害性缺陷耗费昂贵的资源。一种具有基于任务的自动化的缺陷分析工具可以精确有效地确定缺陷适印性。这个工具可以利用掩模文件运行任务，以模拟在给定的参数组条件下，掩模所提供的晶...
该专利属于辛奥普希斯股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过辛奥普希斯股份有限公司授权不得商用。

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