观察硅片样品断面的样品台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种观察硅片样品断面的样品台，包括底座和与底座相配合的放置样品的平台，其中，放置样品的平台表面设有活动槽，每条活动槽设有调节活动槽宽度的活动槽宽度调节装置。本实用新型专利技术通过在样品台的平台上开设可调节宽度的活动槽，可以在一个样品台平台上同时放置不同厚度的样品进行断面观察，节省了工作时间，提高工作效率。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体行业的测试分析
，尤其涉及一种观察 硅片样品断面的样品台。技术背景扫描电子显微镜是通过高能电子入射固体样品表面，与样品的原子核 和核外电子发生弹性或非弹性散射，激发样品产生各种物理信号，利用电 子检测器，接收信号形成图像。扫描电子显微镜广泛应用在半导体电子产业中，观察半导体芯片的断 面和表面的形貌，以及对待测样品的成分进行确认等。现有的样品台每次只能放置一枚样品进行断面观察，而更换样品需要 耗费大量的时间，使设备的使用率无法提升。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种观察硅片样品断面的样品 台，可以同时放置多个样品，减少更好样品所需要的时间，降低人工成本， 同时提高设备使用率。为解决上述技术问题，本技术观察硅片样品断面的样品台的技术 方案是，包括底座和与底座相配合的放置样品的平台，放置样品的平台表 面设有活动槽，每条活动槽设有调节活动槽宽度的活动槽宽度调节装置。作为本技术观察硅片样品断面的样品台的进一步改进是，活动槽将放置样品的平台表面分为多个区域，并以字母或者数字区分平台表面的 不同区域。本技术通过在样品台的平台上开设可调节宽度的活动槽，可以在 一个样品台平台上同时放置不同厚度的样品进行断面观察，节省了工作时 间，提高工作效率。附图说明以下结合附图和实施例对本技术作进一步详细的说明 图l为本技术样品台平台表面示意图； 图2为本技术样品台侧面示意图；图3为本技术活动槽宽度调节装置与活动槽的连接示意图。 图中附图标记中，可调节宽度活动槽为10，活动槽宽度调节装置为20， 样品槽为30。具体实施方式如图1所示，图1为本技术观察硅片样品断面的样品台放置样品 的平台表面示意图。样品台的平台长40mm，宽24mm，厚8mm，在样品 台的平台表面设有4个活动槽10，该活动槽IO距离样品台的平台表面边缘 距离约8mm，每个活动槽10深度为0.2mm。如图2、图3所示，在样品台的平台侧面对应于每条活动槽10设有调 节活动槽宽度的活动槽宽度调节装置20，这种宽度调节装置20可以是具有 螺纹的螺丝或者螺母，活动槽IO可以通过旋转螺丝或者螺母调节活动槽的 宽度。当硅片的厚度在0.35mm至0.73mm之间时，设定活动槽的活动间距为0.2mm至1.0mm。也可以根据不同的硅片厚度设定不同的活动槽活动间距。为方便样品观察，在活动槽10上下分别以A、 B、 C、 D字母标示以区 分，由于每个活动槽可以放置两个样品，另以数字l、 2进行区分，可同时 放置4组不同厚度的8个样品进行观察，使观察者在放置完样品后能在扫 描电子显微镜观察过程中轻易的找到自己需要的样品进行断面观察。在利用上述实施例的观察硅片样品断面的样品台进行观察硅片断面 时，可以对应槽边的数字和字母分区域将需要观察的样品插入活动槽的样 品槽30，所需观察的面向上，调节样品台平台周边螺母改变活动槽活动间 距以固定样品，并且记下各个样品放置的区域。然后将样品台放入扫描电 子显微镜进行观察，在低倍下找到放置样品的区域，再以数字及字母区分 要观察的样品，将扫描电子显微镜转成高倍进行观察。利用本技术的观察硅片样品断面的样品台，可以在同一个样品台 上同时观察多个厚度不同的硅片断面形态，节省了更换样品的时间，节约 了人工成本，提高了设备的利用率和生产效率。权利要求1.一种观察硅片样品断面的样品台，包括底座和与底座相配合的放置样品的平台，其特征在于，放置样品的平台表面设有活动槽，每条活动槽设有调节活动槽宽度的活动槽宽度调节装置。2. 根据权利要求1所述的观察硅片样品断面的样品台，其特征在于， 活动槽将放置样品的平台表面分为多个区域，并以字母或者数字区分平台 表面的不同区域。3. 根据权利要求1或2所述的观察硅片样品断面的样品台，其特征在 于，放置样品的平台表面设有4条活动槽。4. 根据权利要求1或2所述的观察硅片样品断面的样品台，其特征在 于，活动槽设于距离放置样品的平台表面边缘8mm处。5. 根据权利要求1或2所述的观察硅片样品断面的样品台，其特征在 于，活动槽深度为0.2mm。6. 根据权利要求1或2所述的观察硅片样品断面的样品台，其特征在 于，活动槽可以活动的宽度范围为0.2mm至lmm。7. 权利要求1所述的观察硅片样品断面的样品台，其特征在于，放置 样品的平台长40mm，宽24mm，厚8 mm。8. 权利要求1所述的观察硅片样品断面的样品台，其特征在于，样品 台为金属材质。专利摘要本技术公开了一种观察硅片样品断面的样品台，包括底座和与底座相配合的放置样品的平台，其中，放置样品的平台表面设有活动槽，每条活动槽设有调节活动槽宽度的活动槽宽度调节装置。本技术通过在样品台的平台上开设可调节宽度的活动槽，可以在一个样品台平台上同时放置不同厚度的样品进行断面观察，节省了工作时间，提高工作效率。文档编号H01J37/20GK201122096SQ20072014430公开日2008年9月24日 申请日期2007年11月22日 优先权日2007年11月22日专利技术者莺 裘 申请人:上海华虹Nec电子有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种观察硅片样品断面的样品台，包括底座和与底座相配合的放置样品的平台，其特征在于，放置样品的平台表面设有活动槽，每条活动槽设有调节活动槽宽度的活动槽宽度调节装置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：裘莺，
申请(专利权)人：上海华虹NEC电子有限公司，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]