真空镀膜机加热设备及真空镀膜机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜机加热设备，包括真空镀膜箱、置于真空镀膜箱内部的罩壳、与罩壳传动连接的旋转电机，罩壳上滑动设置加热装置；罩壳顶部固定连接杆，旋转电机输出端连接转轴，转轴与连接杆的端部通过分别固定在转轴和连接杆端部的第一锥齿轮和第二锥齿轮啮合传动连接。罩壳顶端开设供加热装置滑动的滑槽。加热装置包括加热器、与加热器固定的滑动件，滑动件嵌入滑槽内。还公开了一种具有该真空镀膜机加热设备的真空镀膜机。本实用新型专利技术的真空镀膜机加热设备，可以实现在多个空间位置内对基片、不规则物体表面进行镀膜。通过调节罩壳上固定的加热装置的位置，实现镀膜更加均匀。

Vacuum coater heating equipment and vacuum coater

【技术实现步骤摘要】
真空镀膜机加热设备及真空镀膜机
本技术涉及一种真空镀膜机加热设备及真空镀膜机，属于真空镀膜机

技术介绍
薄膜制备过程多采用真空镀膜技术，真空镀膜技术在当前微电子技术和为微构件制备领域中具有举足轻重的地位。真空镀膜技术要依赖真空环境下利用物理或化学手段在工件表面沉积，一种是物理气相沉积，即PVD；另一种是化学气相沉积，称为CVD。热蒸发较为简单、应用较多，即利用物质受热后的蒸发或升华将其转化为气态再沉积在基片表面。通常会将蒸镀材料放在蒸镀容器中，让加热器对蒸镀容器加热，使其内的蒸镀材料转化为气态沉积在基片表面，从而达到蒸镀成膜的目的。当前的蒸镀过程中无法保证基片均匀受热，导致蒸镀获得的基片薄膜质量较差，同时现有的真空镀膜机无法实现对表面不规则物体均匀镀膜。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术中真空镀膜机加热设备加热不均匀、蒸镀后获得的基片薄膜质量差的不足，提供一种真空镀膜机加热设备及真空镀膜机，技术方案如下：真空镀膜机加热设备，包括真空镀膜箱、置于真空镀膜箱内部的罩壳、与罩壳传动连接的旋转电机，罩壳上滑动本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.真空镀膜机加热设备，其特征在于，包括真空镀膜箱、置于所述真空镀膜箱内部的罩壳、与所述罩壳传动连接的旋转电机，所述罩壳上滑动设置加热装置；/n所述罩壳顶部固定连接杆，所述旋转电机输出端连接转轴，所述转轴与所述连接杆的端部通过分别固定在所述转轴和所述连接杆端部的第一锥齿轮和第二锥齿轮啮合传动连接。/n

【技术特征摘要】
1.真空镀膜机加热设备，其特征在于，包括真空镀膜箱、置于所述真空镀膜箱内部的罩壳、与所述罩壳传动连接的旋转电机，所述罩壳上滑动设置加热装置；
所述罩壳顶部固定连接杆，所述旋转电机输出端连接转轴，所述转轴与所述连接杆的端部通过分别固定在所述转轴和所述连接杆端部的第一锥齿轮和第二锥齿轮啮合传动连接。


2.根据权利要求1所述的真空镀膜机加热设备，其特征在于，所述罩壳顶端开设供所述加热装置滑动的滑槽。


3.根据权利要求2所述的真空镀膜机加热设备，其特征在于，所述加热装置包括加热器、与加热器固...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋贵霞，贾建国，
申请(专利权)人：昆山英利悦电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32