【技术实现步骤摘要】
一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置
本技术涉及玻璃生产设备
,尤其是一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置。
技术介绍
真空镀膜是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上,也称为物理气相沉积(PVD)。目前真空镀膜技术主要有蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀这三种方法。真空蒸发是在真空下进行的蒸发操作,在真空蒸发流程中,末效的二次蒸汽通常在混合式冷凝器中冷凝,真空蒸发的特点是,在低压下溶液的沸点降低且用较少的蒸汽蒸发大量的水分。现有技术中真空镀膜设备对镀膜产品结构的局限性较大,放置在内的产品无法自动翻面导致前后两侧镀膜厚度不均匀,若要使得其镀膜均匀需要拿出重新放置,这样产品生产效率低。
技术实现思路
为了克服现有的低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置技术的不足,本技术提供了一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置,包括壳体,所述壳体内顶 ...
【技术保护点】
1.一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置,包括壳体(1),其特征是,所述壳体(1)内顶面设置有第一加热器(2),壳体(1)内底面设置有蒸发装置,壳体(1)侧边对称设置有第一滑轨(3),第一滑轨(3)上设置有第一滑块(4),第一滑块(4)上设置有通过回转台(5)连接的支撑杆(6),支撑杆(6)另一端设置有带有第二滑轨(7)的安装板(8),第二滑轨(7)上间隔设置有第二滑块(9),第二滑块(9)上设置有连接板(23),连接板(23)皆间隔设置有通过固定杆(10)连接的夹块(11)。/n
【技术特征摘要】
1.一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置,包括壳体(1),其特征是,所述壳体(1)内顶面设置有第一加热器(2),壳体(1)内底面设置有蒸发装置,壳体(1)侧边对称设置有第一滑轨(3),第一滑轨(3)上设置有第一滑块(4),第一滑块(4)上设置有通过回转台(5)连接的支撑杆(6),支撑杆(6)另一端设置有带有第二滑轨(7)的安装板(8),第二滑轨(7)上间隔设置有第二滑块(9),第二滑块(9)上设置有连接板(23),连接板(23)皆间隔设置有通过固定杆(10)连接的夹块(11)。
2.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置,其特征是,所述壳体(1)正面设置有料口(12)和控制器(13),料口(12)设置在控制器(13)上方,壳体(1)左侧设置有真空泵(24),壳体(1)右侧设置有观察口(14)。
3....
【专利技术属性】
技术研发人员:丁桂兰,仇亚平,
申请(专利权)人:常州金世纪玻璃科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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