一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置制造方法及图纸

技术编号:24651529 阅读:22 留言:0更新日期:2020-06-27 01:51
本实用新型专利技术涉及玻璃生产设备技术领域,尤其是一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置,包括壳体,壳体内顶面设置有第一加热器,壳体内底面设置有蒸发装置,壳体侧边对称设有第一滑轨,第一滑轨上设有第一滑块,第一滑块上设有通过回转台连接的支撑杆,支撑杆另一端设有带有第二滑轨的安装板,第二滑轨上间隔设置有第二滑块,第二滑块上设置有连接板,连接板皆间隔设置有通过固定杆连接的夹块。本实用新型专利技术通过和第二滑块连接的夹块固定基片,并且在回转台的作用下使得基片能够在壳体内旋转翻面,镀膜更加均匀,提高生产效率,垫片能够防止夹块夹持基片时损伤基片表面,第一滑块和第一滑轨的配合便于基片在壳体内调整位置后旋转。

A coating device for low radiation coating glass production

【技术实现步骤摘要】
一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置
本技术涉及玻璃生产设备
,尤其是一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置。
技术介绍
真空镀膜是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上,也称为物理气相沉积(PVD)。目前真空镀膜技术主要有蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀这三种方法。真空蒸发是在真空下进行的蒸发操作,在真空蒸发流程中,末效的二次蒸汽通常在混合式冷凝器中冷凝,真空蒸发的特点是,在低压下溶液的沸点降低且用较少的蒸汽蒸发大量的水分。现有技术中真空镀膜设备对镀膜产品结构的局限性较大,放置在内的产品无法自动翻面导致前后两侧镀膜厚度不均匀,若要使得其镀膜均匀需要拿出重新放置,这样产品生产效率低。
技术实现思路
为了克服现有的低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置技术的不足,本技术提供了一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置,包括壳体,所述壳体内顶面设置有第一加热器,本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置,包括壳体(1),其特征是,所述壳体(1)内顶面设置有第一加热器(2),壳体(1)内底面设置有蒸发装置,壳体(1)侧边对称设置有第一滑轨(3),第一滑轨(3)上设置有第一滑块(4),第一滑块(4)上设置有通过回转台(5)连接的支撑杆(6),支撑杆(6)另一端设置有带有第二滑轨(7)的安装板(8),第二滑轨(7)上间隔设置有第二滑块(9),第二滑块(9)上设置有连接板(23),连接板(23)皆间隔设置有通过固定杆(10)连接的夹块(11)。/n

【技术特征摘要】
1.一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置,包括壳体(1),其特征是,所述壳体(1)内顶面设置有第一加热器(2),壳体(1)内底面设置有蒸发装置,壳体(1)侧边对称设置有第一滑轨(3),第一滑轨(3)上设置有第一滑块(4),第一滑块(4)上设置有通过回转台(5)连接的支撑杆(6),支撑杆(6)另一端设置有带有第二滑轨(7)的安装板(8),第二滑轨(7)上间隔设置有第二滑块(9),第二滑块(9)上设置有连接板(23),连接板(23)皆间隔设置有通过固定杆(10)连接的夹块(11)。


2.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置,其特征是,所述壳体(1)正面设置有料口(12)和控制器(13),料口(12)设置在控制器(13)上方,壳体(1)左侧设置有真空泵(24),壳体(1)右侧设置有观察口(14)。


3....

【专利技术属性】
技术研发人员:丁桂兰仇亚平
申请(专利权)人:常州金世纪玻璃科技有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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