一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及玻璃生产设备技术领域，尤其是一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置，包括壳体，壳体内顶面设置有第一加热器，壳体内底面设置有蒸发装置，壳体侧边对称设有第一滑轨，第一滑轨上设有第一滑块，第一滑块上设有通过回转台连接的支撑杆，支撑杆另一端设有带有第二滑轨的安装板，第二滑轨上间隔设置有第二滑块，第二滑块上设置有连接板，连接板皆间隔设置有通过固定杆连接的夹块。本实用新型专利技术通过和第二滑块连接的夹块固定基片，并且在回转台的作用下使得基片能够在壳体内旋转翻面，镀膜更加均匀，提高生产效率，垫片能够防止夹块夹持基片时损伤基片表面，第一滑块和第一滑轨的配合便于基片在壳体内调整位置后旋转。

A coating device for low radiation coating glass production

【技术实现步骤摘要】
一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置
本技术涉及玻璃生产设备
，尤其是一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置。
技术介绍
真空镀膜是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上，也称为物理气相沉积(PVD)。目前真空镀膜技术主要有蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀这三种方法。真空蒸发是在真空下进行的蒸发操作，在真空蒸发流程中，末效的二次蒸汽通常在混合式冷凝器中冷凝，真空蒸发的特点是，在低压下溶液的沸点降低且用较少的蒸汽蒸发大量的水分。现有技术中真空镀膜设备对镀膜产品结构的局限性较大，放置在内的产品无法自动翻面导致前后两侧镀膜厚度不均匀，若要使得其镀膜均匀需要拿出重新放置，这样产品生产效率低。
技术实现思路
为了克服现有的低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置技术的不足，本技术提供了一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置，包括壳体，所述壳体内顶面设置有第一加热器，壳体内底面设置有蒸发装置，壳体侧边对称设置有第一滑轨，第一滑轨上设置有第一滑块，第一滑块上设置有通过回转台连接的支撑杆，支撑杆另一端设置有带有第二滑轨的安装板，第二滑轨上间隔设置有第二滑块，第二滑块上设置有连接板，连接板皆间隔设置有通过固定杆连接的夹块。根据本技术的另一个实施例，进一步包括壳体正面设置有料口和控制器，料口设置在控制器上方，壳体左侧设置有真空泵，壳体右侧设置有观察口。根据本技术的另一个实施例，进一步包括料口内设置有通过铰接结构固定的箱门，箱门上设置有旋紧把手。根据本技术的另一个实施例，进一步包括壳体内后侧设置有膜厚监测器，壳体内左侧设置有真空规管，真空规管设置在第一滑轨下方。根据本技术的另一个实施例，进一步包括蒸发装置包括通过支架固定的蒸发皿和第二加热器，第二加热器设置在支架之间并固定在壳体内底面。根据本技术的另一个实施例，进一步包括夹块上设置有用于固定基片的垫片。本技术的有益效果是：本技术通过和第二滑块连接的夹块固定基片，并且在回转台的作用下使得基片能够在壳体内旋转翻面，镀膜更加均匀，实现了自动化操作，提高生产效率，垫片能够防止夹块夹持基片时损伤基片表面，第一滑块和第一滑轨的配合便于基片在壳体内调整位置后旋转。附图说明下面结合附图和实施例对本技术进一步说明。图1是本技术的剖面结构示意图；图2是本技术的正面结构示意图；图3是本技术的侧剖面结构示意图。图中1、壳体，2、第一加热器，3、第一滑轨，4、第一滑块，5、回转台，6、支撑杆，7、第二滑轨，8、安装板，9、第二滑块，10、固定杆，11、夹块，12、料口，13、控制器，14、观察口，15、箱门，16、旋紧把手，17、膜厚监测器，18、支架，19、蒸发皿，20、第二加热器，21、基片，22、垫片，23、连接板，24、真空泵，25、真空规管。具体实施方式如图1是本技术的结构示意图，一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置，包括壳体1，所述壳体1内顶面设置有第一加热器2，壳体1内底面设置有蒸发装置，壳体1侧边对称设置有第一滑轨3，第一滑轨3上设置有第一滑块4，第一滑块4上设置有通过回转台5连接的支撑杆6，支撑杆6另一端设置有带有第二滑轨7的安装板8，第二滑轨7上间隔设置有第二滑块9，第二滑块9上设置有连接板23，连接板23皆间隔设置有通过固定杆10连接的夹块11，本技术通过和第二滑块9连接的夹块11固定基片21，并且在回转台5的作用下使得基片21能够在壳体1内旋转翻面，镀膜更加均匀，实现了自动化操作，提高生产效率，垫片22能够防止夹块11夹持基片21时损伤基片表面，第一滑块4和第一滑轨3的配合便于基片21在壳体1内调整位置后旋转。如图2所示，所述壳体1正面设置有料口12和控制器13，料口12设置在控制器13上方，壳体1左侧设置有真空泵24，壳体1右侧设置有观察口14，控制器13控制真空泵24的启动和关闭、第一滑块4和第二滑块9的移动，回转台5的转动角度以及第一加热器2和第二加热器20的工作功率。所述料口12内设置有通过铰接结构固定的箱门15，铰接指铰链连接，箱门15上设置有旋紧把手16，旋紧把手16便于将箱门15固定开启，保证壳体1内真空室的密封性。如图3所示，所述壳体1内后侧设置有膜厚监测器17，膜厚监测器17用于监测基片21表面膜厚度，控制基片的翻转，壳体1内左侧设置有真空规管25，真空规管25设置在第一滑轨3下方，真空规管25用于测量真空度的传感器，真空规管25将测量出来的信号传输到真空计上经过放大处理就可以显示出被测真空环境的真空度。所述蒸发装置包括通过支架18固定的蒸发皿19和第二加热器20，第二加热器20设置在支架18之间并固定在壳体1内底面，蒸发皿19用于放置需要蒸发的原液。所述夹块11上设置有用于固定基片21的垫片22，垫片22能够防止夹块11夹持基片21时损伤基片表面。工作原理：通过旋紧把手16将箱门15开启，从料口12内将基片21放入，第二滑块9包括上滑块和下滑块，夹块11包括与上滑块和下滑块对应设置的上夹块和下夹块，当基片21进入壳体1后内上滑块和下滑块分别驱动上夹块和下夹块使得上夹块和下夹块夹紧基片21，关闭箱门15并通过旋紧把手16使得其紧闭，真空泵24抽取壳体1内的气体，真空规管25测量真空度的，当达到标准后，真空泵24停止工作，第一加热器2和第二加热器20开始工作，蒸发皿19内原液加热蒸发扩散到壳体1内，逐渐附在基片21表面形成镀膜，在此过程中上夹块上移离开基片21表面便于膜附着，当需要翻面时上夹块和下夹块夹紧基片21，回转台5工作使得基片21转动，膜厚监测器17用于监测基片21表面膜厚度到达标准后停止工作将基片21取出。以上说明对本技术而言只是说明性的，而非限制性的，本领域普通技术人员理解，在不脱离所附权利要求所限定的精神和范围的情况下，可做出许多修改、变化或等效，但都将落入本技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置，包括壳体(1)，其特征是，所述壳体(1)内顶面设置有第一加热器(2)，壳体(1)内底面设置有蒸发装置，壳体(1)侧边对称设置有第一滑轨(3)，第一滑轨(3)上设置有第一滑块(4)，第一滑块(4)上设置有通过回转台(5)连接的支撑杆(6)，支撑杆(6)另一端设置有带有第二滑轨(7)的安装板(8)，第二滑轨(7)上间隔设置有第二滑块(9)，第二滑块(9)上设置有连接板(23)，连接板(23)皆间隔设置有通过固定杆(10)连接的夹块(11)。/n

【技术特征摘要】
1.一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置，包括壳体(1)，其特征是，所述壳体(1)内顶面设置有第一加热器(2)，壳体(1)内底面设置有蒸发装置，壳体(1)侧边对称设置有第一滑轨(3)，第一滑轨(3)上设置有第一滑块(4)，第一滑块(4)上设置有通过回转台(5)连接的支撑杆(6)，支撑杆(6)另一端设置有带有第二滑轨(7)的安装板(8)，第二滑轨(7)上间隔设置有第二滑块(9)，第二滑块(9)上设置有连接板(23)，连接板(23)皆间隔设置有通过固定杆(10)连接的夹块(11)。


2.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置，其特征是，所述壳体(1)正面设置有料口(12)和控制器(13)，料口(12)设置在控制器(13)上方，壳体(1)左侧设置有真空泵(24)，壳体(1)右侧设置有观察口(14)。


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【专利技术属性】
技术研发人员：丁桂兰，仇亚平，
申请(专利权)人：常州金世纪玻璃科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32