【技术实现步骤摘要】
输送载体、蒸镀装置以及电子器件的制造装置
本专利技术涉及输送载体、蒸镀装置以及电子器件的制造装置。
技术介绍
以往，使用在玻璃基板等成膜对象物上对蒸镀材料进行蒸镀而成膜的蒸镀装置，例如在有机EL面板的制造时对有机层进行蒸镀的有机层蒸镀装置是已知。在该蒸镀装置中存在所谓群组(cluster)式的蒸镀装置和直列(in-line)式的蒸镀装置。在群组式的蒸镀装置中，在玻璃基板上进行成膜的蒸镀室呈多个群组状配置，通过将玻璃基板依次输送到各蒸镀室进行蒸镀，从而蒸镀多层的膜。另一方面，在直列式的蒸镀装置中，成膜用的玻璃基板一边呈线状地被输送一边在蒸镀室中进行成膜。在直列式中，也可以在行方向上具有多个蒸镀室。在专利文献1中记载有直列式的有机层蒸镀装置。专利文献1的装置具有第一循环部，该第一循环部在行方向上由送入玻璃基板的装载部、在玻璃基板上蒸镀膜的蒸镀部、以及送出玻璃基板的卸载部构成。装置还具有第二循环部，该第二循环部回收具备输送基板的静电吸盘的输送载体。在蒸镀处理时，首先将玻璃基板从装置外部送入第一循环部的装载部的第一支...
【技术保护点】
1.一种输送载体，具备能够保持蒸镀对象的基板的载体主体，一边保持所述基板一边在蒸镀装置内进行输送，其特征在于，/n所述载体主体具备磁吸附构件，所述磁吸附构件在隔着所述基板对掩模进行磁吸附而使所述掩模紧贴于所述基板的成膜面的状态下进行保持，所述掩模遮挡所述基板的非蒸镀区域。/n
【技术特征摘要】
20181214 JP 2018-2349221.一种输送载体，具备能够保持蒸镀对象的基板的载体主体，一边保持所述基板一边在蒸镀装置内进行输送，其特征在于，
所述载体主体具备磁吸附构件，所述磁吸附构件在隔着所述基板对掩模进行磁吸附而使所述掩模紧贴于所述基板的成膜面的状态下进行保持，所述掩模遮挡所述基板的非蒸镀区域。
2.如权利要求1所述的输送载体，其特征在于，
所述载体主体具有利用静电力吸附并保持所述基板的静电吸附构件。
3.如权利要求2所述的输送载体，其特征在于，
所述载体主体具备引导部，所述引导部将所述磁吸附构件支承为相对于所述静电吸附构件能够在离开以及接近的方向上移动。
4.如权利要求1所述的输送载体，其特征在于，
所述磁吸附构件成为如下结构：具有能够与驱动源侧的部件卡合、脱离的连结部，利用来自外部的驱动力进行移动。
5.如权利要求1所述的输送载体，其特征在于，
在所述载体主体的与输送方向平行的两侧缘，沿着输送方向呈直线地附设有多个驱动用磁铁，所述驱动用磁铁与设置于在所述蒸镀装置内部配置的输送引导件的驱动用线圈相向。
6.如权利要求5所述的输送载体，其特征在于，
若将所述载体主体的输送方向设为X轴，将在与所述基板的平面平行的面内与所述X轴正交的方向设为Y轴，将与所述X轴以及Y轴正交的方向设为Z轴，则所述驱动用磁铁具备S极和N极的磁极沿着X轴方向交替地配置以便得到向X轴方向的推进力的磁极配置，除此之外，所述驱动用磁铁具备S极和N极的磁极沿Y轴方向配置以便得到向Y轴方向的推进力的磁极配置。
7.如权利要求1所述的输送载体，其特征在于，
在所述载体主体的两侧端面设置有供设置于所述输送引导件的导辊安装的引导槽，引导槽以夹着导辊的滚动面的方式具备一对平行的引导面，所述引导面之间的间隔设定为比所述导辊的直径大，在所述引导面与所述导辊之间设置有间隙。
8.如权利要求1～7中任一项所述的输送载体，其特征在于，
所述载体主体除具备所述磁吸附构件之外还具备掩模保持构件，所述掩模保持构件与所述掩模的周缘部卡合而保持掩模。
9.如权利要求8所述的输送载体，其特征在于，
在所述掩模的周缘设置有掩模框架，所述掩模保持构件保持所述掩模框架。
10.如权利要求8所述的输送载体，其特征在于，
所述掩模保持构件成为如下结构：具有能够通过驱动源侧的部件卡合、脱离的连结部，利用来自外部的驱动力进行移动。
11.如权利要求2所述的输送载体，其特征在于，
在所述载体主体搭载有被气密地密闭的控制箱，所述控制箱对所述静电吸附构件进行控制，该控制箱具备：受电用线圈，所述受电用线圈在其与配置在装置外部的供电用线圈之间以非接触的方式被供电；二次电池，所述二次电池利用由该受电用线圈接收到的电力进行充电；以及高压电源，所述高压电源通过对该二次电池的输出电压进行变压而生成。
12.如权利要求11所述的输送载体，其特征在于，
所述控制箱具备与装置外部的控制装置进行通信的通信单元。
13.一种蒸镀装置，具备：利用输送载体保持从外部送入的蒸镀对象的基板的基板送入室、相对于被所述输送载体吸附的所...
【专利技术属性】
技术研发人员：小川滋之，柴田匠，塚本健太，秋田和夫，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。