一种能够改善发光效率的半导体发光器件制造技术

本发明专利技术涉及一种能够改善发光效率的半导体发光器件，包括衬底层；缓冲层，位于所述衬底层上；N型半导体层，位于所述缓冲层上；N型掺杂层，位于所述N型半导体层上；量子阱发光层，位于所述N型掺杂层上；电子阻挡层，位于所述量子阱发光层上；空穴调整层，位于所述电子阻挡层上，所述空穴调整层包括依次层叠于电子阻挡层上的第一非掺杂层、第二非掺杂层和P型掺杂层；P型半导体层，位于所述空穴调整层上。本发明专利技术通过设置有空穴调整层，能够改善空穴迁移至量子阱发光层的空穴浓度，从改善发光二极管的发光效率。

A semiconductor light-emitting device which can improve the luminous efficiency

【技术实现步骤摘要】
一种能够改善发光效率的半导体发光器件
本专利技术涉及发光元件
，特别是涉及一种能够改善发光效率的半导体发光器件。
技术介绍
发光二极管(LightEmittingDiode，LED)是一种可将电流转换成特定波长范围的光的半导体发光器件。发光二极管以其亮度高、工作电压低、功耗小、易与集成电路匹配、驱动简单、寿命长等优点，从而可作为光源而广泛应用于照明领域。目前，发光二极管一般包括衬底层、缓冲层、N型半导体层、多量子阱发光层、P型半导体层。其中，N型半导体层用于提供电子；P型半导体层用于提供空穴，当有电流通过时，N型半导体层提供的电子和P型半导体层提供的空穴进入多量子阱发光层复合发光。但是，由于电子的移动能力远远高于空穴，导致在多量子阱发光层中的电子浓度远远高于空穴的浓度，从而影响发光二极管的发光效率。
技术实现思路
因此，为解决现有技术存在的技术缺陷和不足，本专利技术提出一种能够改善发光效率的半导体发光器件。具体地，本专利技术一个实施例提出的一种能够改善发光效率的半导体发光器件，包括：衬底层；缓冲层，位于所述衬底层上；N型半导体层，位于所述缓冲层上；N型掺杂层，位于所述N型半导体层上；量子阱发光层，位于所述N型掺杂层上；电子阻挡层，位于所述量子阱发光层上；空穴调整层，位于所述电子阻挡层上，所述空穴调整层包括依次层叠于电子阻挡层上的第一非掺杂层、第二非掺杂层和P型掺杂层；P型半导体层，位于所述空穴调整层上。<br>在本专利技术的一个实施例中，所述第一非掺杂层为非掺杂的GaN层。在本专利技术的一个实施例中，所述第一非掺杂层的厚度为20-40nm。在本专利技术的一个实施例中，所述第二非掺杂层为非掺杂的AlGaN层。在本专利技术的一个实施例中，所述第二非掺杂层的厚度为50-70nm。在本专利技术的一个实施例中，所述P型掺杂层为P型InGaP层。在本专利技术的一个实施例中，所述P型掺杂层的掺杂元素为Mg，所述P型掺杂层的掺杂浓度为1019-3×1019cm-3。在本专利技术的一个实施例中，所述P型掺杂层的厚度为60-100nm。本专利技术实施例，具备如下优点：本专利技术通过设置有空穴调整层，能够改善空穴迁移至量子阱发光层的空穴浓度，从改善发光二极管的发光效率。通过以下参考附图的详细说明，本专利技术的其它方面和特征变得明显。但是应当知道，该附图仅仅为解释的目的设计，而不是作为本专利技术的范围的限定，这是因为其应当参考附加的权利要求。还应当知道，除非另外指出，不必要依比例绘制附图，它们仅仅力图概念地说明此处描述的结构和流程。附图说明下面将结合附图，对本专利技术的具体实施方式进行详细的说明。图1为本专利技术实施例提供的一种能够改善发光效率的半导体发光器件的结构示意图。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。请参见图1，图1为本专利技术实施例提供的一种能够改善发光效率的半导体发光器件的结构示意图。本专利技术的实施例提供一种能够改善发光效率的半导体发光器件，该半导体发光器件包括：衬底层11；具体地，衬底层11的材料可以为蓝宝石、硅、碳化硅、氧化锌、氮化镓、氮化铝或者其它适于晶体外延生长的材料。缓冲层12，位于衬底层11上；进一步地，缓冲层12的材料为GaN。本专利技术实施例通过在衬底层上生长缓冲层12，能够减少进入至N型半导体层、量子阱发光层和P型半导体层中的缺陷，从而提高发光二极管的发光质量。N型半导体层13，位于缓冲层12上；进一步地，N型半导体层13为n-GaN层，且N型半导体层13的掺杂元素为Si，N型半导体层13的掺杂浓度可以为1017-1019cm-3。进一步地，N型半导体层13具有一平台，第一电极21形成于N型半导体层13的平台上。N型掺杂层14，位于N型半导体层13上；进一步地，N型掺杂层14为n-GaN层，且N型掺杂层14的掺杂元素为Si；进一步地，N型掺杂层14的掺杂浓度低于N型半导体层13的掺杂浓度，N型掺杂层14的掺杂浓度为N型半导体层13的掺杂浓度的1/6-1/4；通过在N型半导体层13上生长一层N型掺杂层14，且N型掺杂层14的掺杂浓度低于N型半导体层13的掺杂浓度，从而能够有效的降低LED器件的电压、提高LED器件抗静电特性，从而提高LED器件的发光效率。优选地，N型掺杂层14的厚度为200-400nm。量子阱发光层15，位于N型掺杂层14上；进一步地，量子阱发光层15为掺铟的氮化镓层；电子阻挡层16，位于量子阱发光层15上；进一步地，电子阻挡层16的材料为Alx1InyGa1-x1-yN，其中，0<x1≤0.4，0<y≤0.2。进一步地，电子阻挡层16的厚度为100-200nm。本专利技术实施例通过在空穴调整层17与量子阱发光层15之间设置电子阻挡层16，电子阻挡层16的材料为Alx1InyGa1-x1-yN，由于铝的势垒较高，从而可以使得电子阻挡层16有效地阻止N型半导体层13产生的电子进入到P型半导体层18中，从而避免了电子与空穴在P型半导体层18中发生非辐射复合，从而避免了因电子的跃迁导致的空穴浓度的降低，改善了发光二极管的发光效率。空穴调整层17，位于电子阻挡层16上，空穴调整层17包括依次层叠于电子阻挡层16上的第一非掺杂层171、第二非掺杂层172和P型掺杂层173；进一步地，第一非掺杂层171为非掺杂的GaN层。进一步地，第一非掺杂层171的厚度为20-40nm。进一步地，第二非掺杂层172为非掺杂的AlGaN层。进一步地，第二非掺杂层172的厚度为50-70nm。进一步地，P型掺杂层173为P型InGaP层。进一步地，P型掺杂层173的掺杂元素为Mg，P型掺杂层173的掺杂浓度为1019-3×1019cm-3。进一步地，P型掺杂层173的厚度为60-100nm。本专利技术实施例通过在电子阻挡层16和P型半导体层18之间设置空穴调整层17，其中，空穴调整层17包括第一非掺杂层171和第二非掺杂层172，且第一非掺杂层171为非掺杂的GaN层、第二非掺杂层172为非掺杂的AlGaN层，从而在形成第一非掺杂层171和第二非掺杂层172时会产生二维电子气，从而提高了P型半导体层18注入量子阱发光层15的能力，提高了空穴和电子在量子阱发光层15中与电子进行辐射复合发光的概率，从而提高了发光二极管的发光效率；并且P型掺杂层173为P型InGaP层，使得在形成P型掺杂层173过程中处于富In的环境中，从而可以降低辅助P型掺杂层173中Mg的激活能，进一步提高量子阱发光层15中空穴和电子的辐射复合效率，从而提高发光二极管的发光效率。P型半导体层18，位于空穴调整层17本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种能够改善发光效率的半导体发光器件，其特征在于，包括：/n衬底层(11)；/n缓冲层(12)，位于所述衬底层(11)上；/nN型半导体层(13)，位于所述缓冲层(12)上；/nN型掺杂层(14)，位于所述N型半导体层(13)上；/n量子阱发光层(15)，位于所述N型掺杂层(14)上；/n电子阻挡层(16)，位于所述量子阱发光层(15)上；/n空穴调整层(17)，位于所述电子阻挡层(16)上，所述空穴调整层(17)包括依次层叠于电子阻挡层(16)上的第一非掺杂层(171)、第二非掺杂层(172)和P型掺杂层(173)；/nP型半导体层(18)，位于所述空穴调整层(17)上。/n

【技术特征摘要】
1.一种能够改善发光效率的半导体发光器件，其特征在于，包括：
衬底层(11)；
缓冲层(12)，位于所述衬底层(11)上；
N型半导体层(13)，位于所述缓冲层(12)上；
N型掺杂层(14)，位于所述N型半导体层(13)上；
量子阱发光层(15)，位于所述N型掺杂层(14)上；
电子阻挡层(16)，位于所述量子阱发光层(15)上；
空穴调整层(17)，位于所述电子阻挡层(16)上，所述空穴调整层(17)包括依次层叠于电子阻挡层(16)上的第一非掺杂层(171)、第二非掺杂层(172)和P型掺杂层(173)；
P型半导体层(18)，位于所述空穴调整层(17)上。


2.根据权利要求1所述的半导体发光器件，其特征在于，所述第一非掺杂层(171)为非掺杂的GaN层。


3.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：李建华，李全杰，刘向英，
申请(专利权)人：西安智盛锐芯半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：陕西;61