【技术实现步骤摘要】
半导体封装件本申请要求于2018年11月13日在韩国知识产权局提交的第10-2018-0139087号韩国专利申请的优先权的权益,所述韩国专利申请的公开内容通过引用被全部包含于此。
本公开涉及一种半导体封装件,例如,涉及一种扇出型半导体封装件。
技术介绍
随着电子装置变得更小并且其性能变得更高,组件之间的距离变得更近并且操作速度大大增加。结果,由于组件之间的电磁波干扰导致的装置故障的问题一直是个问题。最近,对电磁屏蔽技术的兴趣不断增长。在智能手机的情况下,电磁屏蔽技术仅应用于一些芯片(诸如初始通信芯片),然而,最近,电磁屏蔽技术的应用已经扩展到AP、RF芯片等。主要使用金属罐结构或诸如溅射的沉积方法作为电磁波屏蔽技术。当使用诸如溅射的沉积方法时,由于在分割半导体封装件之后根据EMI屏蔽层的形成,甚至在封装件的下表面上形成溅射层,因此会出现诸如外观缺陷、焊料球、电短路等的缺陷,并且EMI屏蔽特性会劣化。
技术实现思路
本公开的一方面在于提供一种显著减少缺陷发生并改善屏蔽性能的半导体封装件。根据本公开的一个方面,在半导体封装件中,连接结构以多级的形式形成,并且EMI屏蔽层形成为不延伸到下端部。例如,一种半导体封装件可包括:半导体芯片,具有其上设置有连接垫的有效表面以及与有效表面相对的无效表面;第一包封剂,覆盖半导体芯片的无效表面和侧表面中的每个的至少一部分;连接结构,具有顺序地设置在半导体芯片的有效表面上的第一区域和第二区域并包括重新分布层,重新分布层电连接到半导体芯片 ...
【技术保护点】
1.一种半导体封装件,所述半导体封装件包括:/n半导体芯片,具有其上设置有连接垫的有效表面以及与所述有效表面相对的无效表面;/n第一包封剂,覆盖所述半导体芯片的所述无效表面和侧表面中的每个的至少一部分;/n连接结构,具有顺序地设置在所述半导体芯片的所述有效表面上的第一区域和第二区域并包括重新分布层,所述重新分布层电连接到所述半导体芯片的所述连接垫并包括接地图案层;以及/n金属层,设置在所述第一包封剂的上表面上,并从所述第一包封剂的所述上表面延伸到所述连接结构的所述第一区域的侧表面,/n其中,所述连接结构的所述第一区域具有第一宽度,并且所述第二区域具有小于所述第一宽度的第二宽度。/n
【技术特征摘要】
20181113 KR 10-2018-01390871.一种半导体封装件,所述半导体封装件包括:
半导体芯片,具有其上设置有连接垫的有效表面以及与所述有效表面相对的无效表面;
第一包封剂,覆盖所述半导体芯片的所述无效表面和侧表面中的每个的至少一部分;
连接结构,具有顺序地设置在所述半导体芯片的所述有效表面上的第一区域和第二区域并包括重新分布层,所述重新分布层电连接到所述半导体芯片的所述连接垫并包括接地图案层;以及
金属层,设置在所述第一包封剂的上表面上,并从所述第一包封剂的所述上表面延伸到所述连接结构的所述第一区域的侧表面,
其中,所述连接结构的所述第一区域具有第一宽度,并且所述第二区域具有小于所述第一宽度的第二宽度。
2.根据权利要求1所述的半导体封装件,所述半导体封装件包括台阶,所述台阶形成在所述连接结构的所述第一区域和所述第二区域之间的边界处。
3.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,所述连接结构的所述接地图案层设置在所述第一区域中,并且连接到所述金属层。
4.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,所述连接结构的所述第二区域具有倾斜的侧表面,以远离所述第一区域而变窄。
5.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,所述第一包封剂和所述连接结构的所述第一区域中的每个具有倾斜的侧表面,所述倾斜的侧表面朝向所述第二区域变宽。
6.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,所述金属层使所述连接结构的所述第二区域暴露。
7.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,所述连接结构的所述第一区域和所述第二区域分别包括绝缘层,并且
所述第一区域的所述绝缘层覆盖所述重新分布层。
8.根据权利要求7所述的半导体封装件,其中,所述第一区域的所述绝缘层的一部分从所述连接结构的所述第一区域和所述第二区域之间的下表面暴露。
9.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,所述第一区域和所述第二区域中的一个包括所述重新分布层,并且所述第一区域和所述第二区域中的另一个包括另外的重新分布层。
10.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,所述连接结构的所述第二区域包括钝化层,所述钝化层具有使所述连接结构的最下面的重新分布层的部分暴露的开口。
11.根据权利要求1所述的半导体...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴东俊,李硕浩,姜周锡,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国;KR
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