一种晶圆背面洁净的载台制造技术

本实用新型专利技术提供一种晶圆背面洁净的载台，包括载台、清洁机构和盖子，载台包括放置腔和清洁腔，放置腔与清洁腔之间设置有清洗通孔，放置腔远离清洁腔的载台侧壁设置有开口，盖子可密封或分离设置在开口上。通过载台的开口，将晶圆置于放置腔内，并且晶圆的背面朝向清洁腔，继而再使用盖子将开口封闭。此时，驱动清洁机构对晶圆的背面进行清洁，有效的避免的人工手动擦洗晶圆的背面，防止晶圆二次污染的问题，同时晶面圆背擦拭过程中无需用手触碰，因此避免了人为因素造成晶圆损坏的问题。

A carrier with clean back of wafer

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆背面洁净的载台
本技术涉及晶圆辅助设备领域，尤其涉及一种晶圆背面洁净的载台。
技术介绍
对于型号为OMEGAFXP蚀刻机台，其在蚀刻过程中利用Helium(氦气)进行BACKSIDEHELIUMCOOLING(借由氦气良好的热传导特性)。该过程对晶圆背部(蓝宝石一面)的洁净程度有较高要求。现行处理方式是，将晶圆反面放置在晶圆载台上，用沾有IPA(异丙胺：Isopropylamine)的无尘布对晶圆背部进行擦拭，然而手动擦拭不仅会使得晶圆背部易造成二次污染，而且还具有人为因素损坏晶圆的风险。
技术实现思路
为此，需要提供一种晶圆背面洁净的载台，解决采用人工的方式对晶圆背面清洁，容易导致晶圆破片以及二次污染的问题。为实现上述目的，专利技术人提供了一种晶圆背面洁净的载台，包括载台、清洁机构和盖子；所述载台包括放置腔和清洁腔，所述放置腔与清洁腔之间设置有清洗通孔，所述放置腔远离清洁腔的载台侧壁设置有开口，所述盖子可密封或分离设置在开口上；所述清洁机构设置在清洁腔内，所述清洁机构用于通过清洗通孔清洁置于放置腔内的晶圆背面。进一步地，所述清洁腔的相对两侧壁上设置有滑槽孔。进一步地，所述清洁机构包括导杆，所述导杆的两端各设置有一个导轮，所述导轮设置在滑槽孔内。进一步地，所述清洁机构还包括清洁体，所述清洁体套设在导杆上，且所述清洁体位于两个导轮之间。进一步地，所述清洁体为海绵体或棉布。区别于现有技术，上述技术方案通过载台的开口，将晶圆置于放置腔内，并且晶圆的背面朝向清洁腔，继而再使用盖子将开口封闭。此时，驱动清洁机构对晶圆的背面进行清洁，有效的避免的人工手动擦洗晶圆的背面，防止晶圆二次污染的问题，同时晶面圆背擦拭过程中无需用手触碰，因此避免了人为因素造成晶圆损坏的问题。附图说明图1为具体实施方式所述的晶圆背面洁净的载台的示意图；图2为具体实施方式所述的晶圆背面洁净的载台的爆炸图；图3为具体实施方式所述的晶圆背面洁净的载台的剖视图；附图标记说明：10、载台；11、放置腔；12、清洁腔；111、清洗通孔；112、开口；121、滑槽孔；20、清洁机构；21、导杆；22、清洁体；211、导轮；30、盖子；具体实施方式为详细说明技术方案的
技术实现思路
、构造特征、所实现目的及效果，以下结合具体实施例并配合附图详予说明。请参阅图1、图2和图3，本实施例提供一种晶圆背面洁净的载台，包括载台10、清洁机构20和盖子30；载台包括放置腔11和清洁腔12，放置腔与清洁腔之间设置有清洗通孔111，放置腔远离清洁腔的载台侧壁设置有开口112，盖子可密封或分离设置在开口上；清洁机构设置在清洁腔内，清洁机构用于清洁置于放置腔内的晶圆背面。本实施例中通过载台的开口，将晶圆置于放置腔内，并且晶圆的背面朝向清洁腔，继而再使用盖子将开口封闭。对于盖子还起到将晶圆顶压在放置腔和清洁腔之间的层板上，而清洗通孔则开设在该层板上。为了达到完全清洁的效果，层板只对晶圆的边缘进行支撑，因此不会影响对晶圆背面的清洁。在放置好晶圆后，驱动清洁机构对晶圆的背面进行清洁，通过清洁机构清洁晶圆背面，有效的避免的人工手动擦洗晶圆的背面，防止晶圆二次污染的问题，同时晶面圆背擦拭过程中无需用手触碰，因此避免了人为因素造成晶圆损坏的问题。本实施例中在清洁腔的相对两侧壁上设置有滑槽孔121。清洁机构包括导杆21和清洁体22，导杆的两端各设置有一个导轮211，清洁体套设在导杆上，且清洁体位于两个导轮之间。将两个导轮分别可滑动的安装在滑槽孔内，使得推动导杆时，两个导轮可以同时在载台两侧的滑槽孔内滑动。继而使得清洁体跟随导杆进行转动，通过转动的清洁体对晶圆的背面进行清洁，达到滚动擦洗的效果，避免了手工擦洗的问题。本实施例中清洁体为海绵体或棉布等等。通过海绵体或棉布可以吸收清洗的液体，进而提高清洗的效果，而更换时通过取出导杆，即可达到将清洁体拆分出，进而更换新的清洁体进行清洗。同时在导杆上可以采用手动推动导杆的方式，也可以在导杆上连接一个气缸进行推动，提高清洁的效率和实用性。需要说明的是，尽管在本文中已经对上述各实施例进行了描述，但并非因此限制本技术的专利保护范围。因此，基于本技术的创新理念，对本文所述实施例进行的变更和修改，或利用本技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，直接或间接地将以上技术方案运用在其他相关的
，均包括在本技术专利的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶圆背面洁净的载台，其特征在于：包括载台、清洁机构和盖子；/n所述载台包括放置腔和清洁腔，所述放置腔与清洁腔之间设置有清洗通孔，所述放置腔远离清洁腔的载台侧壁设置有开口，所述盖子可密封或分离设置在开口上；/n所述清洁机构设置在清洁腔内，所述清洁机构用于通过清洗通孔清洁置于放置腔内的晶圆背面。/n

【技术特征摘要】
1.一种晶圆背面洁净的载台，其特征在于：包括载台、清洁机构和盖子；
所述载台包括放置腔和清洁腔，所述放置腔与清洁腔之间设置有清洗通孔，所述放置腔远离清洁腔的载台侧壁设置有开口，所述盖子可密封或分离设置在开口上；
所述清洁机构设置在清洁腔内，所述清洁机构用于通过清洗通孔清洁置于放置腔内的晶圆背面。


2.根据权利要求1所述的一种晶圆背面洁净的载台，其特征在于：所述清洁腔的相对两侧壁上设置有滑槽孔。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：翁智杰，林茂春，黄建顺，
申请(专利权)人：福建省福联集成电路有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35