本发明公开了一种MIM电容结构及其制作方法，包括在一半导体基板上依次沉积下极板金属层、电容介质层、上极板金属层、保护层和聚合物层；在聚合物层上采用一个具有多个连接孔的光罩，进行光阻涂布、曝光和显影得到孔洞图形后，再采用RIE工艺对保护层...

本发明提供的一种改善砷化镓通孔蚀刻工艺中崩边的方法，包括以下步骤：S1、在已完成正面工艺的晶背的表面溅镀金属层；S2、在金属层上附着第一光阻层，经对准显影，去除待蚀刻通孔处的第一光阻层；S3、对待蚀刻通孔处的金属层进行蚀刻；S4、进行I...

本发明提供的一种改善砷化镓通孔蚀刻工艺中崩边的方法，包括以下步骤：S1、在已完成正面工艺的晶背的表面溅镀金属层；S2、在金属层上附着第一光阻层，经对准显影，去除待蚀刻通孔处的第一光阻层；S3、对待蚀刻通孔处的金属层进行蚀刻；S4、进行I...

本发明公开了一种WAT数据处理成map的方法及终端，捞取WAT数据的数据源；采用Excel对数据源进行分列处理得到包含坐标列和数据列的分列处理数据；根据分列处理数据坐标列提取各数据的坐标值，以及坐标X轴和Y轴的最大值和最小值，根据坐标X...

本发明公开一种WAT数据处理成列的方法及终端，将item数据复制至excel中设定数字粘贴区域；获取数据粘贴区域各单元格的坐标作为第一表列，获取数字粘贴区域的各单元格的数据作为第二表列，创建与第一表列和第二表列对应的第三表列，判断第二表...

本发明公开了一种半导体器件介质层蚀刻方法，包括在砷化镓衬底上方依次沉积一层第一金属层和氮化硅层；在氮化硅层上依次涂布一层聚酰亚胺层和光阻层；对光阻层进行对准显影，形成光阻弧形轮廓，然后对聚酰亚胺层进行氧电浆蚀刻，形成聚酰亚胺弧形轮廓；采...

本发明公开了一种垂直电感制程方法，包括进行正面金属导线制程，在晶圆衬底层的正面沉积一层氮化硅层后涂布第一光刻胶层并依次进行第一次对准显影和第一次蚀刻，然后进行正面金属层蒸镀，得到两条正面金属导线；进行背面蚀刻孔制程，在晶圆衬底层的背面涂...

本发明公开了一种用于短距离无线通信的高线性宽带功率放大器，采用两级预失真以及负反馈技术提高线性化性能，通过优化两级有源偏置电路以及第一级负反馈网络，来改善整体功率放大器的AM

本发明公开了一种化学电解回收黄金的设备，设备包括槽体；槽体内通过隔板形成预加热槽与电解槽，预加热槽内设有若干个预加热管；槽体上连接有进水管，槽体上连接有出水管；阳极板与阴极板交错插设于电解槽内，且阳极板和阴极板均与隔板相互平行设置；电解...

本发明公开一种用于集成电路的电感结构及制作方法，其中方法包括步骤：在半导体器件上制作绝缘区域；在绝缘区域的一面制作第一金属层，所述第一金属层包括两个以上的第一金属区；在绝缘区域的另一面正对于第一金属区的位置制作贯穿绝缘区域的通孔，通孔的...

本实用新型涉及了一种清洗晶圆的装置，包括槽体以及设置于槽体内的喷淋组件、电磁筛与加热管，所述电磁筛设置于喷淋组件的下方，所述加热管固定于槽体内壁上；所述喷淋组件包括喷淋组件本体，所述喷淋组件本体上设置有动力元件、行走部件、旋转载台以及若...

本实用新型公布了一种检测半导体设备的装置，包括：制程腔、颗粒检测室、颗粒检测装置、气体输送器和抽气泵，所述制程腔与所述颗粒检测室通过第一管道连接，所述第一管道上设置有阀门，所述颗粒检测室与所述颗粒检测装置通过第二管道连接，所述颗粒检测室...

本实用新型提供一种滤芯更换装置，包括外壳、承载台和升降机构，升降机构包括升降杆和驱动单元，外壳的一侧设置有开口，开口相对的壳体另一侧壁上设置有通孔。壳体的开口可以和滤芯的壳体相连接，并预先将滤芯放置在承载台上，通过升降机构的驱动单元，驱...

本实用新型公开一种蚀刻与甩干一体式机台以及甩干机构，通过动力机构、控制机构、导轨、固定架的相互配合实现晶圆的甩干。首先位于甩干机构底部的导轨将从固定架内伸出，用于晶舟的放置。随后经所导轨将带晶舟一同移动至所述固定架中，随后通过动力机构工...

本实用新型公开了一种晶舟倾斜定点自动感应装置，包括载台、传感器和镜面反射点，所述载台用于承载所述晶舟，所述传感器可拆卸设置在所述载台上，所述传感器包括光源发射端和光源接收端，所述镜面反射点包括第一镜面反射点，所述晶舟设置有所述第一镜面反...

本实用新型公开了一种湿法蚀刻机台，所述湿法蚀刻机台为密闭的腔室，包括载入端结构；所述载入端结构包括第一感应门、载入端、第一传导机构和传感器，所述湿法蚀刻机台的一侧设置有所述第一感应门，所述载入端位于所述湿法蚀刻机台内，所述第一传导机构的...

本实用新型公开了一种晶圆检视治具，包括载片盘和扩张承载装置；所述载片盘用于承载晶圆，所述扩张承载装置包括伸缩机构和承载机构，所述伸缩机构的一端可移动连接于所述载片盘，所述伸缩机构的另一端固定连接于所述承载机构，所述承载机构的顶端高于所述...

本发明公开一种蚀刻与甩干一体式机台以及甩干机构，通过动力机构、控制机构、导轨、固定架的相互配合实现晶圆的甩干。首先位于甩干机构底部的导轨将从固定架内伸出，用于晶舟的放置。随后经所导轨将带晶舟一同移动至所述固定架中，随后通过动力机构工作，...

本实用新型提供一种新型过滤装置，包括壳体和滤芯，壳体包括进液外壳和出液外壳，进液外壳的一端面设置有进液口，出液外壳的一端面设置有出液口，滤芯的一侧面上设置有过滤孔，与滤芯一侧面相对的另一侧面上设置有滤芯导管。将滤芯装夹于进液外壳的第一容...

本实用新型提供一种用于检测晶舟放置到位的装置，包括载台，所述载台上设有供晶舟H型凸条移动的轨道，载台上设置第一转动轴和第二转动轴，第一转动轴和第二转动轴平行设置，第一转动轴和第二转动轴所在平面与载台平面平行，第一转动轴上转动设置有第一定...