一种蚀刻与甩干一体式机台以及甩干机构制造技术

本发明专利技术公开一种蚀刻与甩干一体式机台以及甩干机构，通过动力机构、控制机构、导轨、固定架的相互配合实现晶圆的甩干。首先位于甩干机构底部的导轨将从固定架内伸出，用于晶舟的放置。随后经所导轨将带晶舟一同移动至所述固定架中，随后通过动力机构工作，所述控制机构、导轨、固定架以及位于所述固定架内的晶舟将一同转动，甩干晶圆上残留的液体。通过动力机构、控制机构、导轨、固定架的相互配合将大幅提升晶圆的甩干效率，同时导轨的可伸缩设置将提高晶舟的运输效率。

An integrated etching and drying machine and drying mechanism

【技术实现步骤摘要】
一种蚀刻与甩干一体式机台以及甩干机构
本专利技术涉及晶圆加工设备领域，尤其涉及一种蚀刻与甩干一体式机台以及甩干机构。
技术介绍
湿蚀刻是利用化学药液腐蚀去除材质上未被光阻覆盖的部分，从而达到蚀刻出我们所需要的深度和图形。而在这个蚀刻步骤中，如何把药液从晶圆上去除甩干也是其中重要的步骤。现有的去除晶圆上的药液和甩干步骤是：当晶舟从化学药液槽里蚀刻完后，机械手臂抓晶舟到输出端，然后由操作人员开启机台门，拿取到甩干机中去甩干和清洁。在实现本专利技术的过程中，专利技术人发现现有技术中存在如下问题：若操作人员不在场，晶圆无法及时清洁甩干。操作人员手拿湿晶舟，一方面晶舟由于湿润比较滑，容易引发破片事故；另一方面，操作人员直接用手拿晶舟，可能表面还存在一些化学药液等，对于人员的人身安全存在危险。同时操作需要的时间较长，效率较低。
技术实现思路
为此，需要提供一种蚀刻与甩干一体式机台以及甩干机构，以避免人工抓取晶舟时，晶圆破片以及化学药液伤害人体等状况的发生；同时提高制程效率。为实现上述目的，专利技术人提供了一种甩干机构，包括：动力本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种甩干机构，其特征在于，包括：动力机构、控制机构、导轨、固定架；/n所述动力机构与所述控制机构相连接，用于提供动力；/n所述固定架设置于所述所述控制机构一侧，用于固定晶舟的位置，且所述固定架上还设置有用于容置晶舟的孔洞；所述导轨可伸缩设置于控制机构一侧，并与所述固定架滑动连接，用于晶舟的放置。/n

【技术特征摘要】
1.一种甩干机构，其特征在于，包括：动力机构、控制机构、导轨、固定架；
所述动力机构与所述控制机构相连接，用于提供动力；
所述固定架设置于所述所述控制机构一侧，用于固定晶舟的位置，且所述固定架上还设置有用于容置晶舟的孔洞；所述导轨可伸缩设置于控制机构一侧，并与所述固定架滑动连接，用于晶舟的放置。


2.根据权利要求1所述一种甩干机构，其特征在于，还包括：手臂杆，
所述手臂杆可伸缩、可旋转的设置于所述控制机构上；且所述手臂杆远离所述控制机构的一端上还设置有卡板，并用于固定晶舟。


3.根据权利要求2所述一种甩干机构，其特征在于，所述手臂杆还包括：软胶片，所述软胶片用于贴合、抓牢晶舟。


4.根据权利要求1所述一种甩干机构，其特征在于，所述导轨为两根导轨杆，两根导轨杆的间距为晶舟底部支撑部之间的间距，且所述导轨杆分别用于容置晶舟底部的两个支撑部。


5.根据权利要求1所述一种甩干机构，其特征在于，还包括：第一传感器；所述第一传感器设置于所述一种甩干机构靠近固定架的一侧，用于感应晶舟的位置信号，且当所述导轨伸出时，位于所述第一传感器上方。


6.根据权利要求1所述一种甩干机构，其特征在于，还包括：第二传感器；所述第二传感器设置于所述导轨上，用于感应晶舟的位置信号。


7.根据权利要求5所述一种甩干机构，其特征在于，还包括：甩干机门；所述甩干机门可升降的设置在所述固...

【专利技术属性】
技术研发人员：温春兰，吴海达，
申请(专利权)人：福建省福联集成电路有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35