基板处理装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置及方法。基板处理装置包括：工艺模块，执行对基板的工艺处理；索引模块，将基板插入至所述工艺模块，并从所述工艺模块抽出完成工艺处理的基板；装载模块，将环境转换为真空环境或常压环境，将基板在真空环境的所述工艺模块与常压环境的所述索引模块之间中转；及控制模块，从所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块接收运行状态，并参照所接收的运行状态，而按单位时间内完成工艺处理的基板数量增加的方向调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作。

Substrate treatment device and method

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置及方法
本专利技术涉及一种基板处理装置及方法。
技术介绍
在制造半导体设备或显示设备时，实施照相、蚀刻、刻板、离子注入、薄膜层积、清洗等各种工艺。在此，照相工艺包括涂抹、曝光及显像工艺。在基板上涂抹涂渍溶液(即，涂抹工艺)，在形成有感光膜的基板上曝光电路图案(即，曝光工艺)，有选择地显像基板的曝光处理的区域(即，显像工艺)。在一个工艺设备执行各种工艺。为此，相应设备具有执行相互不同的工艺的多个工艺模块。从设备抽出完成工艺的基板而以容纳至输送装置的状态被移动至其它工艺设备。专利技术的内容专利技术要解决的技术问题本专利技术要解决的技术问题为提供一种基板处理装置及方法。本专利技术的课题并非通过上述言及的课题限定，未言及的或其它课题通过下面记载而使本领域技术人员明确理解。用于解决问题的技术方案用于实现所述课题的本专利技术的基板处理装置的一方面(aspect)包括：工艺模块，执行对基板的工艺处理；索引模块，将基板插入至所述工艺模块，并从所述工艺模块抽出完成工艺处理的基板；装载模块，将环境转换为真空环境或常压环境，将基板在真空环境的所述工艺模块与常压环境的所述索引模块之间中转；及控制模块，从所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块接收运行状态，并参照所接收的运行状态，按单位时间内完成工艺处理的基板数量增加的方向调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作。所述运行状态包括如下状态中至少一个，其为：设置于所述工艺模块的至少一个工艺单元的主处理(mainprocess)状态或后期处理(postprocess)状态；设置于所述工艺模块的移送机器人的至少一个移送臂的基板移送状态；设置于所述索引模块的索引机器人的至少一个索引臂的基板移送状态；及设置于所述装载模块的负载锁定室及卸载锁定室的排气状态或吸气状态。所述控制模块按减少设置于所述工艺模块的至少一个工艺单元的停机(idle)时间、设置于所述工艺模块的移送机器人的停机时间及设置于所述索引模块的索引机器人的停机时间的方向调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作。所述控制模块参照所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的环境信息而调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作。所述环境信息包括如下所述中至少一个，其为：设置于所述工艺模块的至少一个工艺单元的主处理(mainprocess)时间及后期处理(postprocess)时间；设置于所述工艺模块的移送机器人而可用的移送臂的数量；设置于所述索引模块的索引机器人而可用的索引臂的数量；及设置于所述装载模块的负载锁定室及卸载锁定室的排气时间及吸气时间。所述控制模块生成用于调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作的设备控制信息而发送。所述设备控制信息包括用于控制各个设置于所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的设备的至少一个设备控制要素。所述设备控制要素包括如下所述中至少一个，其为：被收纳于所述索引模块的输送装置的基板用于工艺处理而被抽出的时刻；基板由所述装载模块的负载锁定室移送至所述工艺模块的时刻；基板由所述装载模块的卸载锁定室移送至所述索引模块的时刻；及对于在所述装载模块的负载锁定室中工艺之前的基板与工艺之后的基板共存的情况的处理优先顺序。所述控制模块通过机器学习(machinelearning)技术学习被调度的所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的运行状态，从而，重新调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作。所述机器学习技术包括强化学习(reinforcementlearning)。所述控制模块包括：接收部，由所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块接收运行状态；调度部，生成用于调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作的设备控制信息；及发送部，将所述设备控制信息发送至所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块。用于实现所述课题的本专利技术的基板处理方法的一方面涉及一种控制基板处理装置的方法，该基板处理装置包括：工艺模块，执行对基板的工艺处理；索引模块，将基板插入至所述工艺模块，并由所述工艺模块抽出完成工艺处理的基板；及装载模块，将环境转换为真空环境或常压环境，而在真空环境的所述工艺模块与常压环境的所述索引模块之间中转基板，另外，所述控制基板处理装置的方法包括如下步骤：由所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块接收运行状态；参照所述接收的运行状态而以单位时间内完成工艺处理的基板的数量增加的方向生成用于调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作的设备控制信息；及将所述设备控制信息发送至所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块。所述运行状态包括如下状态中至少一个，其为：设置于所述工艺模块的至少一个工艺单元的主处理(mainprocess)状态或后期处理(postprocess)状态；设置于所述工艺模块的移送机器人的至少一个移送臂的基板移送状态；设置于所述索引模块的索引机器人的至少一个索引臂的基板移送状态；及设置于所述装载模块的负载锁定室及卸载锁定室的排气状态或吸气状态。生成所述设备控制信息的步骤包括如下步骤：以减少处于所述工艺模块的至少一个工艺单元的停机(idle)时间、处于所述工艺模块的移送机器人的停机时间及处于所述索引模块的索引机器人的停机时间的方向调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作。生成所述设备控制信息的步骤包括如下步骤：参照所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的环境信息而调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作。所述环境信息包括如下所示信息中的至少一个，其为：设置于所述工艺模块的至少一个工艺单元的主处理(mainprocess)时间及后期处理(postprocess)时间；设置于所述工艺模块的移送机器人而可用的移送臂的数量；设置于所述索引模块的索引机器人而可用的索引臂的数量；及设置于所述装载模块的负载锁定室及卸载锁定室的排气时间及吸气时间。所述设备控制信息包括：用于控制分别设置在所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的设备的至少一个设备控制要素。所述设备控制要素包括如下所述中至少一个，其为：用于工艺处理而抽出被收纳于所述索引模块的输送装置的基板的时刻；由所述装载模块的负载锁定室而向所述工艺模块移送基板的时刻；由所述装载模块的卸载锁定室向所述索引模块移送基板的时刻；及对于在所述装载模块的负载锁定室中工艺之前的基板与工艺之后的基板共存情况的处理优先顺序。生成所述设备控制信息的步骤包括如下步骤：通过机器学习(machinelearning)技术学习所调度的所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的运行状态；及参照所述学习结果，而重新调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作。所述机器学习技术包括强化学习(reinforcementlearning)。其它实施例的具体事项包含于具体的说明及附图中。附图标记说明图1为显示本专利技术的实施例的基板处理装置的附图；本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其特征在于，/n包括：/n工艺模块，执行对基板的工艺处理；/n索引模块，将基板插入至所述工艺模块，并从所述工艺模块抽出完成工艺处理的基板；/n装载模块，将环境转换为真空环境或常压环境，将基板在真空环境的所述工艺模块与常压环境的所述索引模块之间中转；及/n控制模块，从所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块接收运行状态，并参照所接收的运行状态，而按单位时间内完成工艺处理的基板数量增加的方向调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作。/n

【技术特征摘要】
20181212 KR 10-2018-01597961.一种基板处理装置，其特征在于，
包括：
工艺模块，执行对基板的工艺处理；
索引模块，将基板插入至所述工艺模块，并从所述工艺模块抽出完成工艺处理的基板；
装载模块，将环境转换为真空环境或常压环境，将基板在真空环境的所述工艺模块与常压环境的所述索引模块之间中转；及
控制模块，从所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块接收运行状态，并参照所接收的运行状态，而按单位时间内完成工艺处理的基板数量增加的方向调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作。


2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述运行状态包括如下状态中至少一个，其为：
设置于所述工艺模块的至少一个工艺单元的主处理状态或后期处理状态；
设置于所述工艺模块的移送机器人的至少一个移送臂的基板移送状态；
设置于所述索引模块的索引机器人的至少一个索引臂的基板移送状态；及
设置于所述装载模块的负载锁定室及卸载锁定室的排气状态或吸气状态。


3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述控制模块按减少设置于所述工艺模块的至少一个工艺单元的停机时间、设置于所述工艺模块的移送机器人的停机时间及设置于所述索引模块的索引机器人的停机时间的方向调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作。


4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述控制模块参照所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的环境信息而调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作。


5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，
所述环境信息包括如下所述信息中的至少一个，其为：
设置于所述工艺模块的至少一个工艺单元的主处理时间及后期处理时间；
设置于所述工艺模块的移送机器人而可用的移送臂的数量；
设置于所述索引模块的索引机器人而可用的索引臂的数量；及
设置于所述装载模块的负载锁定室及卸载锁定室的排气时间及吸气时间。


6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述控制模块生成并发送用于调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作的设备控制信息。


7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，
所述设备控制信息包括用于控制各个设置于所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的设备的至少一个设备控制要素。


8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，
所述设备控制要素包括如下所述要素中的至少一个，其为：
被收纳于所述索引模块的输送装置的基板用于工艺处理而被抽出的时刻；
基板由所述装载模块的负载锁定室移送至所述工艺模块的时刻；
基板由所述装载模块的卸载锁定室移送至所述索引模块的时刻；及
对于在所述装载模块的负载锁定室中工艺之前的基板与工艺之后的基板共存的情况的处理优先顺序。


9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述控制模块通过机器学习技术学习被调度的所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的运行状态，从而，重新调度所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块的动作。


10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，
所述机器学习技术包括强化学习。


11.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述控制模块包括：
接收部，由所述工艺模块、所述索引模块及所述装载模块接收运行状态；
调度部，生成用于调度所...

【专利技术属性】
技术研发人员：张富蓉，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR