The invention relates to the technical field of semiconductor splash plating machine, in particular to a semiconductor splash plating machine which is convenient for transmission, including a first box body and a second box body. The bottom of the first box body is close to the rear side and an operating platform is arranged. The right side of the operating platform is provided with a second base. The left side of the second base is close to the middle and a first base is arranged. The surface of the first base is provided with a first pushing mechanism and a second bottom A third box body is arranged near the middle of the seat surface, the front and rear sides of the third box body are provided with a first cylinder mechanism and a second cylinder mechanism symmetrically distributed, and the left side of the third box body is provided with a third cylinder mechanism. The first push mechanism and the third cylinder mechanism push the original parts from the third push port to the third box, and the second push mechanism, the first cylinder mechanism and the second cylinder mechanism push the sputtered parts from the second push port to the receiving connecting tube, so that the transmission of the semiconductor in the sputtering machine is more convenient and the sputtering of the semiconductor is improved Efficiency.
【技术实现步骤摘要】
一种便于传送的半导体溅镀机
本专利技术涉及半导体溅镀机
,具体为一种便于传送的半导体溅镀机。
技术介绍
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度,高能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,半导体的成型过程中也需要使用溅镀机进行溅射,现在的半导体溅镀机在工作过程中的放置和取出较为复杂,鉴于此,我们提出一种便于传送的半导体溅镀机。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种便于传送的半导体溅镀机,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种便于传送的半导体溅镀机,包括第一箱体和第二箱体,所述第一箱体底部靠近后侧的位置设有操作台,所述操作台的右侧设有第二底座,所述第二底座左侧靠近中间的位置设有第一底座,所述第一底座的表面设有第一推送机构,所述第二底座表面靠近中间的位置设有第三箱体,所述第三箱体的前后两侧设有对称分布的第一气缸机构和第二气缸机构,所述第三箱体的左侧设有第三气缸机构,所述第三箱体的前后两侧且位于底部边缘的位置设有对称分布的第一U形块和第二U形块,所述第三箱体的左侧且位于底部边缘的位置设有第三U形块,所述第二底座表面靠近前侧边缘的位置设有第二推送机构。作为优选,所述第三箱体顶部开设有第三窗口,所述第三箱体的右侧靠近顶部边缘处开设有第二处理端口,所述第三箱体的前后两侧且位于底部边缘的位置开设有对称分布的第一推送口和第二 ...
【技术保护点】
1.一种便于传送的半导体溅镀机,其特征在于:包括第一箱体(1)和第二箱体(2),所述第一箱体(1)底部靠近后侧的位置设有操作台(3),所述操作台(3)的右侧设有第二底座(5),所述第二底座(5)左侧靠近中间的位置设有第一底座(4),所述第一底座(4)的表面设有第一推送机构(10),所述第二底座(5)表面靠近中间的位置设有第三箱体(6),所述第三箱体(6)的前后两侧设有对称分布的第一气缸机构(7)和第二气缸机构(8),所述第三箱体(6)的左侧设有第三气缸机构(9),所述第三箱体(6)的前后两侧且位于底部边缘的位置设有对称分布的第一U形块(12)和第二U形块(13),所述第三箱体(6)的左侧且位于底部边缘的位置设有第三U形块(14),所述第二底座(5)表面靠近前侧边缘的位置设有第二推送机构(11);所述第三箱体(6)顶部开设有第三窗口(60),所述第三箱体(6)的右侧靠近顶部边缘处开设有第二处理端口(61),所述第三箱体(6)的前后两侧且位于底部边缘的位置开设有对称分布的第一推送口(62)和第二推送口(63),所述第三箱体(6)的左侧且位于底部边缘的位置开设有第三推送口(64);所述第一气 ...
【技术特征摘要】
1.一种便于传送的半导体溅镀机,其特征在于:包括第一箱体(1)和第二箱体(2),所述第一箱体(1)底部靠近后侧的位置设有操作台(3),所述操作台(3)的右侧设有第二底座(5),所述第二底座(5)左侧靠近中间的位置设有第一底座(4),所述第一底座(4)的表面设有第一推送机构(10),所述第二底座(5)表面靠近中间的位置设有第三箱体(6),所述第三箱体(6)的前后两侧设有对称分布的第一气缸机构(7)和第二气缸机构(8),所述第三箱体(6)的左侧设有第三气缸机构(9),所述第三箱体(6)的前后两侧且位于底部边缘的位置设有对称分布的第一U形块(12)和第二U形块(13),所述第三箱体(6)的左侧且位于底部边缘的位置设有第三U形块(14),所述第二底座(5)表面靠近前侧边缘的位置设有第二推送机构(11);所述第三箱体(6)顶部开设有第三窗口(60),所述第三箱体(6)的右侧靠近顶部边缘处开设有第二处理端口(61),所述第三箱体(6)的前后两侧且位于底部边缘的位置开设有对称分布的第一推送口(62)和第二推送口(63),所述第三箱体(6)的左侧且位于底部边缘的位置开设有第三推送口(64);所述第一气缸机构(7)包括气缸(70),所述气缸(70)的底部设有活塞杆(71),所述活塞杆(71)的端部设有密封块(72),所述活塞杆(71)贯穿所述第一U形块(12)且与所述密封块(72)固定连接;所述第一箱体(1)的前侧开设有第一窗口(1a),所述第二箱体(2)的顶部开设有第二窗口(20),所述第二箱体(2)的右侧开设有第一处理端口(21),所述第二箱体(2)的后侧靠近底部的位置开设有接收端口(22),所述第二箱体(2)的右侧设有接收连接管(16),所述接收连接管(16)穿过...
【专利技术属性】
技术研发人员:何於,闫文军,杜良辉,
申请(专利权)人:江苏壹度科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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