一种非接触式基片架传动磁导向装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种非接触式基片架传动磁导向装置，真空室磁导向装置安装在真空镀膜箱顶板上，装卸台磁导向装置设置在装卸台顶板上，真空室磁导向装置和装卸台磁导向装置的U型槽开口朝下设置，基片顶杆插装在U型槽内的磁导向单元之间，基片架顶杆上设置的磁铁与U型槽内的磁导向单元上磁铁磁极相对应，互为斥力，形成非接触式导向定位；基片架底部安装有圆形导杆，导杆安装在带有半圆凹槽的导轮上；导轮经真空室的磁流体或装卸台的轴承座与同步带轮同轴相连，由驱动部件通过同步带轮将动力传递给导轮，靠导轮与导杆间的摩擦力使基片架前行。本实用新型专利技术结构简单，运行平稳，导向精度高，利用磁体排斥力实现非接触式导向定位。

A non-contact magnetic guide device for substrate frame transmission

The utility model discloses a non-contact magnetic guide device for substrate frame transmission. The magnetic guide device of the vacuum chamber is installed on the top plate of the vacuum coating box, the magnetic guide device of the loading platform is arranged on the top plate of the loading platform, the U-groove opening of the magnetic guide device of the vacuum chamber and the loading platform is arranged downward, the top bar of the substrate is inserted between the magnetic guide units in the U-groove, and the top bar of the substrate frame The magnet set corresponds to the magnetic pole on the magnetic guide unit in the U-shaped groove, which is repulsive to each other to form a non-contact guide positioning; a circular guide rod is installed at the bottom of the substrate frame, and the guide rod is installed on the guide wheel with a semicircle groove; the guide wheel is coaxially connected with the synchronous belt wheel through the magnetic fluid of the vacuum chamber or the bearing seat of the loading platform, and the power is transmitted to the guide wheel by the driving part through the synchronous belt wheel The substrate frame moves forward by the friction between the guide wheel and the guide rod. The utility model has the advantages of simple structure, stable operation, high guiding accuracy, and non-contact guiding positioning by using magnet repulsion force.

【技术实现步骤摘要】
一种非接触式基片架传动磁导向装置
本技术涉及的是一种磁导向装置，具体涉及一种非接触式基片架传动磁导向装置。
技术介绍
在立式真空溅射镀膜生产线上，基片架运行普遍采用磁导向装置来实现非接触式导向定位。但往往由于U型槽的两侧壁的磁铁和基片架上的磁铁几何尺寸及磁场强度及相互位置选择不合理，不科学，造成基片架运行不平稳。在总结以往经验基础上，通过反复实验，本技术研发的非接触式基片架磁导向装置技术，结构合理，运行平稳可靠。
技术实现思路
针对现有技术上存在的不足，本技术目的是在于提供一种非接触式基片架传动磁导向装置，结构简单，运行平稳，导向精度高，利用磁体排斥力实现非接触式导向定位。为了实现上述目的，本技术是通过如下的技术方案来实现：一种非接触式基片架传动磁导向装置，包括装卸台磁导向装置和真空室磁导向装置，真空室磁导向装置安装在真空镀膜箱顶板上，装卸台磁导向装置设置在装卸台顶板上，真空室磁导向装置和装卸台磁导向装置的U型槽开口朝下设置，基片顶杆插装在U型槽内的磁导向单元之间，基片架顶杆上设置的磁铁与U型槽内的磁导向单元上磁铁磁极相对应，互为斥力，形成非接触式导向定位；基片架底部安装有圆形导杆，导杆安装在带有半圆凹槽的导轮上；导轮经真空室的磁流体或装卸台的轴承座与同步带轮同轴相连，由驱动部件通过同步带轮将动力传递给导轮，靠导轮与导杆间的摩擦力使基片架前行。作为优选，所述的真空室磁导向装置的磁导向单元包括固定圈、连接座、固定座、真空室磁导向磁铁、磁铁压条、吊筒、销轴、螺钉和磁铁座，吊筒与固定圈螺纹配合，吊筒通过销轴和螺钉固定在连接座上，连接座11设置在固定座上，固定座底部焊接有开口向下的U型槽真空室磁铁座，真空室磁铁座两内侧壁通过真空室磁铁压条固定有真空室磁导向磁铁。所述的装卸台磁导向装置的磁导向单元包括装卸台磁铁、装卸台磁铁座和装卸台磁铁压条，装卸台磁铁座为开口向下的U型槽结构，装卸台磁铁座两侧内壁通过装卸台磁铁压条固定有装卸台磁铁。所述的真空室磁铁座上开有红外线元件发射识别孔，用于接受来自基片架信号，通过PLC控制基片架的运行。本技术的有益效果：本技术应用在立式真空溅射镀膜生产线上，装卸台和真空室一样均采用基片架磁导向装置，结构简单，运行平稳，导向精度高，利用磁体排斥力实现非接触式导向定位。附图说明下面结合附图和具体实施方式来详细说明本技术；图1为本技术的安装结构示意图；图2为图1的C部放大示意图；图3为图1的D部放大示意图；图4为图1的E部放大示意图；图5为图1的F部放大示意图；图6为本技术的真空室磁导向装置的立体图；图7为图6的剖视图；图8为本技术的装卸台磁导向装置的立体图；图9为图8的剖视图；图10为本技术的真空室磁导向装置与基片架磁铁排布图；图11为本技术的装卸台磁导向装置与基片架磁铁排布图。具体实施方式为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。参照图1-图11，本具体实施方式采用以下技术方案：一种非接触式基片架传动磁导向装置，包括装卸台磁导向装置A和真空室磁导向装置B，真空室磁导向装置B安装在真空镀膜箱顶板1上，装卸台磁导向装置A设置在装卸台顶板2上，真空室磁导向装置和装卸台磁导向装置的U型槽3开口朝下设置，基片架顶杆4插装在U型槽3内的磁导向单元之间，基片架顶杆4上设置的基片架磁铁23磁铁与U型槽内的磁导向单元上磁铁磁极相对应，互为斥力，形成非接触式导向定位；基片架底部安装有圆形导杆5，导杆安装在带有半圆凹槽的导轮6上；导轮经真空室的磁流体7或装卸台的轴承座8与同步带轮9同轴相连，由驱动部件通过同步带轮将动力传递给导轮，靠导轮与导杆间的摩擦力使基片架前行。值得注意的是，所述的真空室磁导向装置的磁导向单元包括固定圈10、连接座11、固定座12、真空室磁导向磁铁13、磁铁压条14、吊筒15、销轴16、螺钉17和磁铁座18，吊筒15与固定圈10螺纹配合，吊筒15通过销轴16和螺钉17固定在连接座11上，连接座11设置在固定座12上，固定座12底部焊接有开口向下的U型槽真空室磁铁座18，真空室磁铁座18两内侧壁通过真空室磁铁压条14固定有真空室磁导向磁铁13。值得注意的是，所述的装卸台磁导向装置的磁导向单元包括装卸台磁铁19、装卸台磁铁座20和装卸台磁铁压条21，装卸台磁铁座20为开口向下的U型槽结构，装卸台磁铁座20两侧内壁通过装卸台磁铁压条21固定有装卸台磁铁19。此外，所述的真空室磁铁座18上开有红外线元件发射识别孔，用于接受来自基片架信号，通过PLC控制基片架的运行。本具体实施方式的装卸台和真空室采用基片架磁导向装置整体结构原理基本相同，但由于所处环境不一样，二者又有所区别。两者磁导向装置U型槽开口朝下，安装在真空镀膜箱或装卸台顶板上，U型槽的两侧壁上各设有多组磁导向单元；基片架顶杆上有一排磁铁，所有基片顶杆插装在U型槽内的磁导向单元之间。基片架顶杆上设置的磁铁与U型槽内的磁导向单元上磁铁磁极相对应，互为斥力，形成非接触式导向定位。基片架底部安装有圆形导杆，导杆安装在带有半圆凹槽的导轮上；导轮经(真空室)磁流体或(装卸台)轴承座与同步带轮同轴相连，由驱动部件通过同步带轮将动力传递给导轮，靠导轮与导杆间的摩擦力使基片架前行。真空室磁导向安装在真空镀膜箱腔体内，由于腔体温度变化大(大约200℃)，因为必须允分考虑到温度变化所造成的影响。真空室磁导向通过固定圈10安装在真空镀膜箱顶板上，基片架22总高约L＝2000mm，经计算，温度引起高度变化最大约为8.4mm左右，所以基片架顶部与磁导向座下表面留有较高空间；吊筒与固定圈为螺纹配合，通过旋转吊筒磁导向可在竖直方向进行调节。固定座与磁钢座焊为一体，吊筒通过销轴、连接座与固定座相连；从图7中可以看出整个磁铁座可做平动进行横向微调，尔后用螺钉紧固。这样可以防止因温度应力造成的破坏。另外在真空室磁导向的磁铁座上部开有红外线元件发射识别孔，用于接受来自基片架信号，通过PLC控制基片架的运行。装卸台磁导向因安装在腔体外，为室温。用螺钉直装卸台顶板上。真空室磁导向与基片架与装卸台磁导向与基片架磁铁排布如图10和图11所示：磁导向磁铁加高到35mm，磁场强度为1600高斯；基片架磁铁高6mm，磁场强度为1600高斯；真空室磁导向磁铁中心线与基片架磁铁中心线低8.4mm，受热后两中心线基金取齐。这种排布使基片架磁铁中心线位于磁导向磁铁磁场强度最均匀的中间段，运行平稳可靠。以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种非接触式基片架传动磁导向装置，其特征在于，包括装卸台磁导向装置(A)和真空室磁导向装置(B)，真空室磁导向装置(B)安装在真空镀膜箱顶板(1)上，装卸台磁导向装置(A)设置在装卸台顶板(2)上，真空室磁导向装置和装卸台磁导向装置的U型槽(3)开口朝下设置，基片架顶杆(4)插装在U型槽(3)内的磁导向单元之间，基片架顶杆(4)上设置的磁铁与U型槽内的磁导向单元上磁铁磁极相对应，互为斥力，形成非接触式导向定位；基片架底部安装有圆形导杆(5)，导杆安装在带有半圆凹槽的导轮(6)上；导轮经真空室的磁流体(7)或装卸台的轴承座(8)与同步带轮(9)同轴相连。/n

【技术特征摘要】
1.一种非接触式基片架传动磁导向装置，其特征在于，包括装卸台磁导向装置(A)和真空室磁导向装置(B)，真空室磁导向装置(B)安装在真空镀膜箱顶板(1)上，装卸台磁导向装置(A)设置在装卸台顶板(2)上，真空室磁导向装置和装卸台磁导向装置的U型槽(3)开口朝下设置，基片架顶杆(4)插装在U型槽(3)内的磁导向单元之间，基片架顶杆(4)上设置的磁铁与U型槽内的磁导向单元上磁铁磁极相对应，互为斥力，形成非接触式导向定位；基片架底部安装有圆形导杆(5)，导杆安装在带有半圆凹槽的导轮(6)上；导轮经真空室的磁流体(7)或装卸台的轴承座(8)与同步带轮(9)同轴相连。


2.根据权利要求1所述的一种非接触式基片架传动磁导向装置，其特征在于，所述的真空室磁导向装置的磁导向单元包括固定圈(10)、连接座(11)、固定座(12)、真空室磁导向磁铁(13)、磁铁压条(14)、吊筒(15)、销...

【专利技术属性】
技术研发人员：张俊峰，赵子东，许春立，张大剑，
申请(专利权)人：上海子创镀膜技术有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31