蒸镀装置、蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法制造方法及图纸

由实施方式公开的蒸镀装置，成为利用电磁铁(3)吸附蒸镀掩模的构造，包含控制电路(7)，其将驱动电磁铁(3)的电源电路(6)与电磁铁(3)之间连接，使向电磁铁(3)的电流的施加时由电磁铁(3)产生的磁场平缓地变化。其结果，在电磁铁(3)的电磁线圈(32)中流过的电流的变化变得平缓，抑制由电磁感应产生的影响，抑制在被蒸镀基板上形成的元件等的不良或元件特性的劣化。

Evaporation device, evaporation method and manufacturing method of organic EL display device

The evaporation device disclosed by the embodiment is a structure of using electromagnet (3) to absorb evaporation mask, including a control circuit (7), which connects the power circuit (6) driving electromagnet (3) with electromagnet (3), so that the magnetic field generated by electromagnet (3) changes smoothly when the current to electromagnet (3) is applied. As a result, the change of the current flowing through the solenoid coil 32 of the electromagnet 3 becomes gentle, the influence caused by the electromagnetic induction is suppressed, the bad or the deterioration of the component characteristics such as the components formed on the evaporated substrate is suppressed.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】蒸镀装置、蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法
本专利技术涉及一种例如对有机EL显示装置的有机层进行蒸镀的蒸镀装置、蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法。
技术介绍
例如，在制造有机EL显示装置的情况下，在支撑基板上形成TFT等开关元件，在该电极之上，有机层与每个像素对应而层叠。该有机层怕水而无法进行蚀刻。因此，有机层的层叠通过下述方式进行，即，将支撑基板(被蒸镀基板)和蒸镀掩模重叠而配置，通过蒸镀掩模的开口进行有机材料的蒸镀。并且，仅在必要的像素的电极之上层叠必要的有机材料。该被蒸镀基板和蒸镀掩模，如果不尽可能接近，则无法仅在像素的准确的区域形成有机层。如果未仅在准确的像素的区域沉积有机材料，则显示图像容易模糊。因此，使用通过对蒸镀掩模使用磁性体，在永磁铁或者电磁铁与蒸镀掩模之间夹着被蒸镀基板，从而使被蒸镀基板与蒸镀掩模紧贴的磁性夹盘(例如参照专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2008-024956号公报
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题作为蒸镀掩模，当前使用金属掩模，但近年来，为了形成更精细的开口，存在使用将由树脂薄膜形成的掩模的开口的周围由金属支撑层支撑而成的混合型的蒸镀掩模的倾向。如混合掩模这种磁性体少的蒸镀掩模，如果不是更强的磁场(磁性)，则不能进行充分的吸附。如前所述，如果吸附不充分，则被蒸镀基板与蒸镀掩模之间的紧贴性降低。为了将蒸镀掩模充分地拉向被蒸镀基板侧，需要强的磁场。如果作为磁性夹盘的磁铁而使用永磁铁，则在其磁场强的情况下，被蒸镀基板与蒸镀掩模之间的对位变得困难。另一方面，如果使用电磁铁，则由于可以在对位时不施加磁场，在对位后施加磁场，因此被蒸镀基板与蒸镀掩模之间的对位变得容易。但是，本专利技术人发现，如果使用电磁铁，在被蒸镀基板与蒸镀掩模之间的对位后施加强的磁场，则被蒸镀基板的TFT或有机材料的层叠膜等可能会产生性能不良或特性的劣化。特别地，在使用混合型的蒸镀掩模的情况下，为了进行充分的吸附，需要强的磁场。在该情况下，强的磁场充其量为2倍程度，几乎不需要大型的电磁铁。但是，即使是当前的金属掩模的情况下的电磁铁，如果电流接通时的磁束的变化非常大而电流变多，则磁束的变化变得更加显著。本专利技术人发现，因在该电流接通时产生的电磁感应，有时显著地出现在被蒸镀基板上形成的TFT的问题或有机层的劣化。本专利技术就是为了解决这种问题，其目的在于，提供一种蒸镀装置及蒸镀方法，其即使对磁性夹盘的磁铁使用电磁铁，也可以抑制在被蒸镀基板上形成的TFT等的元件的不良或劣化，进而抑制有机层的特性的劣化。本专利技术的其它目的在于，提供一种使用上述蒸镀方法，显示品质优良的有机EL显示装置的制造方法。用于解决技术问题的技术方案本专利技术的蒸镀装置，其包含：电磁铁；基板支架，其对被蒸镀基板进行保持，所述被蒸镀基板应该设置于与所述电磁铁的一个磁极相对的位置；蒸镀掩模，其设置于由所述基板支架保持的所述被蒸镀基板的未设置有所述电磁铁的面，具有磁性体；蒸镀源，其与所述蒸镀掩模相对地设置，使蒸镀材料气化或者升华；电源电路，其对所述电磁铁进行驱动；以及控制电路，其将所述电源电路与所述电磁铁之间连接，使向所述电磁铁的电流的施加时由所述电磁铁产生的磁场平缓地变化。本专利技术的一个实施方式的蒸镀方法，其包含下述工序：将电磁铁、被蒸镀基板、具有磁性体的蒸镀掩模重叠，并且，利用从电源电路向所述电磁铁的通电，使所述被蒸镀基板和所述蒸镀掩模吸附的工序；以及利用来自与所述蒸镀掩模分离而配置的蒸镀源的蒸镀材料的飞散，在所述被蒸镀基板上沉积所述蒸镀材料的工序，在所述电磁铁与所述蒸镀掩模的吸附时，使由所述电磁铁产生的磁场平缓地变化而进行向所述电磁铁的电流施加的工序。本专利技术的一个实施方式的有机EL显示装置的制造方法，其包含：在支撑基板上至少形成TFT及第一电极；通过在所述支撑基板上使用所述的蒸镀方法而对有机材料进行蒸镀，从而形成有机层的层叠膜；以及在所述层叠膜上形成第二电极。专利技术效果根据本专利技术的一个实施方式的蒸镀装置及蒸镀方法，可以抑制在被蒸镀基板上形成的TFT等的元件的不良或劣化，进而抑制有机层的特性的劣化。附图说明图1A是在本专利技术的一个实施方式的蒸镀装置中使用的控制电路的第一实施例的电路图。图1B是表示在图1A的电路中将电流接通后的磁场H的变化的图。图2A是在本专利技术的一个实施方式的蒸镀装置中使用的控制电路的第二实施例的电路图。图2B是表示在图2A的电路中将电流接通后的磁场H的变化的图。图3A是在本专利技术的一个实施方式的蒸镀装置中使用的控制电路的第三实施例的电路图。图3B是表示在图3A的电路中将电流接通后的磁场H的变化的图。图3C是表示图3A的开关电路的一个例子的图。图3D是图3A的电路的变形例，是对交流电源进行整流而使用的例子。图4A是在本专利技术的一个实施方式的蒸镀装置中使用的控制电路的第四实施例的电路图。图4B是表示在图4A的电路中将电流接通后的磁场H的变化的图。图5A是表示蒸镀装置的电磁铁与被蒸镀基板与蒸镀掩模之间的关系的图。图5B是蒸镀掩模的一个例子的放大图。图5C是示意地表示利用电磁铁产生的磁场的图。图6是表示磁束与被蒸镀基板及蒸镀掩模的间隔之间的关系的图。图7A是表示由本专利技术的有机EL显示装置的制造方法进行的蒸镀工序的图。图7B是表示利用本专利技术的有机EL显示装置的制造方法层叠有机层的状态的图。具体实施方式下面，参照附图对本专利技术的一个实施方式的蒸镀装置及蒸镀方法进行说明。本实施方式的蒸镀装置，整体的结构例在图5A中示出，其控制电路的第一实施例的电路例在图1A中示出。如图5A所示，包含：电磁铁3；基板支架29，其以设置于与电磁铁3的一个磁极相对的位置的方式，对被蒸镀基板2进行保持；具有磁性体的蒸镀掩模1，其设置于由基板支架29保持的被蒸镀基板2的未设置电磁铁3的一个面；以及蒸镀源5，其与蒸镀掩模1相对设置，使蒸镀材料气化或者升华。并且，如图1A～4A所示，包含：电源电路6，其对电磁铁3进行驱动；以及控制电路7，其与电源电路6和电磁铁3之间连接，使在向电磁铁3施加电流时由电磁铁3产生的磁场平缓地变化。在这里所谓的“平缓”，表示使电流的上升时间增大，表示通常的上升时间的100倍以上，具体地说，上升时间(从开关接通直至成为规定的电流的时间)为毫秒的数量级。在这里，本专利技术人为了得到蒸镀掩模1与被蒸镀基板2之间的紧贴性，利用图5A所示的这种结构，取代电磁铁而使用永磁铁，将该永磁铁、按压板4、被蒸镀基板2和蒸镀掩模1重叠，研究了磁束、蒸镀掩模1和被蒸镀基板2之间的间隙的关系。其结果示于图6。此外，永磁铁使用在一面产生磁场，在另一面不产生磁场(磁场为0)的片状磁铁。准备磁场不同的3片永磁铁，并更换3片永磁铁而研究了蒸镀掩模1的面的磁场与被蒸镀基板2与蒸镀掩模1之间的间隙的关系。作为蒸镀掩模1，使本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀装置，其特征在于，包含：/n电磁铁；/n基板支架，其对被蒸镀基板进行保持，所述被蒸镀基板应该设置于与所述电磁铁的一个磁极相对的位置；/n蒸镀掩模，其设置于由所述基板支架保持的所述被蒸镀基板的未设置有所述电磁铁的面，具有磁性体；/n蒸镀源，其与所述蒸镀掩模相对地设置，使蒸镀材料气化或者升华；/n电源电路，其对所述电磁铁进行驱动；以及/n控制电路，其将所述电源电路与所述电磁铁之间连接，使向所述电磁铁的电流的施加时由所述电磁铁产生的磁场平缓地变化。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种蒸镀装置，其特征在于，包含：
电磁铁；
基板支架，其对被蒸镀基板进行保持，所述被蒸镀基板应该设置于与所述电磁铁的一个磁极相对的位置；
蒸镀掩模，其设置于由所述基板支架保持的所述被蒸镀基板的未设置有所述电磁铁的面，具有磁性体；
蒸镀源，其与所述蒸镀掩模相对地设置，使蒸镀材料气化或者升华；
电源电路，其对所述电磁铁进行驱动；以及
控制电路，其将所述电源电路与所述电磁铁之间连接，使向所述电磁铁的电流的施加时由所述电磁铁产生的磁场平缓地变化。


2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，
所述控制电路包含下述电路，其将从向所述电磁铁的电磁线圈的电流的接通至在所述电磁线圈中达到规定的电流为止的上升时间，设为毫秒的数量级。


3.根据权利要求1或2所述的蒸镀装置，其特征在于，
所述控制电路是下述电路，其通过依次切换在所述电磁铁的线圈的中途形成的多个抽头与所述电源电路的连接，从而使由所述电磁铁产生的磁场平缓地变化。


4.根据权利要求1或2所述的蒸镀装置，其特征在于，
所述电源电路包含交流电源和在2次线圈上具有多个抽头的变压器，所述控制电路具有对所述2次线圈的多个抽头依次进行切换的开关电路和将该开关电路的交流输出变换为直流的整流电路，所述整流电路的输出与所述电磁铁的线圈连接。


5.根据权利要求1或2所述的蒸镀装置，其特征在于，
所述控制电路由斩波控制电路形成，
在所述斩波控制电路中，在所述电源电路的一对输出端子的第一端子与所述电磁铁的线圈的一端之间，串联连接开关电路及感应性电抗元件，在所述开关电路的与所述感应性电抗元件的连接点和所述电源电路的一对输出端子的第二端子之间，与所述电磁铁并联、且与所述电源电路的极性逆向地连接二极管。


6.根据权利要求5所述的蒸镀装置，其特征在于，
所述开关电路由从GTO闸流晶体管、IGBT、二极管、双极晶体管及场效应型晶体管选出的1个而形成。


7.根据权利要求1或2所述的蒸镀装置，其特征在于，
所述控制电路包含在所述电源电路的一对输出端子之间与所述电磁铁并联地连接的电容性电抗元件。


8.根据权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于，
所述电容性电抗元件具有至少5000μF的电容。
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【专利技术属性】
技术研发人员：岸本克彦，西田光志，
申请(专利权)人：堺显示器制品株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP