湿法处理设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种湿法处理设备，通过在向喷嘴供液的供液管道上增设一回吸管道，并在所述回吸管道上设置一回吸阀，使得在停止喷嘴喷液时，可以进一步打开回吸阀，以产生负压，使喷嘴及其附近的供液管道中残留的液体回吸，有效防止这些残留的化学液从喷嘴处滴落的可能性，进而消除因喷嘴处化学液偷滴而产生的线状缺陷，提高产品良率，改善湿法处理设备的处理效率并提升湿法处理设备的产出良率。

【技术实现步骤摘要】
湿法处理设备
本技术涉及半导体生产制造
，特别涉及一种湿法处理设备。
技术介绍
目前，随着超大规模集成电路的器件特征尺寸不断缩小，集成度不断提高，对各步工艺的控制及其工艺结果的精确度提出了更高的要求。其中，湿法刻蚀(包括湿法清洗)工艺在集成电路制造过程中主要有如下作用：其一是利用化学液(包括酸碱药液、有机溶液和去离子水)清洗晶圆，以减少晶圆的污染和缺陷；其二是各向同性地刻蚀某些特定的薄膜，以得到所需的形状。一种利用单片式湿法机台进行湿法刻蚀(包括湿法清洗)的过程包括：首先，请参考图1A，将晶圆200置于承载台100上，此时用于喷淋化学液的喷嘴102此时处于晶圆200外侧；然后，进行湿法刻蚀(包括湿法清洗)，请参考图1B，化学液103从喷嘴102喷出，晶圆200绕自身中轴线做旋转运动，且喷嘴102绕喷嘴驱动组件101转动，以在沿晶圆200表面做往复式转动，从而完成对晶圆表面的清洗均匀；之后，待湿法刻蚀(包括湿法清洗)结束时，请参考图1C，喷嘴102停止喷出化学液，并绕喷嘴驱动组件101转动到晶圆200的一侧，晶圆200继续旋转一段时间，以甩干表面上的化学液。然而，请参考图2，技术人发现，上述的单片式湿法机台产出的晶圆表面经常会出现线状缺陷(linedefect)201。请参考图1C和图2，技术人研究发现，产生该线状缺陷的原因主要是：该单片式湿法机台的喷嘴102没有回吸功能，在停止向喷嘴102供液后，由于喷嘴102的出口向下，喷嘴102及其连接的下垂的管道(未图示)中残留的化学液由于自身的重力及液体的延展性，就会顺着喷嘴102的边缘自然下滴，直到下垂管道以及喷嘴102中的化学液滴完才会停下来，这就是化学液偷滴的现象，当喷嘴102还没有完全离开晶圆表面上方时，这些偷滴出来的这些液滴103a势必会掉落在晶圆200表面上，滴落在晶圆200表面的这些液滴103a在晶圆200旋转甩干的过程中，受到离心力的作用，会沿着晶圆200表面划过且其所到之处会继续与晶圆200的表面反应，进而产生所述线状缺陷201，该线状缺陷201极有可能引起废片，降低产品良率。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种湿法处理设备，能防止喷嘴处的偷滴现象，改善湿法处理设备的处理效率并提升湿法处理设备的产出良率。为解决上述技术问题，本技术提供一种湿法处理设备，包括：喷嘴；供液管道，连通所述喷嘴；供液阀，设置在所述供液管道上；回吸管道，与所述供液管道连通；以及，回吸阀，设置在所述回吸管道上。可选地，所述回吸阀为气阀，所述气阀的气体流量为可调节的。可选地，所述的湿法处理设备还包括：用于控制所述回吸阀开关的电磁阀，所述电磁阀连接所述回吸阀。可选地，所述供液管道包括依次连接的折弯段、分流段以及进液段，所述折弯段连通所述喷嘴并具有折弯；所述供液阀设置在所述进液段和所述分流段的连接处，所述回吸管道与所述分流段连通。可选地，所述回吸管道和所述供液管道均为软管。可选地，所述折弯段的长度不小于为10mm。可选地，所述的湿法处理设备还包括供液组件，所述供液组件包括储液槽以及抽水泵，所述抽水泵设置在所述储液槽和所述供液管道之间，并将所述储液槽和所述供液管道连通；或者，所述供液组件为厂务供液系统。可选地，所述的湿法处理设备还包括：设置在所述喷嘴下方的承载台以及用于支撑所述承载台和使所述承载台旋转的承载台旋转组件，所述承载台用于承载晶圆。可选地，所述的湿法处理设备还包括：连接所述喷嘴和/或所述供液管道并带动所述喷嘴转动的喷嘴驱动组件。可选地，所述湿法处理设备为湿法清洗设备、湿法刻蚀设备或湿法电镀设备。与现有技术相比，本技术的湿法处理设备，通过在向喷嘴供液的供液管道上增设一回吸管道，并在所述回吸管道上设置一回吸阀，使得在停止喷嘴喷液时，可以进一步打开回吸阀，以产生负压，使喷嘴及其附近的供液管道中残留的液体回吸，有效防止这些残留的化学液从喷嘴处滴落的可能性，进而消除因喷嘴处化学液偷滴而产生的线状缺陷，提高产品良率，改善湿法处理设备的处理效率并提升湿法处理设备的产出良率。附图说明图1A至图1C是一种湿法刻蚀(包括湿法清洗)过程中的湿法机台上的俯视结构示意图。图2是一晶圆经湿法刻蚀(包括湿法清洗)后的表面缺陷示意图。图3是本技术一实施例的湿法处理设备的结构示意图。图4是本技术一实施例中回吸后喷嘴及其周围的情况示意图。图5是本技术另一实施例的湿法处理设备的俯视结构示意图。图6是本技术又一实施例的湿法处理设备的结构示意图。其中，附图标记如下：100、300-承载台，101、308-喷嘴驱动组件；102、302-喷嘴；103-化学液；103a-液滴；200-晶圆；201-线状缺陷；302-供液组件；303-供液管道；3031-供液管道的进液段；3032-供液管道的分流段；3033-供液管道的折弯段；304-供液阀；305-回吸管道；306-回吸阀；307-电磁阀。具体实施方式为使本技术的目的、特征更明显易懂，下面结合附图对本技术的技术方案作详细的说明，然而，本技术可以用不同的形式实现，不应只是局限在所述的实施例。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。请参考图3，本技术一实施例提供一种湿法处理设备，包括：供液组件301、喷嘴302、供液管道303、供液阀304、回吸管道305以及回吸阀306。本实施例中，所述供液组件301为厂务供液系统，在打开供液阀304后直接可以通过供液管道303向所述喷嘴302供液。在本专利技术的其他实施例中，所述供液组件301也可以是为喷嘴302特设的专用供液系统，其包括储液槽(未图示)以及抽水泵(未图示)，所述抽水泵设置在所述储液槽和所述供液管道303之间，并将所述储液槽和所述供液管道303连通。所述供液管道303包括依次连接的折弯段3033、分流段3032以及进液段3031，所述折弯段3033连通所述喷嘴302并具有折弯。所述进液段3031连通所述供液组件301的抽水泵，所述供液阀304设置在所述进液段3031和所述分流段3032的连接处，在打开时使得供液管道303向所述喷嘴302持续供液，在关闭时，使得停止供液管道303向所述喷嘴302供液。所述回吸管道305通过一个三通接口与所述分流段3032连通。优选地，所述回吸管道305和所述供液管道303为软管，一方面有利于调整管道的安装位置，另一方面有利于调整折弯段3033的长度以及弯度。所述回吸阀306设置在所述回吸管道305上，用于在供液管道303停止向所述喷嘴302供液后打开，以将喷嘴302处的液体回吸至折弯段3033中。所述折弯段3033的长度不小于10mm，以使得回吸的液体能够低于所述折弯段3033的最高点。请参考图3和4，在本实施例中，分流段3032为水平管道，所述折弯段3033为高于所述分流段3032的弧形管道，其中回吸的液体柱(未图示)相对分流段3032的高度H为25mm。所述回吸阀306和供液阀304可以为手动控制的机械阀，所述机械阀例如为常见的针型阀、截止阀、闸阀、旋塞阀、球阀或蝶阀等，也可以为自动控制的电子阀，例如为电磁阀或具有传感器的电子阀。请参考图6本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种湿法处理设备，其特征在于，包括：喷嘴；供液管道，连通所述喷嘴；供液阀，设置在所述供液管道上；回吸管道，与所述供液管道连通；以及，回吸阀，设置在所述回吸管道上。

【技术特征摘要】
1.一种湿法处理设备，其特征在于，包括：喷嘴；供液管道，连通所述喷嘴；供液阀，设置在所述供液管道上；回吸管道，与所述供液管道连通；以及，回吸阀，设置在所述回吸管道上。2.如权利要求1所述的湿法处理设备，其特征在于，所述回吸阀为气阀，所述气阀的气体流量为可调节的。3.如权利要求2所述的湿法处理设备，其特征在于，还包括：用于控制所述回吸阀开关的电磁阀，所述电磁阀连接所述回吸阀。4.如权利要求1所述的湿法处理设备，其特征在于，所述供液管道包括依次连接的折弯段、分流段以及进液段，所述折弯段连通所述喷嘴并具有折弯；所述供液阀设置在所述进液段和所述分流段的连接处，所述回吸管道与所述分流段连通。5.如权利要求4所述的湿法处理设备，其特征在于，所述回吸管道和所述供液管道为软管。6.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：王学伟，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34