掩模室和扩散板制造技术

本发明专利技术涉及一种掩模室，掩模室限定适于在掩模储存部(14)中储存至少两个掩模(22)的封闭内部(12)，掩模室包括入口(16)，净化气体能够通过入口进入封闭内部(12)，和出口(18)，净化气体能够通过出口离开封闭内部，其中，掩模室还包括布置在封闭内部中且位于入口(16)和掩模储存部(14)之间的第一扩散板(24)，其中第一扩散板(24)设置有开口(25a,25b),净化气体能够流过开口(25a,25b)，第一扩散板(24)的中心部分中的开口(25a)比第一扩散板(24)的外周部分中的开口(25b)设置有更大的单个开口面积和/或提供每单位面积上的更大的总开口面积。

Mask Chamber and Diffusion Plate

The present invention relates to a mask chamber, which is defined as a closed interior (12) suitable for storing at least two masks (22) in a mask storage unit (14). The mask chamber includes an entrance (16), a purified gas can enter a closed interior (12) through an entrance and an exit (18), and a purified gas can leave the closed interior through an exit. The mask chamber also includes an enclosed interior and an entrance (16). The first diffuser (24) between the first diffuser (24) and the mask storage unit (14) is provided with an opening (25a, 25b), in which the purified gas can flow through the opening (25a, 25b), and the opening (25a) in the central part of the first diffuser (24) has a larger single opening area and/or provides a larger total opening area per unit area than the opening (25b) in the outer part of the first diffuser (24).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】掩模室和扩散板
本专利技术涉及掩模室和适于在掩模室内部使用的扩散板。
技术介绍
在半导体技术中，掩模或光掩模用于批量生产集成电路装置。掩模是带孔的不透明板或允许光以限定的图案照射通过的透明板。众所周知的是，诸如灰尘颗粒或附着到掩模的有机材料的任何类型的污染物能够引起投影图案质量的退化。因此在绝对干净的环境里储存和操作掩模是极其重要的。已知的是将掩模储存在所谓的室储料器中，室储料器能储存几千个独立掩模。在这样的储料器之内的掩模例如储存在指定的掩模室中，掩模室设计为保持一些掩模，例如1、2、4、6、8或10个。从US8,403,143B2可知一种掩模储存室。这样的室设计成储存一个掩模。为了降低室之内的潜在污染颗粒的数量，在该文件中公开了两种方法，即，通过净化头用干净气体填充掩模室，或者通过真空泵排出室中的气体。净化有利地包括通过室的恒流干净气体，气体通过室的入口进入并通过室的出口离开。典型的净化气体是例如非常干净的干燥空气和氮气。提供这样的气体是一个成本因素，使得流过掩模室的气体量降低，同时满足有效净化，这将是有利的。在适于储存批量掩模的掩模室的情况下，这方面变得甚至更重要。在现有技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模室，所述掩模室限定适于在掩模储存部(14)中储存至少两个掩模(22)的封闭内部(12)，所述掩模室包括入口(16)和出口(18)，净化气体能够通过所述入口(16)进入所述封闭内部(12)，所述净化气体能够通过所述出口(18)离开所述封闭内部，其中，所述掩模室还包括布置在所述封闭内部中位于所述入口(16)和所述掩模储存部(14)之间的第一扩散板(24)，其中所述第一扩散板(24)设置有开口(25a,25b),所述净化气体能够流过所述开口(25a,25b)，所述第一扩散板(24)的中心部分中的所述开口(25a)比所述第一扩散板(24)的外周部分中的开口(25b)设置有更大的单个开口面积...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.08.30 EP 16186441.81.一种掩模室，所述掩模室限定适于在掩模储存部(14)中储存至少两个掩模(22)的封闭内部(12)，所述掩模室包括入口(16)和出口(18)，净化气体能够通过所述入口(16)进入所述封闭内部(12)，所述净化气体能够通过所述出口(18)离开所述封闭内部，其中，所述掩模室还包括布置在所述封闭内部中位于所述入口(16)和所述掩模储存部(14)之间的第一扩散板(24)，其中所述第一扩散板(24)设置有开口(25a,25b),所述净化气体能够流过所述开口(25a,25b)，所述第一扩散板(24)的中心部分中的所述开口(25a)比所述第一扩散板(24)的外周部分中的开口(25b)设置有更大的单个开口面积和/或提供每单位面积上的更大的总开口面积。2.根据权利要求1所述的掩模室，其中设置有布置在所述掩模储存部(14)和所述出口(18)之间的第二扩散板(26)。3.根据权利要求2所述的掩模室，其中所述第二扩散板(26)设置有开口(27a，27b)，所述净化气体能够流过所述开口(27a,27b),所述第二扩散板(26)的中心部分中的所述开口(27a)比所述第二扩散板(26)的外周部分中的开口(27b)设置有更大的单个开口面积和/或提供每单位面积上的更大的总开口面积。4.根据前述权利要求中任一项所述的掩模室，其中所述掩模储存部(14)设置为储存所述至少两个掩模，使得每个掩模基本垂直于所述第一扩散板(24)和/或所述第二扩散板(26)延伸。5.根据前述权利要求中任一项所述的掩模室，至少部...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢茨·瑞布斯道克，
申请(专利权)人：布鲁克斯自动化德国有限公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE