拼版蒸镀掩模、图案的制造方法及有机半导体元件的制作方法技术

技术编号:12814732 阅读:65 留言:0更新日期:2016-02-07 08:38
本发明专利技术提供一种即使在大型化的情况下也能够满足高精细化和轻量化二者的拼版蒸镀掩模的制造方法。配置于框体内的开口空间的多个掩模分别由设有缝隙的金属掩模、和位于该金属掩模的表面且纵横配置多列与要蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模构成,在其形成上,在所述框体上安装了各金属掩模及用于制作所述树脂掩模的树脂薄膜材料之后,通过对所述树脂薄膜材料进行加工,纵横地形成多个与要蒸镀制作的图案对应的开口部,制造上述构成的拼版蒸镀掩模。

【技术实现步骤摘要】
拼版蒸镀掩模、图案的制造方法及有机半导体元件的制作方法本申请是大日本印刷株式会社于2013年1月11日提交的名称为“拼版蒸镀掩模的制造方法及由此所得拼版蒸镀掩模以及有机半导体元件的制造方法”、申请号为201380005281.3的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及拼版蒸镀掩模的制造方法及由此所得拼版蒸镀掩模以及有机半导体元件的制造方法。
技术介绍
目前,在有机EL元件的制造中,有机EL元件的有机层或者阴极电极的形成中,例如使用由在要蒸镀的区域将多个微细缝隙以微小间隔平行排列而成的金属构成的蒸镀掩模。在使用该蒸镀掩模的情况下,在要蒸镀的基板表面载置蒸镀掩模,使用磁铁从背面进行保持,但由于缝隙的刚性极小,因此,在将蒸镀掩模保持在基板表面时,在缝隙容易产生变形,成为高精细化或者缝隙长度变大的产品的大型化的障碍。关于用于防止缝隙的变形的蒸镀掩模进行了各种研究,例如,在专利文献1提出有如下的蒸镀掩模,即,具备:具备多个开口部的兼具第一金属掩模的底板;在覆盖上述开口部的区域具备多个微细的缝隙的第二金属掩模;以在缝隙的长度方向拉伸第二金属掩模的状态而使其位于底板上的掩模拉伸保持装置。即,提出有组合两种金属掩模的蒸镀掩模。根据该蒸镀掩模,在缝隙不产生失真而能够确保缝隙精度。但是,最近,伴随使用有机EL元件的产品的大型化或者基板尺寸的大型化,对蒸镀掩模的大型化的要求也变高,由金属构成的蒸镀掩模的制造所使用的金属板也大型化。但是,在目前的金属加工技术中,难以在大型的金属板高精度地形成缝隙,即使通过上述专利文献1所提出的方法等可防止缝隙部的变形,但是不能够实现缝隙的高精细化。另外,在作为仅由金属构成的蒸镀掩模的情况下,伴随大型化,其重量也增大,包含框体在内的总质量也增大,给处理带来妨碍。另外,通常蒸镀掩模在固定于框体的状态使用,但在将蒸镀掩模大型化的情况下,也会产生不能高精度地进行框体和蒸镀掩模的对位的问题。特别是在沿框体内的纵横方向进行划分,配置多个掩模而成的拼版蒸镀掩模的情况下,若未高精度地进行各掩模和框体的对位,则在各掩模的开口图案产生偏移,因此,对位的精度问题变得显著。另外,关于拼版蒸镀掩模,在专利文献2中提出有作为框体所安装的蒸镀掩模,使用在框体开口部的长度方向沿着被分割的多个条状的单位掩模(在该单位掩模,沿其长度方向隔开规定的间隔形成有多个单位遮蔽图案),以对框架开口部的宽度方向上的框架赋予规定的拉伸力的方式将该多个单位掩模的各自的两端部固定安装的构成。根据该构成,即使拼版蒸镀掩模(框体的开口部面积)大型化,也能够抑制因由掩模的自重等造成的变形引起的各单位遮蔽图案的错位。如专利文献2那样地,通过使用多个长方形的单位掩模,确实可以一定程度地抑制框体开口部的一方向(短方向)上的错位,但若未高精度地进行分别将该条状的单位掩模安装在框体时的对位,则另一方向(长度方向)上的开口图案中偏移的问题未解除,另外,由于该长方形的单位掩模由金属板构成,因此,因由掩模的自重等造成的变形引起的各单位遮蔽图案的错位的问题、及由包含框体在内的总质量增大造成的处理的困难性的问题没有得到根本的解除。专利文献1:(日本)特开2003-332057号公报专利文献2:(日本)特开2003-217850号公报
技术实现思路
本专利技术是鉴于这样的状况而设立的,其主要课题在于提供一种即使在大型化的情况下也能够满足高精细化和轻量化二者的拼版蒸镀掩模的制造方法,另外,提供这样得到的拼版蒸镀掩模以及能够高精度制造有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法。为了解决上述课题,本专利技术第一方面提供一种拼版蒸镀掩模的制造方法,该拼版蒸镀掩模在框体内的开口空间沿其纵横方向进行划分,配置多个掩模而构成,其中,所述制造方法具有如下的工序:准备框体;在所述框体上安装多个设有缝隙的金属掩模、及位于所述多个金属掩模的表面侧的树脂薄膜材料;通过对所述树脂薄膜材料进行加工,纵横地形成多列与要蒸镀制作的图案对应的开口部,从而制作树脂掩模。在上述方面中,(1)所述框体具有将其开口空间沿纵横方向划分成多个的梁部,并且,作为所述树脂薄膜材料,能够使用多张相对于所述各金属掩模分别具有相应的尺寸的树脂薄膜材料。在该情况下,在将所述多张树脂薄膜材料分别相对于所述框体的梁部安装前后,能够在各个所述树脂薄膜材料上的规定位置分别配置金属掩模。在上述方面中,(2)树脂薄膜材料也可以为实质上覆盖所述框体内的开口空间的整个面的一片树脂薄膜材料。此时,所述多个金属掩模能够在将所述树脂薄膜材料安装在所述框体前后,分别配置在所述树脂薄膜材料上的规定位置。在上述方面中,(3)作为树脂薄膜材料,可以组合多张具有与所述框体内的开口空间的纵横方向的任一方向的尺寸对应的长度且在另一方向具有比开口空间的尺寸短的长度的树脂薄膜材料。在该情况下,所述多个金属掩模在将所述树脂薄膜材料安装在所述框体前后,能够分别配置在所述树脂薄膜材料上的规定位置。另外,在上述方面中,作为所述多个金属掩模,也能够将该多个金属掩模中的几个(2个以上)作为一体形成的金属掩模集合体部件而形成并且使用多个这样的金属掩模集合体部件。另外,在上述方面中,在所述框体内配置所述金属掩模中,其设计上的配置位置与实际的配置位置之间的缝隙的宽度方向上的最大容许误差为所述开口部的间距的0.2倍以内,缝隙的长度方向上的最大容许误差为5mm以内,进行配置作业。另外,在上述方面中,在所述框体上,能够替代安装各金属掩模及用于制作所述树脂掩模的树脂薄膜材料的工序,进行安装用于制作各金属掩模的金属板、及安装用于制作所述树脂掩模的树脂薄膜材料的工序,在框体上安装有金属板及树脂薄膜材料的状态下,对该金属板进行加工,设置仅贯通金属板的缝隙而作为金属掩模,然后,对所述树脂薄膜材料进行加工,纵横地形成多列与要蒸镀制作的图案对应的开口部。另外,在上述方面中,在加工树脂薄膜材料,纵横地形成多个与要蒸镀制作的图案对应的开口部时,准备预先设有与所述开口部对应的图案的基准板,将该基准板贴合在树脂薄膜材料的未设有金属掩模的一侧的面,经由树脂薄膜材料识别所述基准板的图案,同时,从金属掩模侧按照基准板的图案进行激光照射,在树脂薄膜材料形成开口图案。另外,为了解决上述课题,本专利技术提供一种拼版蒸镀掩模,在框体内的开口空间沿其纵横方向进行划分,配置多个掩模而构成,其中,所述各掩模由设有缝隙的金属掩模、和位于该金属掩模的表面且纵横地配置多列与要蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模构成。另外,为了解决上述课题,本专利技术提供一种有机半导体元件的制造方法,使用具有上述特征的制造方法制造的拼版蒸镀掩模。根据本专利技术的拼版蒸镀掩模的制造方法,通过将配置于框体内的多个掩模的各掩模由设有缝隙的金属掩模、和位于该金属掩模的表面且纵横地配置有多列与要蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模构成,从而能够进行轻量化,因此,即使在大型化的情况下也能够实现其轻量化。另外,由于在框体内配置了所述多个金属掩模及用于形成所本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种拼版蒸镀掩模,其在框体内的开口空间配置多个掩模而构成,其特征在于,在所述框架上安装有多张金属掩模,并且,在所述各金属掩模上分别配置有多个树脂薄膜,所述金属掩模具有与所述框架内的开口空间的纵横方向的任一方向的尺寸对应的长度,且在另一方向具有比开口空间的尺寸短的长度,所述各掩模具有:所述的设有缝隙的金属掩模、位于所述金属掩模的各缝隙内,与要蒸镀制作的图案对应的由所述树脂薄膜材料形成的开口部。

【技术特征摘要】
2012.01.12 JP 2012-0044881.一种拼版蒸镀掩模,其在框架内的开口空间配置多个掩模而构成,其特征在于,
在所述框架上安装有多张金属掩模,并且,在各个所述金属掩模上分别配置有多个树脂薄膜材料,所述金属掩模具有与所述框架内的开口空间的纵横方向的任一方向的尺寸对应的长度,且在另一方向具有比开口空间的尺寸短的长度,各个所述掩模具有:设有缝隙的所述金属掩模、位于所述金属掩模的各缝隙内,与要蒸镀制作的图案对应的形成于所述树脂薄膜材料的开口部,
各个所述缝隙与多个所述开口部重合。


2.如权利要求1所述的拼版蒸镀掩模,其特征在于,
所述缝隙的截面形状朝向蒸镀源方向扩展。


3.如权利要求1所述的拼版蒸镀掩模,其特征在于,
所述开口部的截面形状朝向蒸镀源方向扩展。


4.如权利要求1所述的拼版蒸镀掩模,其特征在于,
所述缝隙的截面形状朝向蒸镀源方向扩展,并且所述开口部的截面形状朝向蒸镀源方向扩展。


5.如权利要求1所述的拼版蒸镀掩模,其特征在于,
在从横截面观察以所述树脂薄膜材料为下、所述金属掩模为上的方式配置的所述掩模时,由将所述金属掩模的所述缝隙的下底前端与上底前端连接的直线、和所述金属掩模的下底的直线构成的角度为25°以上且65°以下。


6.如权利要求1所述的拼版蒸镀掩模,其特征在于,
在从横截面观察以所述树脂薄膜材料为下、所述金属掩模为上的方式配置的所述掩模时,由将所述树脂薄膜材料的所述开口部的下底前端与上底前端连接的直线、和所述树脂薄膜材料的下底的直线构成的角度...

【专利技术属性】
技术研发人员:广部吉纪松元丰牛草昌人武田利彦小幡胜也西村佑行
申请(专利权)人:大日本印刷株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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