金属掩模制造方法技术

技术编号:15031266 阅读:144 留言:0更新日期:2017-04-05 08:22
本发明专利技术提供一种金属掩模制造方法,容易制造高精细度的金属掩模。该方法是将薄膜金属片(8)激光焊接于掩模框架(4)而制造金属掩模(2)的金属掩模制造方法,包括:第一载置工序,将厚度比所述薄膜金属片厚、且厚度为所述薄膜金属片的厚度的5倍以下的中间金属片(6)载置于所述掩模框架;第一焊接工序,将载置于所述掩模框架的所述中间金属片激光焊接于所述掩模框架;第二载置工序,在载置于所述掩模框架的所述中间金属片的上方载置所述薄膜金属片;及第二焊接工序,将载置于所述中间金属片的所述薄膜金属片激光焊接于所述中间金属片。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及将金属片激光焊接于掩模框架而制造金属掩模的金属掩模制造方法。
技术介绍
一直以来,作为在制造有机EL平板显示器等时在蒸镀工序中使用的金属掩模的制造方法,已知将金属片载置于掩模框架,从其上表面进行焊接从而将金属片焊接于掩模框架的规定的固定位置,而完成金属掩模的方法(例如参照专利文献1)。【在先技术文献】【专利文献】【专利文献1】日本特开2005-005070号公报
技术实现思路
不过,近年来,伴随着有机EL平板显示器等的高精细化,金属片的薄膜化正在发展。在金属片薄膜化的情况下,金属片与掩模框架的传热量之差增大,因此产生难以将金属片焊接于掩模框架的问题。例如,如图10所示,设向载置于掩模框架40的薄膜金属片80照射焊接用的激光140。该情况下,与薄膜金属片80相比掩模框架40的传热量极小,因此在掩模框架40达到熔点之前薄膜金属片80达到熔点,成为在照射有激光140的位置开出孔的状态。因此,不能与薄膜金属片80熔化的时机一致而使掩模框架40熔化,不能使薄膜金属片80焊接于掩模框架40。另外,为了避免在掩模框架40熔化之前在薄膜金属片80的照射有激光140的位置开出孔,也可以考虑降低激光140的热量,但该情况下,更难以使掩模框架40熔化。因此,在该情况下,也不能与薄膜金属片80熔化的时机一致而使掩模框架40熔化,不能使薄膜金属片80焊接于掩模框架40。这样,在上述的方法中,存在不能精确地使薄膜的金属片焊接于掩模框架,而不能容易地制造高精细度的金属掩模的问题。另外,除了上述的方法以外,还存在利用焊接嘴按压金属片由此在使掩模框架与金属片之间的间隙量为0的状态下进行焊接的焊接方法,但若利用焊接嘴按压金属片则金属片的位置偏移,难以制造高精细度的金属掩模。本专利技术的目的在于提供能够容易地制造高精细度的金属掩模的金属掩模制造方法。本专利技术的金属掩模制造方法是将薄膜金属片激光焊接于掩模框架而制造金属掩模的金属掩模制造方法,其特征在于,包括:第一载置工序,将厚度比所述薄膜金属片厚、且厚度为所述薄膜金属片的厚度的5倍以下的的中间金属片载置于所述掩模框架;第一焊接工序,将载置于所述掩模框架的所述中间金属片激光焊接于所述掩模框架;第二载置工序,在载置于所述掩模框架的所述中间金属片的上方载置所述薄膜金属片;及第二焊接工序,将载置于所述中间金属片的所述薄膜金属片激光焊接于所述中间金属片。另外,本专利技术的金属掩模制造方法的特征在于,所述掩模框架具备:第一框架部,构成相对的两边;及第二框架部,在与所述第一框架部正交的方向上构成相对的两边,所述中间金属片载置于所述掩模框架的相对的两边的所述第一框架部或相对的两边的所述第二框架部。另外,本专利技术的金属掩模制造方法的特征在于,所述中间金属片具有长条状的形状,并以长度方向与所述第一框架部或所述第二框架部的长度方向平行的方式载置于所述第一框架部或所述第二框架部。另外,本专利技术的金属掩模制造方法的特征在于,所述薄膜金属片具有长条状的形状,在使所述薄膜金属片的长度方向与所述中间金属片的长度方向正交且所述薄膜金属片跨过由所述第一框架部和所述第二框架部形成的所述掩模框架的开口部的状态下,将所述薄膜金属片的长度方向的两端部载置于所述中间金属片。另外,本专利技术的金属掩模制造方法的特征在于,所述薄膜金属片的厚度为20μm以下的厚度,所述中间金属片的厚度为30μm以上且40μm以下的厚度。另外,本专利技术的金属掩模制造方法的特征在于,所述薄膜金属片的厚度为20μm以下的厚度,所述中间金属片的厚度为60μm以上且100μm以下的厚度,且在所述中间金属片的被进行激光焊接的位置的所述薄膜金属片侧的表面形成有凹状部。另外,本专利技术的金属掩模制造方法的特征在于,所述凹状部的深度为比通过所述激光焊接而在所述中间金属片的表面形成的焊接熔核的高度深、且所述中间金属片的厚度的一半以下的深度。【专利技术效果】根据本专利技术的金属掩模制造方法,能够容易地制造高精细度的金属掩模。附图说明图1是从上方观察通过实施方式的金属掩模制造方法制造的金属掩模的立体图。图2是从上方观察实施方式的金属掩模制造方法所用的掩模框架的立体图。图3是表示在实施方式的金属掩模制造方法中将间隙金属片载置于掩模框架的状态的立体图。图4是表示在实施方式的金属掩模制造方法中将中间金属片载置于掩模框架的状态的立体图。图5是表示在实施方式的金属掩模制造方法中向载置于掩模框架的中间金属片照射激光的状态的剖视图。图6是表示在实施方式的金属掩模制造方法中载置于掩模框架的中间金属片被激光熔化了的状态的剖视图。图7是表示在实施方式的金属掩模制造方法中向载置于中间金属片的薄膜金属片照射激光的状态的剖视图。图8是表示在实施方式的金属掩模制造方法中载置于中间金属片的薄膜金属片被激光熔化了的状态的剖视图。图9是表示在实施方式的金属掩模制造方法中将薄膜金属片焊接于中间金属片的情况下的传热状态的概念图。图10是表示在现有的金属掩模制造方法中将薄膜金属片直接焊接于金属框架的情况下的传热状态的概念图。【标号说明】2…金属掩模、4…掩模框架、4a…短边框架部、4b…长边框架部、4f…接触位置、6…中间金属片、6a…焊接位置、6f…接触位置、7…熔化部分、7d…焊接熔核、8…薄膜金属片、9…熔化部分具体实施方式以下,参照附图,关于本专利技术的实施方式的金属掩模制造方法,以制造在有机EL元件的制造工序中进行真空蒸镀时所使用的金属掩模的情况为例进行说明。图1是从上方观察通过实施方式的金属掩模制造方法制造的金属掩模的立体图。如图1所示,金属掩模2由掩模框架4、中间金属片6、薄膜金属片8、及间隙金属片10构成。如图2所示,掩模框架4为在中央具有矩形状的开口部4c(参照图3)的金属制框架。在此处,开口部4c被沿掩模框架4的短边方向延伸的两根短边框架部4a、及沿掩模框架4的长度方向延伸的两根长边框架部4b包围。另外,短边框架部4a沿与长边框架部4b正交的方向配置,两根短边框架部4a及两根长边框架部4b分别隔着开口部4c而相对。此外,掩模框架4与中间金属片6、薄膜金属片8、及间隙金属片10相比具有充分的厚度。中间金属片6是在制造金属掩模2时为了容易焊接薄膜金属片8而使用的长条状的金属板。中间金属片6具有60~100μm的厚度,以长度方向与长边框架部4b的长度方向平行的方式载置于长边框架部4b上。另外,对作为焊接对象的位置即焊接位置6a(参照图5)的载置有薄膜金属片8的一侧的面实施蚀刻加工,通过该蚀刻加工而在焊接位置6a形成凹状部。在此处,形成于焊接位置6a的凹状部的深度为比通过激光焊接而在中间金属片6的表面形成的焊接熔核7d(参照图6)的高度深,且为中间金属片6的厚度的一半以下的深度。薄膜金属片8是厚度为20μm以下的长条状的金属薄板,以长度方向与中间金属片6的长度方向正交的方式载置于中间金属片6。此外,在制造金属掩模2的过程中,薄膜金属片8的长度方向的两端部8a焊接于中间金属片6。间隙金属片10是在薄膜金属片8与薄膜金属片8的间隙配置的长条状的金属板。此外,间隙金属片10的长度方向的长度形成得比薄膜金属片8的长度方向的长度短。接着,参照附图说明实施方式的金属掩模制造方法。首先,如图3所示,间隙金属片10载置于掩模框架4。在此本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属掩模制造方法,是将薄膜金属片激光焊接于掩模框架而制造金属掩模的金属掩模制造方法,其特征在于,包括:第一载置工序,将厚度比所述薄膜金属片厚、且厚度为所述薄膜金属片的厚度的5倍以下的中间金属片载置于所述掩模框架;第一焊接工序,将载置于所述掩模框架的所述中间金属片激光焊接于所述掩模框架;第二载置工序,在载置于所述掩模框架的所述中间金属片的上方载置所述薄膜金属片;及第二焊接工序,将载置于所述中间金属片的所述薄膜金属片激光焊接于所述中间金属片。

【技术特征摘要】
2015.09.25 JP 2015-1881161.一种金属掩模制造方法,是将薄膜金属片激光焊接于掩模框架而制造金属掩模的金属掩模制造方法,其特征在于,包括:第一载置工序,将厚度比所述薄膜金属片厚、且厚度为所述薄膜金属片的厚度的5倍以下的中间金属片载置于所述掩模框架;第一焊接工序,将载置于所述掩模框架的所述中间金属片激光焊接于所述掩模框架;第二载置工序,在载置于所述掩模框架的所述中间金属片的上方载置所述薄膜金属片;及第二焊接工序,将载置于所述中间金属片的所述薄膜金属片激光焊接于所述中间金属片。2.根据权利要求1所述的金属掩模制造方法,其特征在于,所述掩模框架具备:第一框架部,构成相对的两边;及第二框架部,在与所述第一框架部正交的方向上构成相对的两边,所述中间金属片载置于所述掩模框架的相对的两边的所述第一框架部或相对的两边的所述第二框架部。3.根据权利要求2所述的金属掩模制造方法,其特征在于,所述中间金属片具有长条状的形状,并以长度方向与所述第一框架部或所述第二框架部的长度...

【专利技术属性】
技术研发人员:河野克巳高屋雅启
申请(专利权)人:新东超精密有限公司
类型:发明
国别省市:日本;JP

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