【技术实现步骤摘要】
光刻掩膜板及其制作方法、光刻方法
本专利技术一般涉及显示领域，并且特别地涉及一种光刻掩膜板、使用光刻掩膜板的光刻方法，以及光刻掩膜板的制作方法。
技术介绍
在显示面板的制作过程中，经常会使用到光刻工艺来制作显示面板上的图案层。使用在光刻工艺中的光刻掩膜板在生产、测试和运输过程中，不可避免地会被引入静电电荷。由于光刻掩膜板通常采用绝缘的玻璃等有机材料作为衬底基板，因此不利于静电电荷的释放。当光刻掩膜板上的静电电荷累积到一定程度时，在光刻掩膜板上的掩膜图案的分离部分之间可能会发生静电放电。一旦在光刻过程中发生静电放电，瞬间产生的高电压或高电流会造成显示面板上的半导体层或者金属走线的性能下降或者甚至被破坏，进而严重影响制作得到的显示面板的性能和产品良率。因此，在本领域中存在对于改进的光刻掩膜板、使用光刻掩膜板的光刻方法，以及光刻掩膜板的制作方法的需要。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于提供一种光刻掩膜板、使用光刻掩膜板的光刻方法，以及光刻掩膜板的制作方法，其能够至少部分地缓解或消除以上提到的现有技术中的问题中的一个或多个。根据本专利技术的第一方面，提供了一种光刻掩膜板...
【技术保护点】
一种光刻掩膜板，其特征在于，包括衬底基板和布置在所述衬底基板的表面上的掩膜图案，以及布置在所述表面上的导电连接图案，其中，所述导电连接图案用于将所述掩膜图案的分离部分电气连接在一起。
【技术特征摘要】
1.一种光刻掩膜板，其特征在于，包括衬底基板和布置在所述衬底基板的表面上的掩膜图案，以及布置在所述表面上的导电连接图案，其中，所述导电连接图案用于将所述掩膜图案的分离部分电气连接在一起，所述导电连接图案包括沿第一方向连续延伸的多条第一导电连接线，以及沿第二方向连续延伸的多条第二导电连接线，所述第一方向与所述第二方向正交，直接相邻的两条第一导电连接线之间的距离小于所述掩膜图案的分离部分在所述第二方向上的最小间距，直接相邻的两条第二导电连接线之间的距离小于所述掩膜图案的分离部分在所述第一方向上的最小间距，所述掩膜图案的分离部分包括沿所述第一方向延伸的第一分离部分和沿所述第二方向延伸并且与所述第一分离部分分离的第二分离部分，至少一条第一导电连接线与所述第一分离部分在所述衬底基板上的正投影重叠，并且至少一条第二导电连接线与所述第二分离部分在所述衬底基板上的正投影重叠。2.根据权利要求1所述的光刻掩膜板，其特征在于，所述导电连接图案还包括与所述掩膜图案电气连接的透明导电层。3.根据权利要求2所述的光刻掩膜板，其特征在于，所述透明导电层覆盖所述掩膜图案。4.根据权利要求2所述的光刻掩膜板，其特征在于，所述透明导电层夹在所述掩膜图案与所述衬底基板之间。5.根据权利要求2-4中任一项所述的光刻掩膜板，其特征在于，所述透明导电层由导电氧化物制成。6.根据权利要求5所述的光刻掩膜板，其特征在于，所述导电氧化物包括铟锡氧化物、铝掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化镉中的一个或多个。7.根据权利要求1所述的光刻掩膜板，其特征在于，所述导电连接图案与所述掩膜图案同层同材料形成。8.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：吕振华，陈希，王世君，包智颖，张勇，李月，肖文俊，薛艳娜，姜文博，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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