储料器系统技术方案

一种储料器系统，用于存储多个掩膜版，特别是EUV掩膜版，该储料器系统包括多个存储舱(110)，每个存储舱适于将掩膜版中的一个保持在存储舱的内部并且适于竖直地一个堆叠在另一个之上以提供堆叠(80)，每个存储舱(110)包括具有入口(210)、出口(220)和第一开口(230)的通道(211)，相邻的通道(211)的入口和出口布置为使得提供延伸穿过堆叠(80)的过道(90)，吹扫气体能够被吹动穿过过道(90)，被吹动穿过过道(90)的吹扫气体能够通过相应的第一开口(230)进入每个存储舱(110)的内部(110a)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种用于存储掩膜版，特别是euv掩膜版的储料器系统，一种相应的存储储料器，以及一种用于取回掩膜版的装置。本专利技术还涉及用于处理掩膜版的方法。

技术介绍

1、光刻工艺广泛用作制造集成电路(ics)和其他半导体相关装置和/或结构的关键步骤之一。然而，随着这种工艺产生的特征尺寸的减小，光刻对生产微型ic或其他装置和/或结构的重要性上升。

2、在光刻中，通过使用光、光敏层和随后的蚀刻步骤，将几何图案从光罩(通常称为掩膜版)转移到衬底上，例如半导体晶片上。根据衬底上所需的特征尺寸，需要在考虑瑞利准则的情况下调整掩膜版的特征尺寸以及用于图案转移的光的波长。

3、为了减小可实现的最小特征尺寸，已经提出使用极紫外(euv)辐射。euv辐射是波长在5nm-20nm范围内，例如在5nm-10nm范围内的电磁辐射。

4、掩膜版的任何污染都可能降低光刻工艺的成像性能，并且在更严重的情况下可能需要更换掩膜版。掩膜版通常是昂贵的，因此必须更换掩膜版的频率的任何降低都是有利的。此外，掩膜版的更换是耗时的过程，在该过程中，光刻工艺可能不本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种储料器系统，用于存储多个掩膜版，特别是EUV掩膜版，所述储料器系统包括多个存储舱(110)，每个存储舱(110)适于将所述掩膜版中的一个保持在存储舱(110)的内部，并且适于竖直地一个堆叠在另一个之上以提供堆叠(80)，每个存储舱(110)包括具有入口(210)、出口(220)和第一开口(230)的通道(211)，其中相邻的通道(211)的入口和出口布置为提供延伸穿过堆叠(80)的过道(90)，吹扫气体能够通过过道(90)运输，并且通过过道(90)运输的吹扫气体能够通过相应的第一开口(230)进入每个存储舱(110)的内部(110a)。

2.根据权利要求1所述的系统，...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种储料器系统，用于存储多个掩膜版，特别是euv掩膜版，所述储料器系统包括多个存储舱(110)，每个存储舱(110)适于将所述掩膜版中的一个保持在存储舱(110)的内部，并且适于竖直地一个堆叠在另一个之上以提供堆叠(80)，每个存储舱(110)包括具有入口(210)、出口(220)和第一开口(230)的通道(211)，其中相邻的通道(211)的入口和出口布置为提供延伸穿过堆叠(80)的过道(90)，吹扫气体能够通过过道(90)运输，并且通过过道(90)运输的吹扫气体能够通过相应的第一开口(230)进入每个存储舱(110)的内部(110a)。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，通道(211)的第一开口(230)设置有颗粒过滤器(235)。

3.根据权利要求1或2所述的系统，其中，每个存储舱(110)设置有第二开口(250)，吹扫气体能够通过第二开口离开存储舱的内部(110a)，其中第二开口优选地设置有颗粒过滤器(255)。

4.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，每个存储舱(110)设置有至少一个搬运构件(120)。

5.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，每个存储舱(110)包括基板(112)和盖(114)，其中，设置对准特征，对准特征被配置为且适于机械地对准堆叠中的相邻存储舱的，其中特别地，基板设置有凹槽(130)或销并且盖设置有销(132)或凹槽，其中凹槽和销被设置为用于与设置在相邻存储舱(110)上的对应的销或凹槽相互作用。

6.根据权利要求5所述的系统，其中，每个存储舱(110)设置有用于将基板(112)和盖(114)彼此固定的闩锁机构(116)。

7.一种存储储料器，包括根据前述权利要求中任一项所述的储料器系统以及适于存储储料器系统的存储实体(660)。

8.根据权利要求7所述的存储储料器，包括固定机构，固定机构适于将单独的存储舱物理地彼此固定和/或物理地固定到存储实体(660)。

9.一种搬运掩膜版的方法，掩膜版特别是euv掩膜版，所述方法包括以下步骤：在使用地点和存储地点之间运输掩膜版，或反之亦然，在运输舱中，将掩膜版从运输舱转移到存储舱，或反之亦然，并且将掩膜版存储在存储舱中的存储地点。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，运输舱包括至少一个内舱eip，并且存储舱适于将一个掩膜版保持/容纳在存储舱的内部并且适于与其他存储舱竖直地一个堆叠在另一个之上以提供堆叠，并且每个存储舱包括具有入口、出口和第一开口的通道，吹扫气体能够被吹动穿过通道，被吹动穿过通道的吹扫气体能够通过第一开口进入存储舱的内部。

11.一种用于从掩膜版舱(100)的堆叠中取回第一掩膜版舱(110a)的装置，包括用于搬运第一掩膜版舱(110a)的第一搬运元件(742)和适于搬运第二掩膜版舱(110b)的第二搬运元件(744)，第二掩膜版舱(110b)布置为在掩膜版舱(100)的堆叠内与第一掩膜版舱(110a)相邻且竖直地位于第一掩膜版舱(110a)上方，其中，第一搬运元件(742)和第二元件(744)适于在水平方向上单独地可移动并且在竖直方向上可移动，使得第二掩模板舱(110b)能够被抬离第一掩膜版舱...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢茨·莱伯斯托克，迈克尔·亚历山大·施韦茨，
申请(专利权)人：布鲁克斯自动化德国有限公司，
类型：发明
国别省市：