EUV掩模版储备器及操作其的方法技术

提供了用于EUV掩模版储备器的操作方法(400、410)、存储系统(300、600)和夹持设备(200、500)。用于存储EUV掩模版的所需空间被显著地减小，同时确保了用于所存储的EUV掩模版的高质量存储环境。本发明专利技术的另一方面提供用于存储EUV掩模版的储备器(700)。存储EUV掩模版的储备器(700)。存储EUV掩模版的储备器(700)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】EUV掩模版储备器及操作其的方法


[0001]本专利技术涉及一种用于EUV掩模版的储备器和掩模版储备器的操作方法。

技术介绍

[0002]光刻工艺被广泛地用作集成电路(IC)和其它半导体相关器件和/或结构的制造中的关键步骤之一。然而，随着通过这种工艺制造的特征的尺寸减小，用于生产微型IC或其它器件和/或结构的光刻的重要性增加。
[0003]在光刻中，通过使用光、光敏层和随后的蚀刻步骤，将几何图案从光掩模(通常称为掩模版)转移到衬底(例如，半导体晶片)上。根据衬底上所需的特征尺寸，考虑到Raleigh标准，需要调整掩模版的特征尺寸以及用于图案转移的光的波长。
[0004]为了减小最小的可实现特征尺寸，已经提出使用极紫外(EUV)辐射。EUV辐射是波长在5nm
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20nm范围内，例如在5nm
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10nm范围内的电磁辐射。
[0005]掩模版的任何污染可能降低光刻工艺的成像性能，并且在更严重的情况下可能需要更换掩模版。掩模版通常是昂贵的，因此必须更换掩模版的频率的任何降低都是有利的。此外，掩本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于EUV内层盒(EIP)的夹持设备，EIP(100)包括两个或更多个部件并且包含EUV掩模版，其中夹持设备(200、500)被构造成将EIP(100)的两个或更多个部件(110、120)和掩模版相对于彼此固定；并且仅部分地覆盖EIP(100)。2.根据权利要求1所述的夹持设备(200、500)，还被构造为作用于EIP(100)的保持手段(114)，保持手段(114)被构造为在受到来自EIP(100)外部的作用时将掩模版固定在其中，以将掩模版固定在EIP(100)内。3.根据权利要求1或2所述的夹持设备(200、500)，包括相对于其质量和/或体积的至少75％、80％、90％、95％或99％的金属材料。4.根据权利要求1、2或3所述的夹持设备(200)，包括上夹持元件(210)和下夹持元件(220)，其中，上夹持元件(210)和下夹持元件(220)构造成彼此可附接，同时在它们之间容纳两个或更多个EIP部件(110、120)。5.根据权利要求1、2或3所述的夹持设备(500)，包括具有一个、两个或更多个固定手段(502)的一个夹持元件，其中，固定手段(502)被朝向闭合位置偏置并且被构造为移动到打开位置中；其中，夹持设备(500)被构造为当固定手段处于打开位置时可附接到EIP(100)，并且当固定手段(502)处于闭合位置时将EIP部件(110、120)和掩模版相对于彼此固定。6.根据权利要求4或5所述的夹持设备(200、500)，其中，一个夹持元件(210)包括致动器(214、514)，致动器构造成当夹持设备(200、500)附接至EIP(100)时作用于保持手段(114)。7.根据前述权利要求中任一项所述的夹持设备(200、500)，其包封体积小于夹持设备(200、500)可附接到的EIP(100)的包封体积的130％、120％、110％、105％或小于100％。8.根据前述权利要求中任一项所述的夹持设备(200、500)，还包括记录元件(218，518)，记录元件包括一个或更多个部件，一个或更多个部件：信息承载元件，其被构造用于识别夹持设备(200、500)，温度传感器，压力传感器，浓度传感器，其被构造成检测或测量围绕夹持设备(200、500)的空气中的一种或多种化学物质的浓度，和/或加速度传感器，其中，记录元件被构造为存储使用记录元件(218、518)的一个或更多个部件生成的信息和/或使之可用。9.一种存储系统(300、600)，包括根据前述权利要求中任一项所述的夹持设备(200、500)和EUV内层盒(EIP)(100)，其中，EIP(100)被构造成容纳EUV掩模版；以及包括两个或更多个部件(110、120)和保持手段(114)，保持手段被构造成当受到来自EIP(100)外部的作用时固定掩模版；以及其中，夹持设备(200、500)可附接至EIP(100)，以将两个或更多个部件(110、120)相对于彼此固定并且作用于保持手段(114)。10.根据权利要求9所述的存储系统(300、600)，其包封体积小于EIP(100)的包封体积的130％、120％、110％或105％。
11.一种操作EUV掩模版储备器(700)的方法，包括将EUV掩模版存储(400)在掩模版储备器中以及从掩模版储备器(700)取回(410)掩模版，其中存储(400)包括将根据权利要求9或10所述的包含掩模版的存储系统(300、600)移动(404)到EUV掩模版储备器(700)内的存储位置(742)；以及取回(410)包括从其存储位置(742)移除(411)根据权利要求9或10所述的包含掩模版的存储系统(300、600)。12.根据权利要求11所述的方法，其中，在移动(404)到存储位置(742)的步骤之前，存储(4...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢茨，
申请(专利权)人：布鲁克斯自动化德国有限公司，
类型：发明
国别省市：