用于投射曝光设备的照明光学单元的多分面反射镜制造技术

一种用于投射印刷系统的照明光学单元的多分面反射镜具有多个可移位的单独分面(8

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于投射曝光设备的照明光学单元的多分面反射镜
[0001]本专利申请要求德国专利申请DE 10 2019 214 269.9的优先权，其内容通过引用并入本文中。


[0002]本专利技术涉及用于投射曝光设备的照明光学单元的分面反射镜。本专利技术还涉及用于投射曝光设备的照明光学单元的分面反射镜的单独分面。本专利技术还涉及照明光学单元、照明系统、光学系统和具有对应分面反射镜的投射曝光设备。最后，本专利技术涉及用于制造微结构部件或纳米结构部件的方法，还涉及根据该方法制造的部件。

技术介绍

[0003]从现有技术中已知用于具有大量可移位的单独分面的投射曝光设备的照明光学单元的分面反射镜。在这种情况下，形成单独分面，使得它们在发生受控制的位移时不会相互阻碍。特别地，形成分面，使得它们在位移期间不会相互接触。
[0004]从现有技术中已知一种用于保护分面反射镜的分面(特别是在其被运输时)免受不希望的移动的机构。然而，该机构在分面反射镜的正常操作期间不保护分面。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于改进用于投射曝光设备的照明光学单元的分面反射镜。
[0006]该目的由权利要求1的特征来实现。
[0007]本专利技术的本质是形成分面反射镜的单独分面，使得它们在一个或多个位移位置与止动表面接触。特别是可以形成分面反射镜的单独分面，使得它们在可逆地可调节的位移位置中与止动表面接触。这样的可逆地可调节的位移位置也被称为主动的或可致动的位移位置。特别地，单独分面可以具有一个或多个离散的主动位移位置。它们也可以形成为使得它们仅在发生不希望的偏转时、特别是在发生寄生移动时、特别是在发生运输和/或地震时才与止动表面接触。这样的偏转也被称为被动位移位置。在有疑问的情况下，位移位置包括主动可能位移位置和被动可能位移位置两者。
[0008]在这种情况下，分面在各个情况下以其主体与止动表面接触或与布置在主体上或主体中的止动元件接触。在这种情况下，单独分面的反射表面优选保持不接触。
[0009]止动表面特别是限定的、特别是预先确定的止动表面。止动表面特别是用于两个相邻分面相互抵靠的止动表面。止动表面特别地与相应的单独分面的反射表面相距一定距离。特别地，单独分面的止动表面和反射表面形成不相接的区域。
[0010]止动表面特别是分别形成在分面主体中或分面主体上。止动表面特别可以形成或布置在分面主体中或分面主体上，使得在单独分面的反射表面的表面法线的方向上的投射中(特别是在穿过单独分面的反射表面的形心的表面法线的方向上的投射中)，它形成分面主体的投射的外边界，或者在垂直于表面法线的至少一个方向上突出超过这样的边界。
[0011]该投射特别是平行投射，特别是正交投射。
[0012]该投射特别是到投射平面的投射，该投射平面尤其垂直于表面法线。
[0013]根据本专利技术，已经认识到这可以防止分面以不受控制的方式相互碰撞。以不受控制的方式相互碰撞在此被理解为意味着分面在不受控制的、特别是在不希望的区域中相互碰撞。特别是，可以防止单独分面的反射表面相互碰撞。这可以防止损坏反射表面。
[0014]单独分面可以特别地形成为使得它们仅在可以致动和设定的移动位置中与止动表面接触。特别是，对单独分面的不希望的或不可预见的外部影响不是与止动表面接触的先决条件。
[0015]单独的分面也可以形成为使得它们在发生不希望的或不可预见的外部影响时，特别是仅在发生不希望的或不可预见的外部影响时与止动表面接触。
[0016]根据本专利技术的一个方面，至少一些单独分面，特别是所有的单独分面，可以具有位移范围，使得相邻的单独分面在一个或多个位移位置中接触。单独分面可以特别是在被动位移位置中相互接触。
[0017]单独分面优选地在基本或中性位置中无接触地布置，特别是布置在彼此相距一定距离处。特别地，它们可以在至少一个主动位移位置中(特别是在所有主动位移位置中)相距所有止动表面一定距离地布置。
[0018]总体上，根据本专利技术的构思涉及具有多个可移位光学元件的光学模块。
[0019]根据本专利技术的一个方面，相邻的单独分面在各个情况下在基本或中性位置中以间隙彼此相距一定距离布置。对应的间隙也可以存在于预先确定的切换位置中，特别是在任何期望的切换位置中。特别地，单独分面的反射表面优选地在各个情况下在基本位置或中性位置中彼此相距一定距离布置。
[0020]在基本位置或中性位置中，单独分面特别地也以间隙相距所有止动表面的一定距离布置。
[0021]间隙足够大以允许单独分面在位移范围内位移。另一方面，间隙尽可能窄，以便允许单独分面的密集堆积。相邻的单独分面之间的间隙的宽度特别可以小于1mm，特别是小于0.5mm。间隙的宽度特别是至多50％，特别是至多30％，特别是至多20％，特别是至多15％，特别是至多10％，特别是至多5％，特别是至多3％，特别是至多2％，特别是至多1％的单独分面的范围，特别是它们的主体或它们在对应方向上的反射表面的范围。
[0022]特别地，分面可实际移位的范围被称为单独分面的位移范围。该范围还称为主动位移范围。此外，由于特别是当运输分面反射镜时的外部影响(例如振动)，单独分面可以被移位。在此可能的范围被称为被动位移范围。特别是，它可能大于主动位移范围。除非另有说明，否则分面的位移范围应理解为在各个情况下意味着最大的位移范围，特别是主动位移范围和被动位移范围的各个情况下的较大的位移范围。
[0023]根据本专利技术的一个方面，相邻的单独分面之间的间隙的总面积至多特别是至多50％，特别是至多30％，特别是至多20％，特别是至多15％，特别是至多10％，特别是至多5％，特别是至多3％，特别是至多2％，特别是至多1％的分面反射镜的总面积或分面反射镜的所有单独分面的反射表面的总和。
[0024]特别地，单独分面具有一个、两个或更多个位移自由度。特别是，它们具有两个倾斜自由度。特别是，它们可以是围绕两个倾斜轴线可倾斜的，两个倾斜轴线特别是相互垂直地延伸。它们也可以是在平行于表面法线的方向上可线性位移的，特别是在反射表面的中
心点处。
[0025]单独分面(特别是它们的分面主体)可以在各个情况下整体地形成。
[0026]在这种情况下，其上设置反射表面的单独分面的组成部分被称为分面主体。特别地，分面主体的横截面基本上对应于反射表面。分面主体的横截面与相应分面的反射表面的尺寸偏离了特别是至多30％，特别是至多20％，特别是至多10％。
[0027]特别是在投射的情况下，特别是在平行投射的情况下，特别是在正交投射的情况下，分面主体在反射表面的表面法线的方向上(特别是在相应单独分面的反射表面的表面法线的方向上、在止动表面中的一个的区域和/或止动元件中的一个的区域中)的横截面与相应分面的反射表面的尺寸偏离了至多30％，特别是至多20％，特别是至多10％。这特别可以是四边形的、特别是细长的横截面。横截面可以具有直的或弯曲的边界。分面主体的该横截面的纵横比对应于相应单本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于投射曝光设备(1)的照明光学单元(1a)的分面反射镜(7、20)，具有1.1.大量可移位的单独分面(8
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)，其具有1.1.1.分面主体(35)，和1.1.2.布置在其上的反射表面(36)，1.2.其特征在于，所述单独分面(8
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)形成为使得相邻的单独分面(8
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)彼此接触，但仅在所述分面主体(35)中或上形成的止动表面区域中和/或在所述分面主体(35)中或上布置或形成的止动元件(38)的区域中接触。2.一种用于投射曝光设备(1)的照明光学单元(1a)的分面反射镜(7、20)，具有2.1.大量可移位的单独分面(8
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)，其具有2.1.1.分面主体(35)和2.1.2.布置在其上的反射表面(36)，2.2.其中，所述单独分面(8
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)中的至少一些具有位移范围，使得它们在一个或多个位移位置与止动表面接触。3.根据权利要求1或2所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所有单独分面(8
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)在其相应的原始位置和/或在主动位移位置中以距所有止动表面一距离来布置。4.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述单独分面(8
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)中的一些具有位移范围，使得相邻的单独分面(8
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)在一个或多个位移位置中接触。5.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述单独分面(8
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)中的至少一些形成为使得相邻的单独分面(8
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)能够在预先确定的止动表面的区域中接触。6.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述止动表面在单独分面(8
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)的分面主体(35)上或中形成或者通过分离的止动元件(38)形成。7.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述分面主体(35)形成为使得两个相邻的单独分面(8
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)的分面主体(35)之间的距离小于它们的反射表面(36)之间的距离。8.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，一个或多个止动元件(38)在各个情况下被配备在所述分面主体(35)上或所述分面主体(35)中。9.根据权利要求7或8所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述止动元件(38)在平行于所述反射表面(36)的方向上的范围大于所述反射表面(36)在该方向上的范围和/或突出超过所述分面主体(35)至其远离所述反射表面(36)的一侧。10.根据权利要求7至9中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述止动元件(38)成对地布置在所述分面主体(35)上，使得它们的外包络在由所述包络包围的反射区域(36)的部分区域的垂直投射中在至少一个方向上突出超过所述反射表面(36)。11.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，一个或多个用于限制所述单独分面(8
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)的位移范围的构件。12.一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：W安德尔，C科纳，H奥尔德雷，M霍尔兹，M斯通皮，S塞茨，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：