【技术实现步骤摘要】
微波单元
本技术涉及半导体设备制造领域,特别涉及一种微波单元。
技术介绍
在半导体生产过程中,为在半导体结构表面形成多样的图案,常采用等离子体对半导体结构进行刻蚀。等离子体刻蚀的原理为由暴露在电子区域的气体放电,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子。其中,等离子体中的电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的能量与表面驱逐力,从而能够蚀刻晶圆表面。在现有技术中,参见图1所示,微波也可以用于激发产生等离子体。具体来说,微波施加器为微波与放电管提供接触空间。在微波施加器的范围内,微波以最大的面积使放电管内的气体放电,从而使通过放电管的气体形成为等离子体,并用于对半导体结构进行刻蚀。其中,通常采用石英管作为放电管。然而,石英管在微波的轰击下不断被腐蚀,尤其是微波输入的部分会被腐蚀。因此,放电管在使用过程中需要周期性地进行旋转,并且在旋转一次后就需要更换。否则,会使得放电管被击穿,进而导致无法继续刻蚀。并且,更换放电管也会对增加成本,并影响生产效率。因此,提高放电管的使用寿命并提高刻蚀机台的生产效率成了亟待解决的问题。
技术实现思路
本技术是鉴于上述问 ...
【技术保护点】
1.一种微波单元,设置在晶圆刻蚀机台内并与放电管连接,其特征在于,包括:微波发生器、微波施加器、管道系统、阀门机构以及控制机构;所述微波发生器通过所述管道系统而与所述微波施加器连接;所述微波施加器包括多个工作腔和套管,所述套管和所述放电管同轴地设置,多个所述工作腔沿着所述套管的长度方向设置;所述阀门机构设置在所述管道系统上;所述控制机构与所述阀门机构通信连接,用于控制所述阀门机构的开合。
【技术特征摘要】
1.一种微波单元,设置在晶圆刻蚀机台内并与放电管连接,其特征在于,包括:微波发生器、微波施加器、管道系统、阀门机构以及控制机构;所述微波发生器通过所述管道系统而与所述微波施加器连接;所述微波施加器包括多个工作腔和套管,所述套管和所述放电管同轴地设置,多个所述工作腔沿着所述套管的长度方向设置;所述阀门机构设置在所述管道系统上;所述控制机构与所述阀门机构通信连接,用于控制所述阀门机构的开合。2.根据权利要求1所述的微波单元,其特征在于,所述管道系统包括一个主管道以及多个与所述主管道连通的独立的微波管道,所述微波管道的个数与所述工作腔的个数相同,每个所述工作腔通过对应的所述微波管道而连接于所述主管道。3.根据权利要求2所述的微波单元,其特征在于,所述阀门机构为多个分别对微波管道进行通断...
【专利技术属性】
技术研发人员:金鑫,徐科,阚保国,刘家桦,叶日铨,
申请(专利权)人:德淮半导体有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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