防溅装置与晶圆处理设备制造方法及图纸

技术编号:25000050 阅读:63 留言:0更新日期:2020-07-24 18:01
该实用新型专利技术涉及一种防溅装置与晶圆处理设备,其中所述防溅装置包括:闭合挡具,包括底板和设置在底板上方的侧壁,所述侧壁与所述底板相互连接,围成一底面闭合的空间,用于放置所述晶圆放置台,防止喷淋至所述晶圆放置台上表面的喷淋液溅出;清洗喷头,朝向所述闭合挡具内壁设置,用于出射清洗液清洗所述闭合挡具内壁附着的颗粒物杂质。本实用新型专利技术的防溅装置与晶圆处理设备具有闭合挡具,在有喷淋液喷淋晶圆放置台时,将所述晶圆放置台放置于所述闭合挡具所围成的空间内,可以很好的防止所述喷淋液溅射到所述闭合挡具外部,减小喷淋液结晶的形成,提高晶圆生产的良率。

【技术实现步骤摘要】
防溅装置与晶圆处理设备
本技术涉及晶圆生产制造加工领域,具体涉及一种防溅装置与晶圆处理设备。
技术介绍
在晶圆生产的过程中,经常需要对进行喷淋操作,如喷淋清洗液,或喷淋研磨液。在喷淋时,需要设置围挡,以防止喷淋液四处溅射。例如,在对晶圆进行研磨的过程中,需要喷淋研磨液。但在研磨的过程中,研磨废液会被溅射到研磨机台的多个部位,如果不及时的清理会形成结晶。结晶后的固体颗粒将会附着在所述研磨机台内部,影响晶圆的生产,因此,现有技术中需要定期对所述研磨机台进行保养维护。然而,清理固体颗粒的过程中,尺寸较小的固体结晶颗粒不容易被清理干净,在研磨机台正常运行的过程中会随着研磨机台的振动,漂浮并掉落在研磨垫上,引起晶圆划伤,从而影响晶圆生产的良率。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种防溅装置与晶圆处理设备,能够提高晶圆生产的良率。为解决上述技术问题,以下提供了一种防溅装置,包括:闭合挡具,包括底板和设置在底板上方的侧壁,所述侧壁与所述底板相互连接,围成一底面闭合的空间,用于放置所述晶圆放置台,防止喷淋至所述晶圆放置台上表面的喷淋液溅出;清洗喷头,朝向所述闭合挡具内壁设置,用于出射清洗液清洗所述闭合挡具内壁附着的颗粒物杂质。可选的,所述闭合挡具的底板设置有通孔,用于安装晶圆放置台,且围绕所述通孔一周设置有第二挡板,与所述侧壁平行。可选的,还包括第一排液口,设置于所述底板表面,用于排出所述闭合挡具的底板的液体。可选的,还包括:过滤器,安装至所述第一排液口,用于滤除自所述第一排液口流出的液体中掺杂的颗粒物杂质;排液管路,第一端连通至所述第一排液口,第二端连通至外界,用于使自所述第一排液口流出的液体流向预设位置。可选的,所述排液管路还包括一第三端,所述第三端连通至所述闭合挡具外,用于收集自所述闭合挡具内溅出的喷淋液。可选的,还包括:气缸,用于安装所述闭合挡具,以带动所述闭合挡具伸缩,且所述气缸的数目至少为两个,在所述气缸竖直放置,且所述闭合挡具安装至所述气缸时,所述底板呈水平状态。可选的,还包括:清洗液供液管路,用于连通至所述清洗喷头,给所述清洗喷头提供清洗液。可选的,所述清洗液供液管路包括:环状清洗液供液子管路,设置于所述闭合挡具侧壁的内侧,且所述环状供液子管路与所述闭合挡具侧壁的内侧的距离小于2cm;所述清洗喷头的数目为多个,均设置在所述环状供液子管路上,形成清洗环。可选的,所述清洗喷头为扇形喷嘴,喷淋出的清洗液呈扇形,且扇形的角度范围为25°至60°。为解决上述技术问题,以下还提供了一种晶圆处理设备,包括所述防溅装置。本技术的防溅装置与晶圆处理设备具有闭合挡具,在有喷淋液喷淋晶圆放置台时,将所述晶圆放置台放置于所述闭合挡具所围成的空间内,可以很好的防止所述喷淋液溅射到所述闭合挡具外部,减小喷淋液结晶的形成,提高晶圆生产的良率。附图说明图1为本技术的一种具体实施方式中的防溅装置的结构示意图。图2为本技术的一种具体实施方式中的防溅装置的俯视示意图。具体实施方式以下结合附图和具体实施方式对本技术提出的一种防溅装置与晶圆处理设备作进一步详细说明。请参阅图1、2,其中图1为本技术的一种具体实施方式中的防溅装置的结构示意图,图2为本技术的一种具体实施方式中的防溅装置的俯视示意图。在该具体实施方式中,提供了一种防溅装置,包括:闭合挡具101,包括底板108和设置在底板108上方的侧壁115,所述侧壁115与所述底板108相互连接,围成一底面闭合的空间,用于放置所述晶圆放置台102,防止喷淋至所述晶圆放置台102上表面的喷淋液溅出;清洗喷头103,朝向所述闭合挡具101内壁设置,用于出射清洗液清洗所述闭合挡具101内壁附着的颗粒物杂质107。在该具体实施方式中的防溅装置具有闭合挡具101,在有喷淋液喷淋晶圆放置台102时,将所述晶圆放置台102放置于所述闭合挡具101所围成的空间内,可以很好的防止所述喷淋液溅射到所述闭合挡具101外部,减小喷淋液结晶的形成,提高晶圆生产的良率。在一种具体实施方式中,闭合挡具101的侧壁115和底板108呈90°夹角,实际上,也可根据需要设置所述侧壁115和底板108的夹角,以锐角为佳。在所述侧壁115和底板108的夹角为锐角时,所述晶圆放置台102也能够放入到所述闭合挡具101所围成的空间内。在一种具体实施方式中,所述闭合挡具101的尺寸足够,晶圆放置台102在水平放置到所述闭合挡具101所围成的空间内时,在水平面上的投影被所述底板108在水平面上的投影完全包围。在一种具体实施方式中,所述闭合挡具101的底板108设置有通孔119,用于安装晶圆放置台102,且围绕所述通孔119一周设置有第二挡板116,与所述侧壁115平行。在一种具体实施方式中,若所述晶圆放置台102为研磨台,或其他具有支撑柱117的机台,则可能需要在所述底板108设置通孔119供所述支撑柱117穿过,以便所述晶圆放置台102能够在支撑柱117的作用下发生旋转或上下移动。这样,通孔119就很有必要。在一种具体实施方式中,所述通孔119的尺寸与所述支撑柱117的尺寸相一致,比所述支撑柱117的尺寸略大。请看图1,图1中通孔119的尺寸就大于所述支撑柱117的尺寸。在一种具体实施方式中,当通孔119是圆形,支撑柱117的底面也是圆形时,所述通孔119的半径比所述支撑柱117的底面的半径大2至4cm,以方便支撑柱117对晶圆放置台102的其他操作。在图1所示的具体实施方式中,所述第二挡板116设置在所述通孔119的边缘位置,所述第二挡板围住的面积即为所述通孔119的面积。在一种具体实施方式中,所述第二挡板116也可以根据设置在与所述通孔119的边缘有一定距离的位置。在一种具体实施方式中,所述第二挡板116与所述底板108是一体化连接的。实际上,所述第二挡板116也可以是与所述底板108粘接或焊接的。可根据需要选择所需的连接方法。在一种具体实施方式中,所述第二挡板116也可以与所述底板108之间呈其他角度,如60°、80°等,而并不一定与所述侧壁115平行。实际上所述第二挡板116可向所述侧壁115倾斜,也可向背离所述侧壁115的方向倾斜,角度范围为从45°到135°均可。采用60°至120°的角度会使得所述第二挡板116对喷淋液的遮挡作用更强。在一种具体实施方式中,所述闭合挡具101和第二挡板116均由有机塑料制成,具有一定的强度和耐性。实际上,也可根据需要设置所述闭合挡具101和第二挡板116的制备材料。如设置铜、铝等金属。在一种具体实施方式中,当所述晶圆放置台102放置到所述闭合挡具101所围成的范围内时,所述第二挡板116的顶端与所述晶圆放置台102的距离应当有10cm以上,以便支撑柱117对所述晶圆放置台102进行其他的操作。在一种具体实施方式本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防溅装置,其特征在于,包括:/n闭合挡具,包括底板和设置在底板上方的侧壁,所述侧壁与所述底板相互连接,围成一底面闭合的空间,用于放置晶圆放置台,防止喷淋至所述晶圆放置台上表面的喷淋液溅出,所述晶圆放置台能够放置晶圆;/n清洗喷头,朝向所述闭合挡具内壁设置,用于出射清洗液清洗所述闭合挡具内壁附着的颗粒物杂质。/n

【技术特征摘要】
1.一种防溅装置,其特征在于,包括:
闭合挡具,包括底板和设置在底板上方的侧壁,所述侧壁与所述底板相互连接,围成一底面闭合的空间,用于放置晶圆放置台,防止喷淋至所述晶圆放置台上表面的喷淋液溅出,所述晶圆放置台能够放置晶圆;
清洗喷头,朝向所述闭合挡具内壁设置,用于出射清洗液清洗所述闭合挡具内壁附着的颗粒物杂质。


2.根据权利要求1所述的防溅装置,其特征在于,所述闭合挡具的底板设置有通孔,用于安装晶圆放置台,且围绕所述通孔一周设置有第二挡板,与所述侧壁平行。


3.根据权利要求1所述的防溅装置,其特征在于,还包括第一排液口,设置于所述底板表面,用于排出所述闭合挡具的底板的液体。


4.根据权利要求3所述的防溅装置,其特征在于,还包括:
过滤器,安装至所述第一排液口,用于滤除自所述第一排液口流出的液体中掺杂的颗粒物杂质;
排液管路,第一端连通至所述第一排液口,第二端连通至外界,用于使自所述第一排液口流出的液体流向预设位置。


5.根据权利要求4所述的防溅装置,其特征在于,所述排液管路还包括一第三端...

【专利技术属性】
技术研发人员:岳志刚辛君林宗贤
申请(专利权)人:德淮半导体有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1