温度调节装置及晶片真空加热装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及晶片加热技术领域，提供一种温度调节装置及晶片真空加热装置。其中，温度调节装置包括多块角度可调的反射板，安装在晶片以及用于加热所述晶片的加热单元之间的热传递路径上，用于调整所述加热单元向各块所述晶片辐射的热量。本实用新型专利技术的温度调节装置，反射板可以将加热单元发出的热量或者光线反射到不同位置。从而，当加热单元由于装配误差或者加工误差等原因导致真空壳体内晶片温度不均匀的时候，可以在不改变晶片真空加热装置内部布局的情况下，通过调节反射板的角度解决晶片温度不均匀的问题。

【技术实现步骤摘要】
温度调节装置及晶片真空加热装置
本技术涉及晶片加热
，尤其涉及一种温度调节装置及晶片真空加热装置。
技术介绍
在各种不同领域中经常会涉及到晶片加热。例如，在半导体设备和太阳能电池设备中为了工艺需要，经常要加热晶片。加热晶片的方法很多，主要包括电阻丝加热、高频感应加热和红外灯管加热。其中，电阻丝加热又叫辐射加热，这种加热方式调整温度均匀性相对困难，并且升降温较慢。高频感应加热速度快，容易实现自动化控制，但成本较高，工作时由于高频磁场，容易影响其它设备。红外灯管加热可以实现快速升降温，但是红外灯管加热晶片存在以下问题：在安装的过程中，会由于装配误差导致加热用的红外灯管不在同一平面上。而红外灯管到晶片的距离与晶片加热时的温度均匀性有直接关系，如果各红外灯管到晶片的距离不一致，会造成晶片表面的温度不一致，从而影响最终的工艺效果。此外，红外灯管在安装过程中，会因为真空腔室上盖、红外灯管本身的加工误差以及装配精度造成各红外灯管与晶片的距离不一致，从而影响晶片表面温度的均匀性。另外红外灯管自身长度较长，每段的加热温度会有差异，这些差异会直接影响晶片的加热均匀性，并且每根红外灯管的自身加热不一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种温度调节装置，其特征在于，包括多块角度可调的反射板，安装在晶片以及用于加热所述晶片的加热单元之间的热传递路径上，用于调整所述加热单元向各块所述晶片辐射的热量。

【技术特征摘要】
1.一种温度调节装置，其特征在于，包括多块角度可调的反射板，安装在晶片以及用于加热所述晶片的加热单元之间的热传递路径上，用于调整所述加热单元向各块所述晶片辐射的热量。2.根据权利要求1所述的温度调节装置，其特征在于，所述温度调节装置还包括角度调节器；所述反射板可绕着设定轴线转动，并且沿着所述设定轴线上所述反射板的数量为多块，包括至少一块连接所述角度调节器的第一反射板。3.根据权利要求2所述的温度调节装置，其特征在于，所述反射板还包括第二反射板；所述第一反射板和第二反射板上分别设置有互相配合的凸起，使得所述第一反射板以所述设定轴线为转轴相对所述第二反射板转动设定角度之后，所述第一反射板上的凸起和第二反射板上的凸起接触，并使得所述第一反射板转动的同时带动所述第二反射板转动。4.根据权利要求2所述的温度调节装置，其特征在于，所述角度调节器为调节手轮，所述调节手轮设置有标度尺，用于显示所述调节手轮的调节角度。5.根据权利要求1至4中任意一项所述的温度调节装置，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢继奎，张金斌，南建辉，
申请(专利权)人：北京创昱科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11