气相沉积冷却装置制造方法及图纸

技术编号:22415668 阅读:42 留言:0更新日期:2019-10-30 01:20
本发明专利技术涉及气相沉积技术领域,公开了一种气相沉积冷却装置,包括:冷却液注入机构和升降装置;冷却液注入机构包括:注液部件和进液管;注液部件设置在真空沉积区内,当载体停留在真空沉积区内时,注液部件在升降装置的驱动下上下移动插入载体内部的冷却液容纳区内,注入冷却液;所述进液管从外部伸入所述真空沉积区内并与所述注液部件连通,以便于从外部通过所述注液部件向所述冷却液容纳区内注入冷却液;进液管从外部伸入真空沉积区内并与注液部件连通,以便于从外部通过注液部件向冷却液容纳区内注入冷却液。本发明专利技术的气相沉积冷却装置能够实现在线气相沉积装置中基片的冷却散热,结构简单、操作方便,散热效率高。

【技术实现步骤摘要】
气相沉积冷却装置
本专利技术涉及气相沉积
,特别是涉及一种气相沉积冷却装置。
技术介绍
物理气相沉积(PVD)是指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程,其作用是能使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能,常应用于半导体和太阳能领域中。物理气相沉积常采用的方法为:真空蒸发、溅射和离子镀等。以上几种气相沉积方法均是采用溅射阴极或蒸镀源在真空环境中对基片进行薄膜沉积,包括两种沉积方式:批次式沉积(BatchPVD)和在线式沉积(inlinePVD)。批次式沉积工艺是载有基片的载板进入真空腔体后停留在溅射阴极或蒸发源的对面进行一定时间的薄膜沉积,当膜层沉积完成后,载板离开腔体,整个工艺过程是间断的;而在线式沉积工艺是多个载有基片的载板接续进入工艺腔室,一边前进一边镀膜,整个工艺过程是连续的。在不同的PVD工艺中,有的需要加热,有的则需要温度尽可能低,溅射阴极和蒸镀源均会产生大量的热,对于要求低温的工艺,则需要对载板和基片冷却,然而,在线式沉积工艺中,薄膜沉积过程是在真空环境下进行的,且载板和基片是连续运动的,难以通过热对流或热传导的方式进行散热,目前采用的是热辐射的方式进行散热,但散热效率较低。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本专利技术的目的是为了解决现有技术针对在线式沉积工艺中处在真空环境下连续运动的基片难以进行散热、且散热效率低的问题。(二)技术方案为了解决上述技术问题,本专利技术提供一种气相沉积冷却装置,应用于在线式气相沉积装置上,所述在线式气相沉积装置包括:真空沉积区和载体;所述载体可携带基片运动至所述真空沉积区内进行薄膜沉积,包括:冷却液注入机构和升降装置;所述冷却液注入机构包括:注液部件和进液管;所述注液部件设置在所述真空沉积区内,当所述载体停留在所述真空沉积区内时,所述注液部件在所述升降装置的驱动下上下移动插入所述载体内部的冷却液容纳区内,注入冷却液;所述进液管从外部伸入所述真空沉积区内并与所述注液部件连通,以便于从外部通过所述注液部件向所述冷却液容纳区内注入冷却液。进一步地,还包括:出水部件和出液管;所述注液部件设置在所述载体的一侧,所述出水部件设置在所述载体的另一侧;所述出水部件设置在所述真空沉积区内,当所述载体停留在所述真空沉积区内时,所述出水部件在所述升降装置的驱动下上下移动插入所述载体内部的冷却液容纳区内,以使冷却液流出所述载体;所述出液管从外部伸入所述真空沉积区内并与所述出水部件连通,以便于将所述冷却液容纳区内的冷却液通过出水部件流出。进一步地,所述注液部件和/或出水部件包括:插头;所述载体设有与所述冷却液容纳区连通的液体进口和/或液体出口,所述载体位于所述液体进口和/或液体出口处设有套管;当所述载体停留在所述真空沉积区内时,所述注液部件和/或出水部件的插头在所述升降装置的驱动下与所述注液部件和/或出水部件的套管相互套合。进一步地,所述载体的液体进口和/或液体出口通过橡胶薄膜封堵。进一步地,还包括:冷却液供应装置、供气装置和三通阀门;所述进液管、冷却液供应装置和供气装置分别通过三通阀门连通。进一步地,所述进液管和/或出液管为软管。进一步地,所述升降装置包括:升降杆和密封套;所述升降杆的顶部伸入所述真空沉积区内并可上下移动;所述密封套套设在所述升降杆上与所述真空沉积区衔接密封。进一步地,所述升降装置还包括:升降板,所述升降板设置在所述升降杆的顶部,所述注液部件和/或出水部件固定在所述升降板上。进一步地,所述密封套为弹性密封套。更进一步地,所述密封套为波纹管,所述波纹管的第一端封堵,所述波纹管的第二端与所述真空沉积区连通;所述升降杆的底部与所述波纹管的第一端连接,随所述波纹管上下移动;所述注液部件和/或出水部件固定在所述升降板上。(三)有益效果本专利技术提供的一种气相沉积冷却装置,通过在运载待沉积的基片的载体内设置冷却液容纳区,实现基片的冷却散热,同时通过与外部连通的进液管向处在真空沉积区内的注液部件供应冷却液,并在升降装置的驱动下使注液部件与载体的冷却液容纳区对接插入或抽离,从而实现在真空环境下向连续移动的载体注入冷却液,实现在线气相沉积装置中基片的冷却散热,本专利技术的冷却装置结构简单、操作方便,散热效率高。附图说明图1为本专利技术的一种气相沉积冷却装置的整体示意图;图2为图1中进液管与冷却液供应装置和供气装置的连接结构示意图;图3为图1中载体结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例,对本专利技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实例用于说明本专利技术,但不用来限制本专利技术的范围。在本专利技术的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。图1给出了本专利技术的一种气相沉积冷却装置的结构示意图。本专利技术实施例提供的一种气相沉积冷却装置,可以应用在任一需要对真空环境内进行散热的装置,尤其适用于对处在真空反应室内的基片进行冷却散热的在线式气相沉积装置中。该在线式气相沉积装置通常包括:真空沉积区101和载体102;所述载体102可携带基片103运动至所述真空沉积区101内进行薄膜沉积。在线式气相沉积装置的反应腔室通过真空泵形成高真空的环境,真空沉积区101内设有沉积源(溅射阴极或蒸镀源),载体102在反应腔室内移动,待薄膜沉积的基片103放置在载体102的表面,载体102携带基片103在反应腔室内向前移动,当到达真空沉积区101时停止,此时位于载体102上方的沉积源对基片103进行薄膜沉积。基片103在沉积的过程中会产生大量的热,需要对其进行散热处理。本实施例的气相沉积冷却装置可对处在真空环境下的基片103进行散热处理。如图1所示,该气相沉积冷却装置包括:冷却液注入机构1和升降装置13,所述冷却液注入机构1包括:注液部件11和进液管12。所述注液部件11设置在所述真空沉积区101内,当所述载体102停留在所述真空沉积区101内时,所述注液部件11在所述升降装置13的驱动下上下移动插入所述载体102内部的冷却液容纳区102a内,注入冷却液;所述进液管12从外部伸入所述真空沉积区101内并与所述注液部件11连通,以便于从外部通过所述注液部件11向所述冷却液容纳区102a内注入冷却液。其中,如图3所示,载体102内部设有冷却液容纳区102a,用于注入冷却液,冷却液容纳区102a的容积大小可随载体102的形状而设置,比如载体102可为板状,能够承载多个基片103,相应地,冷却液容纳区102a为长方形空腔,可同时冷却载体102上所承载的基片103,本专利技术实施例对冷却液容纳区102a和载体102的形状不作限定。载体102的长度可随待薄膜沉积的基片103的数量而设定,本专利技术实施对此也不作限定。注液部件11设有注入口,可插入或抽离载体102内部与冷却液容纳区102a连通,当插入载体102内部的冷却液容纳区102a内时,向其内注入冷却液,当基片103薄膜沉本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气相沉积冷却装置,应用于在线式气相沉积装置上,所述在线式气相沉积装置包括:真空沉积区和载体;所述载体可携带基片运动至所述真空沉积区内进行薄膜沉积,其特征在于,包括:冷却液注入机构和升降装置;所述冷却液注入机构包括:注液部件和进液管;所述注液部件设置在所述真空沉积区内,当所述载体停留在所述真空沉积区内时,所述注液部件在所述升降装置的驱动下上下移动插入所述载体内部的冷却液容纳区内,注入冷却液;所述进液管从外部伸入所述真空沉积区内并与所述注液部件连通,以便于从外部通过所述注液部件向所述冷却液容纳区内注入冷却液。

【技术特征摘要】
1.一种气相沉积冷却装置,应用于在线式气相沉积装置上,所述在线式气相沉积装置包括:真空沉积区和载体;所述载体可携带基片运动至所述真空沉积区内进行薄膜沉积,其特征在于,包括:冷却液注入机构和升降装置;所述冷却液注入机构包括:注液部件和进液管;所述注液部件设置在所述真空沉积区内,当所述载体停留在所述真空沉积区内时,所述注液部件在所述升降装置的驱动下上下移动插入所述载体内部的冷却液容纳区内,注入冷却液;所述进液管从外部伸入所述真空沉积区内并与所述注液部件连通,以便于从外部通过所述注液部件向所述冷却液容纳区内注入冷却液。2.如权利要求1所述的气相沉积冷却装置,其特征在于,还包括:出水部件和出液管;所述注液部件设置在所述载体的一侧,所述出水部件设置在所述载体的另一侧;所述出水部件设置在所述真空沉积区内,当所述载体停留在所述真空沉积区内时,所述出水部件在所述升降装置的驱动下上下移动插入所述载体内部的冷却液容纳区内,以使冷却液流出所述载体;所述出液管从外部伸入所述真空沉积区内并与所述出水部件连通,以便于将所述冷却液容纳区内的冷却液通过出水部件流出。3.如权利要求2所述的气相沉积冷却装置,其特征在于,所述注液部件和/或出水部件包括:插头;所述载体设有与所述冷却液容纳区连通的液体进口和/或液体出口,所述载体位于所述液体进口和/或液体出口处设有套管;当所...

【专利技术属性】
技术研发人员:蒲春
申请(专利权)人:北京创昱科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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