一种太阳能电池湿法刻蚀水膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种太阳能电池湿法刻蚀水膜装置，包括若干个微孔滚轮，若干个微孔滚轮转动设置在传动滚轮上方，硅片位于微孔滚轮与传动滚轮之间，微孔滚轮为上下底面贯通的圆柱体，微孔滚轮侧壁上开设多个用于使微孔滚轮内部连接外界环境的微孔。微孔滚轮表面附着的水均匀沾到整个硅片表面从而形成水对硅片表面的完整覆盖，本实用新型专利技术的优势在于一是减少了水膜装置耗水量，二是硅片表面附着水量少，原有的喷射方式覆盖水膜，硅片表面水覆盖较多，硅片上残留的水会流到槽体内稀释药液，从而增加了化学品耗用；三是水膜覆盖均匀，微孔滚轮和硅片整面均匀接触，水膜覆盖整片无死角。

【技术实现步骤摘要】
一种太阳能电池湿法刻蚀水膜装置
本技术涉及一种太阳能电池湿法刻蚀水膜装置，属于太阳能光伏电池制造

技术介绍
硅片在磷扩散形成PN结过程中，虽然采用背靠背扩散，硅片的边缘将不可避免地扩散上磷。PN结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流到PN结的背面而造成短路，所以我们要对扩散后的硅片进行边缘刻蚀。现有的湿法刻蚀机台利用HNO3、HF和H2SO4的混合液体对扩散后硅片边缘进行腐蚀,硅片经过混合液体时采用“水上漂”的方式通过，去除边缘的N型硅,使得硅片的上下表面相互绝缘。为了保护硅片正面不被刻蚀药液腐蚀，会在正面进行水膜保护。现有的刻蚀水膜装置设计如图1所示，硅片进传动滚轮进行传动，上方有水膜装置通过喷嘴喷水，使硅片表面覆盖水膜。此装置的设计缺点一是用水量较多，会有部分水从表面流走；二是水膜表面附着的水容易过多，硅片经过刻蚀槽的过程中，硅片上的水流失到刻蚀槽中稀释药液，从而增加化学品耗用量；三是喷射到硅片表面的水容易覆盖不均匀，甚至边角部位未覆盖到水膜，导致正面背腐蚀，造成产品不良。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种太阳能电池湿法刻蚀水膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种太阳能电池湿法刻蚀水膜装置，其特征在于，包括若干个微孔滚轮（6），若干个所述微孔滚轮（6）转动设置在传动滚轮（3）上方，硅片位于所述微孔滚轮（6）与传动滚轮（3）之间，所述微孔滚轮（6）为上下底面贯通的圆柱体，所述微孔滚轮（6）侧壁上开设多个用于使所述微孔滚轮（6）内部连接外界环境的微孔（4）。

【技术特征摘要】
1.一种太阳能电池湿法刻蚀水膜装置，其特征在于，包括若干个微孔滚轮（6），若干个所述微孔滚轮（6）转动设置在传动滚轮（3）上方，硅片位于所述微孔滚轮（6）与传动滚轮（3）之间，所述微孔滚轮（6）为上下底面贯通的圆柱体，所述微孔滚轮（6）侧壁上开设多个用于使所述微孔滚轮（6）内部连接外界环境的微孔（4）。2.根据权利要求1所述的一种太阳能电池湿法刻蚀水膜装置，其特征在于，多个所述微孔（4）等间距均匀分布在所述微孔滚轮（6）上。3.根据权利要求1所述的一种太阳能电池湿法刻蚀水膜装置，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：柯希满，童锐，张满良，
申请(专利权)人：南通苏民新能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32