蒸发源、蒸镀设备及蒸镀控制方法技术

本发明专利技术提供了一种蒸发源、蒸镀设备及蒸镀控制方法，该蒸发源包括：坩埚，所述坩埚具有用于盛放蒸镀材料的容置腔，且所述容置腔包括多个蒸镀区；加热单元，用于加热所述坩埚内的蒸镀材料，设置于所述坩埚上；检测部件，用于检测各所述蒸镀区的蒸镀状态，设置在所述坩埚上，所述蒸镀状态包括蒸镀速率；用于对各蒸镀区的蒸镀温度进行调节的调温部件，设置在所述坩埚上；以及，用于根据所述检测部件所检测到的各所述蒸镀区的蒸镀状态，控制所述调温部件对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节的控制单元，所述控制单元与所述检测部件和所述调温部件分别连接。本发明专利技术能够实时监控坩埚内蒸镀状态，实现膜厚均一性可控的目的。

Evaporation source, evaporation equipment and control method of evaporation

【技术实现步骤摘要】
蒸发源、蒸镀设备及蒸镀控制方法
本专利技术涉及显示器制造
，尤其涉及一种蒸发源、蒸镀设备及蒸镀控制方法。
技术介绍
真空蒸镀是目前制备OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)器件的主要制备方式，真空蒸镀设备利用热蒸发的方式使得有机发光材料沉积在基板上，形成均匀致密的薄膜。蒸镀有机材料的蒸发源装置对于蒸镀有机材料的膜层起到至关重要的作用，现有技术中蒸发源装置存在以下问题：现有技术中蒸发源装置的坩埚内蒸镀材料的消耗速率无法实时监控，对于蒸镀速率不能实时调整，膜厚均一性不可控；此外，当坩埚内的蒸镀材料低于一定量时，影响蒸镀产品特性，因此通常坩埚内会有一定的剩余量，当坩埚内的蒸镀材料剩余量过多时，由于OLED用蒸镀材料价格昂贵，会导致材料的浪费，增加生产的成本，而当坩埚内蒸镀材料剩余量偏小时，又会影响产品的特性；此外，坩埚内的喷嘴有时会发生堵塞等异常，而现有技术中不能及时发现喷嘴堵塞等异常，而导致产品特性受影响。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种蒸发源、蒸镀设备及蒸镀控制方法，能够实现蒸镀过程中蒸镀温度可调，达到膜厚均一性可控的目的。本专利技术所提供的技术方案如下：一种蒸发源，包括：坩埚，所述坩埚具有用于盛放蒸镀材料的容置腔，且所述容置腔包括多个蒸镀区；加热部件，用于加热所述坩埚内的蒸镀材料，设置于所述坩埚上；检测部件，用于检测各所述蒸镀区的蒸镀状态，设置在所述坩埚上，所述蒸镀状态包括蒸镀速率；调温部件，用于对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节，设置在所述坩埚上；以及，控制单元，用于根据所述检测部件所检测到的各所述蒸镀区的所述蒸镀状态，控制所述调温部件对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节，所述控制单元与所述检测部件和所述调温部件分别连接。进一步的，所述检测部件包括：用于检测所述坩埚的各所述蒸镀区盛放的蒸镀材料量的多个第一感应器，所述多个第一感应器设置在所述坩埚上，且每一所述蒸镀区对应设置至少一个所述第一感应器；以及，第一处理器，用于根据所述第一感应器所检测到的各所述蒸镀区内盛放的蒸镀材料量以及各所述蒸镀区的蒸镀时间，获取各所述蒸镀区的蒸镀速率。进一步的，所述第一感应器包括重量感应器，所述重量感应器设置在所述坩埚的底部、且对应于各所述蒸镀区设置，用于检测各所述蒸镀区盛放的蒸镀材料的重量。进一步的，所述调温部件包括：至少一块反射板，所述反射板在所述蒸镀区对应位置时，能够提高所述反射板当前所对应的蒸镀区内的蒸镀温度；以及，移动组件，用于移动所述反射板，所述移动组件包括沿多个所述蒸镀区的排列方向延伸的轨道，所述反射板可移动地设置在所述轨道上；所述控制单元包括：第二处理器，与所述移动组件和所述检测部件连接，用于当所述检测部件检测到第一预定蒸镀区的蒸镀速率在第一预定连续时间段内低于其他所述蒸镀区的蒸镀速率时，控制所述移动组件的工作状态，以将所述反射板移动至所述第一预定蒸镀区对应的位置，所述移动组件的工作状态包括移动所述反射板时的移动方向和移动速率。进一步的，所述蒸发源为线性蒸发源，所述坩埚包括坩埚本体和设置在所述坩埚本体外的外罩，所述坩埚本体内具有所述容置腔，且所述容置腔内设置有多个栅状纵向分隔板，所述多个栅状纵向分隔板从所述坩埚本体的顶部向所述坩埚本体的底部延伸，以将所述坩埚本体的容置腔分隔为沿预定直线方向依次排列的多个所述蒸镀区，且在所述坩埚本体或所述外罩的顶部设置有多个喷嘴，相邻两个所述喷嘴之间对应地设置一个所述栅状纵向分隔板，在所述坩埚本体的容置腔的底部、各所述蒸镀区相贯通；所述轨道和所述反射板设置在所述坩埚本体的外部，所述轨道沿所述预定直线方向延伸。进一步的，所述蒸发源为点状蒸发源，所述坩埚包括沿预定圆周方向依次排列的多个坩埚本体，每一所述坩埚本体形成一个所述蒸镀区，每一所述坩埚本体的顶部对应设置有一个喷嘴，所述轨道和所述反射板设置在所述坩埚本体外，且所述轨道沿所述预定圆周方向延伸。进一步的，所述控制单元还包括：第三处理器，与所述第一感应器和所述第一处理器连接，用于当所述第一感应器检测到所述蒸镀区内盛放的蒸镀材料量小于预设材料量时，接收所述第一处理器所获取的所述蒸镀速率，并当所述蒸镀速率低于第一预设蒸镀速率时，将所述第一感应器所检测到的当前蒸镀材料量确定为最低材料剩余量。进一步的，所述控制单元还包括：第四处理器，与所述第一感应器和所述第一处理器连接，用于当所述第一感应器检测到所述蒸镀区内盛放的蒸镀材料量大于或等于预设材料量时，接收所述第一处理器所获取的所述蒸镀速率，并当检测到第二预定蒸镀区的所述蒸镀速率在超过第二预定连续时间段低于第二预设蒸镀速率时，发送所述第二预定蒸镀区存在异常的报警信号。一种蒸镀设备，包括如上所述的蒸发源。一种蒸镀控制方法，所述方法包括：在蒸镀过程中，检测所述坩埚内各所述蒸镀区的蒸镀状态，所述蒸镀状态包括蒸镀速率；根据所检测到的各所述蒸镀区的蒸镀状态，对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节，以使各所述蒸镀区之间的蒸镀速率差值低于预设速率差值。进一步的，所述检测所述坩埚内各所述蒸镀区的蒸镀状态，具体包括：检测所述坩埚内的各所述蒸镀区盛放的蒸镀材料量；根据所检测到的各所述蒸镀区内盛放的蒸镀材料量以及各所述蒸镀区的蒸镀时间，获取各所述蒸镀区的蒸镀速率。进一步的，所述根据所检测到的各所述蒸镀区的蒸镀状态，对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节，具体包括：当检测到第一预定蒸镀区的蒸镀速率在第一预定连续时间段内低于其他所述蒸镀区的蒸镀速率时，控制移动组件的工作状态，将反射板移动至所述第一预定蒸镀区对应的位置，所述移动组件的工作状态包括移动所述反射板时的移动方向和移动速率。进一步的，所述方法还包括：当检测到所述蒸镀区内盛放的蒸镀材料量小于预设材料量，且所述蒸镀速率低于第一预设蒸镀速率时，将所述坩埚的当前蒸镀材料量确定为最低材料剩余量。进一步的，所述方法还包括：当检测到所述蒸镀区内盛放的蒸镀材料量大于或等于预设材料量，且检测到第二预定蒸镀区的蒸镀速率在超过第二预定连续时间段低于第二预设蒸镀速率时，发送所述第二预定蒸镀区存在异常的报警信号。本专利技术的有益效果如下：本专利技术所提供的蒸发源、蒸镀设备及蒸镀控制方法，能够实时监控坩埚内各蒸镀区的蒸镀速率，并通过调温部件来调整各蒸镀区的蒸镀温度，从而使得坩埚内各蒸镀区的蒸镀温度保持一致或者在一定温差范围内，实现蒸镀膜厚均一性可控的目的，提高产品良率。附图说明图1表示本专利技术第一种实施例中所提供的线性蒸发源的结构示意图；图2表示本专利技术第一种实施例中所提供的线性蒸发源中坩埚底部的仰视图；图3表示本专利技术第一种实施例中所提供的线性蒸发源中反射板及轨道的结构示意图；图4表示本专利技术第一种实施例中所提供的点状蒸发源的结构示意图，其中未示意出反射板及轨道；图5表示本专利技术第一种实施例中所提供的线性蒸发源的俯视图，其中示意了反射板及轨道。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例的附图，对本专利技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本专利技术的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。针对现有技术中蒸镀设备的坩埚内蒸镀本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸发源，其特征在于，包括：坩埚，所述坩埚具有用于盛放蒸镀材料的容置腔，且所述容置腔包括多个蒸镀区；加热部件，用于加热所述坩埚内的蒸镀材料，设置于所述坩埚上；检测部件，用于检测各所述蒸镀区的蒸镀状态，设置在所述坩埚上，所述蒸镀状态包括蒸镀速率；调温部件，用于对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节，设置在所述坩埚上；以及，控制单元，用于根据所述检测部件所检测到的各所述蒸镀区的所述蒸镀状态，控制所述调温部件对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节，所述控制单元与所述检测部件和所述调温部件分别连接。

【技术特征摘要】
1.一种蒸发源，其特征在于，包括：坩埚，所述坩埚具有用于盛放蒸镀材料的容置腔，且所述容置腔包括多个蒸镀区；加热部件，用于加热所述坩埚内的蒸镀材料，设置于所述坩埚上；检测部件，用于检测各所述蒸镀区的蒸镀状态，设置在所述坩埚上，所述蒸镀状态包括蒸镀速率；调温部件，用于对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节，设置在所述坩埚上；以及，控制单元，用于根据所述检测部件所检测到的各所述蒸镀区的所述蒸镀状态，控制所述调温部件对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节，所述控制单元与所述检测部件和所述调温部件分别连接。2.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述检测部件包括：用于检测所述坩埚的各所述蒸镀区盛放的蒸镀材料量的多个第一感应器，所述多个第一感应器设置在所述坩埚上，且每一所述蒸镀区对应设置至少一个所述第一感应器；以及，第一处理器，用于根据所述第一感应器所检测到的各所述蒸镀区内盛放的蒸镀材料量以及各所述蒸镀区的蒸镀时间，获取各所述蒸镀区的蒸镀速率。3.根据权利要求2所述的蒸发源，其特征在于，所述第一感应器包括重量感应器，所述重量感应器设置在所述坩埚的底部、且对应于各所述蒸镀区设置，用于检测各所述蒸镀区盛放的蒸镀材料的重量。4.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述调温部件包括：至少一块反射板，所述反射板在所述蒸镀区对应位置时，能够提高所述反射板当前所对应的蒸镀区内的蒸镀温度；以及，移动组件，用于移动所述反射板，所述移动组件包括沿多个所述蒸镀区的排列方向延伸的轨道，所述反射板可移动地设置在所述轨道上；所述控制单元包括：第二处理器，与所述移动组件和所述检测部件连接，用于当所述检测部件检测到第一预定蒸镀区的蒸镀速率在第一预定连续时间段内低于其他所述蒸镀区的蒸镀速率时，控制所述移动组件的工作状态，以将所述反射板移动至所述第一预定蒸镀区对应的位置，所述移动组件的工作状态包括移动所述反射板时的移动方向和移动速率。5.根据权利要求4所述的蒸发源，其特征在于，所述蒸发源为线性蒸发源，所述坩埚包括坩埚本体和设置在所述坩埚本体外的外罩，所述坩埚本体内具有所述容置腔，且所述容置腔内设置有多个栅状纵向分隔板，所述多个栅状纵向分隔板从所述坩埚本体的顶部向所述坩埚本体的底部延伸，以将所述坩埚本体的容置腔分隔为沿预定直线方向依次排列的多个所述蒸镀区，且在所述坩埚本体或所述外罩的顶部设置有多个喷嘴，相邻两个所述喷嘴之间对应地设置一个所述栅状纵向分隔板，在所述坩埚本体的容置腔的底部、各所述蒸镀区相贯通；所述轨道和所述反射板设置在所述坩埚本体的外部，所述轨道沿所述预定直线方向延伸。6.根据权利要求4所述的蒸发源，其特征在于，所述蒸发源为点状蒸发源，所述坩埚包括沿预定圆周方向依次排列的多个坩埚本...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵子仪，张金中，黄俊杰，裴凤巍，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11