坩埚及蒸镀装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种坩埚及蒸镀装置，属于蒸镀技术领域。所述坩埚包括：坩埚本体和坩埚盖，坩埚本体上设置有出口，坩埚盖覆盖出口；坩埚盖包括：弹性圈，弹性圈上的中空部分连通出口，中空部分靠近坩埚本体一端的开口面积大于远离坩埚本体一端的开口面积。本发明专利技术解决了在沉积物会堵塞蒸发孔而导致基板上形成厚度不均匀的膜层，从而容易影响膜层品质的问题。本发明专利技术用于蒸镀膜层。

Crucible and evaporation device

The invention provides a crucible and a steam plating device, which belongs to the field of evaporation and plating. Including the crucible crucible and a crucible cover body, a crucible body is provided with an outlet, the crucible lid covers the outlet; the crucible cover comprises an elastic ring, the hollow part elastic ring is communicated with the export, open area near one end of the hollow part of the crucible body is larger than the opening area away from one end of the main body of the crucible. The invention solves the problem that the thickness of the substrate is not uniform on the substrate, which can easily affect the quality of the film. The invention is used for the coating layer.

【技术实现步骤摘要】
坩埚及蒸镀装置
本专利技术涉及蒸镀
，特别涉及一种坩埚及蒸镀装置。
技术介绍
随着科技的发展，蒸镀装置在各个产业中均得到了广泛的应用，例如，蒸镀装置广泛应用于光伏、显示以及包装等产业。蒸镀装置通常包括坩埚本体以及坩埚盖，其中，坩埚盖覆盖坩埚本体的出口，且坩埚盖上设置有蒸发孔。在使用蒸镀装置在基板上形成膜层时，可以将基板放置在蒸镀装置的正上方。然后，可以在坩埚本体中装入蒸镀材料，并对坩埚本体进行加热，使得蒸镀材料通过蒸发孔蒸发至基板。需要说明的是，由于蒸镀材料中通常存在较大的颗粒，且蒸镀材料在温度控制不当时易形成结块，因此，在蒸镀材料通过蒸发孔时，较大颗粒的蒸镀材料和结块的蒸镀材料通常会沉积在坩埚盖中蒸发孔的内壁，进而在蒸发孔内壁形成沉积物。由于沉积物会堵塞蒸发孔，因此，蒸发孔的开口面积和蒸镀材料的蒸发速率会变小，使得蒸镀材料在基板上的凝聚速率及凝聚面积均变小，从而导致基板上形成厚度不均匀的膜层，容易影响膜层品质。
技术实现思路
本专利技术提供了一种坩埚及蒸镀装置，可以解决相关技术中由于沉积物会堵塞蒸发孔而导致基板上形成厚度不均匀的膜层，容易影响膜层品质的问题，所述技术方案如下：一方面，提供了一种坩埚，所述坩埚包括：坩埚本体和坩埚盖，所述坩埚本体上设置有出口，所述坩埚盖覆盖所述出口；所述坩埚盖包括：弹性圈，所述弹性圈上的中空部分连通所述出口，所述中空部分靠近所述坩埚本体一端的开口面积大于远离所述坩埚本体一端的开口面积。可选的，所述坩埚盖还包括：n个内衬片，n≥3，所述n个内衬片均贴附在所述弹性圈的内壁，且每个所述内衬片远离所述内壁的表面为目标表面，所述目标表面的摩擦系数小于所述弹性圈的内壁的摩擦系数。可选的，所述坩埚盖还包括：盖体，所述盖体和所述弹性圈均为环形结构，且所述弹性圈套接在所述盖体内。可选的，所述中空部分呈圆台状。可选的，所述弹性圈的轴线与所述中空部分的轴线共线。可选的，所述出口呈圆形，且所述出口的圆心位于所述中空部分的轴线上。可选的，所述n个内衬片均匀的贴附在所述弹性圈的内壁。可选的，所述内衬片的材质为金属。可选的，所述弹性圈的材质为硼硅橡胶。另一方面，提供了一种蒸镀装置，所述蒸镀装置包括上述坩埚。本专利技术提供的技术方案带来的有益效果是：在本专利技术实施例提供的坩埚中，由于中空部分靠近坩埚本体一端的开口面积大于其另一端的面积，因此通孔内壁为靠近坩埚本体的斜壁。在使用该坩埚的过程中，弹性圈的内壁一侧形成有沉积物时，坩埚本体内的压强会增大，在该压强的作用下弹性圈的内壁会受到向外扩张的力，使得弹性圈向外扩张。并且在弹性圈向外扩张过程中，沉积物会随着弹性圈的运动，脱离弹性圈并跌落至坩埚本体内，从而避免了因沉积物堵塞中空部分而导致基板上形成的膜层品质较低。另外，在弹性圈的内壁一侧形成的沉积物完全堵塞中空部分时，坩埚本体内压强会持续增大，在持续增大的压强的作用下，弹性圈的内壁会受到持续增大的向外扩张的力，使得弹性圈向外扩张的程持续增大。在弹性圈的扩张程度持续增大时，弹性圈对其内壁一侧的沉积物的支撑力会逐渐减小，在该支撑力减小到一定程度时，沉积物会跌落至坩埚内，从而避免了因持续增大的压强导致沉积物爆出坩埚，进而避免了膜层的浪费和装置的损坏。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本申请。附图说明为了更清楚地说明本公开的实施例，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为一种相关技术提供的一种蒸镀装置的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种坩埚的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的一种坩埚的俯视图；图4为本专利技术实施例提供的一种受力情况示意图；图5为本专利技术实施例提供的一种被堵塞的坩埚的结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的另一种被堵塞的坩埚的结构示意图。此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。具体实施方式为了使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本公开作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部份实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本公开保护的范围。蒸镀装置在各个产业中均得到了广泛的应用，且通常会使用蒸镀装置来镀膜。示例的，请参考图1，蒸镀装置通常包括装置外壳101、多个加热线圈102、坩埚本体103以及坩埚盖105，其中，加热线圈102、坩埚本体103和坩埚盖105均设置在装置外壳内，且坩埚盖105覆盖坩埚本体103的出口，坩埚盖105上设置有蒸发孔105A。在使用蒸镀装置10在基板11上形成膜层12时，通常需要在坩埚本体103内装入蒸镀材料104，并将基板11放置在蒸镀装置10的正上方。然后，采用加热线圈102对坩埚本体103内的蒸镀材料104进行加热，以使得蒸镀材料104通过蒸发孔105A蒸发至基板11，从而在基板11上形成膜层12。但是，在使用蒸镀装置10往基板11上形成膜层12时，通常会在坩埚盖105的内壁上形成沉积物106。由于沉积物106会堵塞蒸发孔105A，会使得蒸镀材料在基板上的凝聚速率及凝聚面积均变小，从而导致基板上形成厚度不均匀的膜层，容易影响膜层品质。另外，在沉积物106过多而导致蒸发孔105A被完全堵塞时，坩埚本体103内的压强会持续增大，在压强上升都一定程度时会使得沉积物106爆出蒸发孔105A，从而导致膜层30和蒸镀装置10的损坏，容易造成浪费以及影响蒸镀装置10的使用寿命。为了解决沉积物堵塞蒸发孔的问题，相关技术存在三种解决手段：第一种手段是通过提高蒸镀温度使得被蒸发的蒸镀材料增多，从而增大坩埚本体内的压强，进而使得蒸镀材料爆出蒸发孔并冲散沉积物，但该种手段的控制难度较大且容易造成蒸镀材料的浪费。第二种手段是对坩埚内蒸发孔进行定点加热，使得沉积物二次挥发掉，但该种手段难以保证蒸镀材料稳定的蒸镀速率。第三种手段是在沉积物堵塞蒸发孔时，暂停蒸镀进程并清理沉积物，但该种手段容易影响镀膜工艺的进程。本专利技术实施例提供了一种坩埚，能够解决沉积物堵塞蒸发孔的问题，且不会出现上述三种手段中出现的问题。图2为本专利技术实施例提供的一种坩埚的结构示意图，图3为本专利技术实施例提供的一种坩埚的俯视图，请结合图2和图3，该坩埚20可以包括：坩埚本体201和坩埚盖202，坩埚本体201上设置有出口201A，且坩埚盖202覆盖出口201A。坩埚盖202可以包括：弹性圈202A，弹性圈202A上的中空部分202A1连通出口201A，中空部分202A1靠近坩埚本体201一端的开口面积大于远离坩埚本体201一端的开口面积。综上所述，在本专利技术实施例提供的坩埚中，由于中空部分靠近坩埚本体一端的开口面积大于其另一端的面积，因此通孔内壁为靠近坩埚本体的斜壁。在使用该坩埚的过程中，弹性圈的内壁一侧形成有沉积物时，坩埚本体内的压强会增大，在该压强的作用下弹性圈的内壁会受到向外扩张的力，使得弹性圈向外扩张。并且在弹性圈向外扩张过程中，沉积物会随着弹性圈的运动，脱离弹本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种坩埚，其特征在于，所述坩埚包括：坩埚本体和坩埚盖，所述坩埚本体上设置有出口，所述坩埚盖覆盖所述出口；所述坩埚盖包括：弹性圈，所述弹性圈上的中空部分连通所述出口，所述中空部分靠近所述坩埚本体一端的开口面积大于远离所述坩埚本体一端的开口面积。

【技术特征摘要】
1.一种坩埚，其特征在于，所述坩埚包括：坩埚本体和坩埚盖，所述坩埚本体上设置有出口，所述坩埚盖覆盖所述出口；所述坩埚盖包括：弹性圈，所述弹性圈上的中空部分连通所述出口，所述中空部分靠近所述坩埚本体一端的开口面积大于远离所述坩埚本体一端的开口面积。2.根据权利要求1所述的坩埚，其特征在于，所述坩埚盖还包括：n个内衬片，n≥3，所述n个内衬片均贴附在所述弹性圈的内壁，且每个所述内衬片远离所述内壁的表面为目标表面，所述目标表面的摩擦系数小于所述弹性圈的内壁的摩擦系数。3.根据权利要求1或2所述的坩埚，其特征在于，所述坩埚盖还包括：盖体，所述盖体和所述弹性圈均为环形结构，且所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴新风，王欣竹，胡友元，李菲，栾梦雨，李慧慧，赵程鹏，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34