单位掩膜、其制造方法及包括其的掩膜组件技术

本发明专利技术提供了一种单位掩膜、其制造方法及包括其的掩膜组件。单位掩膜包括：掩膜体，沿长度方向和宽度方向延伸，并且在掩膜体上形成有掩膜图案；以及夹紧部，沿掩膜体的长度方向从掩膜体的端部延伸出，其中，在夹紧部上形成有防滑图案。该单位掩膜能够提高使用夹具夹持并拉伸单位掩膜时的张网精度。

A unit mask, a manufacturing method, and a mask assembly including it

The present invention provides a unit mask, a manufacturing method, and a mask assembly including it. The unit mask includes: the mask body extends along the length direction and the width direction, and a mask pattern is formed on the mask body, and the clamping part extends from the end of the mask body along the length direction of the mask body, wherein, the slip part is formed on the clamping part. The unit mask can improve the mesh precision when clamping and stretching the unit mask.

【技术实现步骤摘要】
单位掩膜、其制造方法及包括其的掩膜组件
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种单位掩膜、其制造方法及包括其的掩膜组件。
技术介绍
在诸如液晶显示装置(LCD)和有机发光显示装置(OLED)的制造过程中，通常使用利用诸如精细金属掩膜板(FMM)的掩膜组件的蒸镀法来形成有特定图案的有机层或金属层。掩膜组件通常包括多个单位掩膜(即，掩膜条)和支撑多个单位掩膜的掩膜框架。使用夹具(张紧器)夹持单位掩膜并向外拉伸，达到预定参数后，将单位掩膜通过例如焊接固定到掩膜框架上，从而形成掩膜组件。这一过程通常被称为张网。为了精确地布置单位掩膜而防止蒸镀不良，需要提高张网精度。
技术实现思路
本专利技术提供了一种单位掩膜、其制造方法以及包括其的掩膜组件，能够提高在使用夹具夹持并拉伸单位掩膜来制造掩膜组件时的张网精度。根据本专利技术的一方面，提供了一种单位掩膜，包括：掩膜体，沿长度方向和宽度方向延伸，并且在掩膜体上形成有掩膜图案；以及夹紧部，沿掩膜体的长度方向从掩膜体的端部延伸出，其中，在夹紧部上形成有防滑图案。根据本专利技术的实施例，防滑图案可以包括形成在夹紧部上的多个突起。根据本专利技术的实施例，多个突起本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单位掩膜，包括：掩膜体，沿长度方向和宽度方向延伸，并且在掩膜体上形成有掩膜图案；以及夹紧部，沿掩膜体的长度方向从掩膜体的端部延伸出，其中，在夹紧部上形成有防滑图案。

【技术特征摘要】
1.一种单位掩膜，包括：掩膜体，沿长度方向和宽度方向延伸，并且在掩膜体上形成有掩膜图案；以及夹紧部，沿掩膜体的长度方向从掩膜体的端部延伸出，其中，在夹紧部上形成有防滑图案。2.根据权利要求1所述的单位掩膜，其中，防滑图案包括形成在夹紧部上的多个突起。3.根据权利要求2所述的单位掩膜，其中，所述多个突起通过刻蚀工艺形成。4.根据权利要求2所述的单位掩膜，其中，沿着垂直于夹紧部的表面的方向观看，突起包括条形、圆形、四边形和＜形中的至少一种形状。5.根据权利要求2所述的单位掩膜，其中，突起的上端与掩膜体的表面位于同一平面上。6.根据权利要求1所述的单位掩膜，其中，夹紧部包括彼此相对的第一侧和第二侧，防滑图案形成在第一侧和第二侧中的至少一侧上。7.根据权利要求1所述的单位掩膜，其中，从掩膜体的一个端部延伸出的夹紧部包括成对的...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕守华，黄俊杰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11