蒸镀源、蒸镀装置和蒸镀膜制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够在成膜分布均匀的同时实现高的蒸镀材料利用效率的线源。线源(10)上设置的狭缝喷嘴(1)的长度/宽度比率为4～50，狭缝喷嘴(1)的宽度为1mm～5mm，狭缝喷嘴(1)的深度为5mm～20mm。

The manufacturing method of evaporation source, evaporation device and evaporation film

The present invention provides a line source that can achieve high utilization efficiency of the steamed material at the same time when the distribution of the film is evenly distributed. The length / width ratio of slit nozzle (1) set on line source (10) is 4~50, the width of slit nozzle (1) is 1mm ~ 5mm, and the depth of slit nozzle (1) is 5mm ~ 20mm.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】蒸镀源、蒸镀装置和蒸镀膜制造方法
本专利技术涉及具备将蒸镀材料以蒸镀颗粒的形式射出的孔(以下称为“喷嘴”)的蒸镀源、具备上述蒸镀源的蒸镀装置、和使用上述蒸镀源的蒸镀膜制造方法。
技术介绍
近年来，开发了各种平板显示器，特别是有机EL(Electroluminescence：电致发光)显示装置，从能够实现低耗电化、薄型化和高画质化等的方面来看，作为优异的平板显示器受到高度关注。在这样的有机EL显示装置的领域，从显示画面的大型化和抑制制造成本的观点出发，优选使用更大型的母基板。在作为这样的大面积基板的大型的母基板上进行蒸镀膜的成膜的情况下，使用被称为“线源(linesource)”或“线性源(linearsource)”的蒸镀源。上述蒸镀源沿一个方向配置有将蒸镀材料以蒸镀颗粒的形式射出的喷嘴，因此，通常第一方向的蒸镀源的长度比与上述第一方向正交且蒸镀源或基板移动的第二方向的蒸镀源的长度长。此外，下面，将在大型的母基板上进行蒸镀膜的成膜的情况下使用的蒸镀源称为“线源”。图10的(a)是表示以往的线源的概略形状的俯视图，图10的(b)是表示以往的线源的概略形状的立体图。在大型的母基板上进行蒸镀膜的成膜的情况下，使所形成的蒸镀膜的膜厚分布均匀是非常重要的，因此，如图10的(a)和图10的(b)所示，通常在线源100上设置有多个将蒸镀材料以蒸镀颗粒的形式射出的圆形的喷嘴101。线源100的加热方法等没有特别限定，通过被加热，将蒸镀材料以蒸镀颗粒的形式经由喷嘴101射出至外部。线源100的材质没有特别限定，通常使用由热的影响导致的伸缩少的材质。线源100的形状为图中X方向的长度比与上述X方向正交的图中Y方向的长度长的形状。从线源100的射出面的各个喷嘴101射出的蒸镀颗粒在基板上重叠，由此，能够进行大面积的均匀的蒸镀。现有技术文献专利文献专利文献1：日本公开特许公报“特开2003-297570号公报(2003年10月17日公开)”专利文献2：日本特许公报“特公平7-93249号公报(1995年10月9日公告)”
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题但是，在使用图10的(a)和图10的(b)所示的以往的线源100的情况下，会产生蒸镀材料的利用效率差的问题。图11的(a)和图11的(b)是用于说明在使用以往的线源100的情况下，蒸镀材料的利用效率变差的理由的图。在以往的线源100(参照图10的(a)和图10的(b))中，通常设置有圆形的喷嘴101。在这样设置有圆形的喷嘴101的情况下，如图11的(a)所示，在图中X方向，从各个喷嘴101射出的蒸镀颗粒一边大幅地扩展一边射出。因此，为了防止蒸镀颗粒扩展到作为不存在基板104的区域的非蒸镀区域，在蒸镀颗粒飞散的方向上设置有防附着板102。在作为存在基板104的区域的蒸镀区域，使蒸镀颗粒通过掩模103蒸镀到基板104上，由此，能够在基板104的整个宽度方向上形成规定形状的蒸镀膜。在此，当考虑图中X方向的蒸镀材料的利用效率时可知，线源100的长轴方向(图中X方向)的长度与基板104的宽度大致相同，因此，扩展后的蒸镀颗粒大部分到达作为存在基板104的区域的蒸镀区域而被有效利用的比例高。即，一部分蒸镀颗粒，具体地说，从在靠近线源100的长轴方向(图中X方向)的偏离中心的两端的区域设置的喷嘴101射出的蒸镀颗粒的一部分未到达基板104而附着在防附着板102上，或者在没有形成防附着板102的部位直接飞散到真空腔室内。另一方面，线源100，如图11的(b)所示，沿基板104的长度方向、即图中的线源的移动方向中的任一方向移动，但是在线源100通过基板104上的非蒸镀区域时不射出蒸镀颗粒，仅在线源100处于基板104上的蒸镀区域时射出蒸镀颗粒。如上所述，在以往的线源100中设置有圆形的喷嘴101，因此，在图中Y方向，从各个喷嘴101射出的蒸镀颗粒也一边大幅地扩展一边射出，为了防止蒸镀颗粒扩展到基板104上的非蒸镀区域，设置有防附着板105。在此，当考虑图中Y方向的蒸镀材料的利用效率时，线源100的短轴方向(图中Y方向)的长度与基板104的长度相比，非常短，线源100与基板104相对的部分也很小，因此，基板104上的蒸镀区域为极少一部分，非蒸镀区域占大半。从喷嘴101射出的蒸镀颗粒中未到达基板104上的蒸镀区域的蒸镀颗粒，全部会导致材料的损失，并且会附着在防附着板105上，或者在没有形成防附着板105的部位会直接飞散到真空腔室内。因此可知，从各个喷嘴101射出并扩展后的蒸镀颗粒大部分未到达基板104上的蒸镀区域，蒸镀颗粒被有效利用的比例低。为了改善这样的问题，也可考虑使线源100的短轴方向(图中Y方向)的长度更长，使基板104上的蒸镀区域大幅地扩大，但是，在这样做的情况下，会导致蒸镀装置的极端大型化和量产性的降低。而且，在近年的有机EL显示装置的情况下，有可能对其器件特性造成不良影响，或者在使用FMM(FineMetalMask：精细金属掩模)这样的掩模分涂方法的情况下有可能产生阴影等，因此，需要将蒸镀颗粒相对于基板104的入射角限制得高，线源100的在短轴方向(图中Y方向)的长度越来越受到限制。如以上所述，以往的线源100，结果会引起显著的蒸镀材料的利用效率的降低。另外，在专利文献1和2中，记载有具备与圆形不同的喷嘴形状(开口形状)的情况。在专利文献1中记载有：通过改变蒸气流出开口部的尺寸和相邻的蒸气流出开口部之间的间隔中的至少一者，实质性地改善沿线源的长度方向储存的蒸镀材料的射出量的均匀性。图12是表示构成专利文献1中公开的线源的气化加热器和电绝缘性容器的概略结构的图。如图所示，装入有固体有机材料的细长的电绝缘性容器230由侧壁232、与侧壁232相对的侧壁(未图示)、末端壁236、238和底壁235划定，上述侧壁和上述末端壁共有共同的上表面。形成电绝缘性容器230的盖的气化加热器240，通过形成气化加热器240的一部分的密封凸缘246，密封配置在电绝缘性容器230的共同上表面之上。气化加热器240实质上为平面状，且具备电连接凸缘241、243。多个蒸气流出开口部242形成在沿气化加热器240的长度方向的中心，贯通气化加热器240，使在电绝缘性容器230内形成的有机材料的蒸气从蒸气流出开口部242流出。如图所示，多个蒸气流出开口部242中的一部分形成为长度和宽度不同的狭缝形状。但是，就蒸气流出开口部242的长度和宽度而言，因为仅考虑了实质性地改善沿线源的长度方向储存的蒸镀材料的射出量的均匀性，所以至少在与线源的短轴方向平行地排列的蒸气流出开口部242的宽度方向上，没有规定成使得能够将蒸镀颗粒的飞散范围控制得窄。另外，线源的长度方向的中央部分的蒸气流出开口部242也不是狭缝形状。另外，对于在气化加热器240上形成的蒸气流出开口部242的深度也没有特别地考虑，对于在与线源的短轴方向平行地排列的蒸气流出开口部242的宽度方向上，能够将蒸镀颗粒的飞散范围控制得窄的深度没有规定。因此，专利文献1中公开的蒸气流出开口部242中的各个蒸气流出开口部242，不是在蒸气流出开口部242的长度方向和蒸气流出开口部242的宽度方向上能够得到充分的各向异性效果的特定的狭缝形状，因此，在使用专利文献1中公开的线本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀源，在该蒸镀源的一个面上形成有射出蒸镀颗粒的多个开口部，该蒸镀源的第一方向的长度比在同一平面内与所述第一方向正交的第二方向的长度长，所述蒸镀源的特征在于：所述多个开口部中的各个开口部，由与所述第一方向平行且相互相对的相同长度的2个第一边和与所述第二方向平行且相互相对的相同长度的2个第二边包围而形成为狭缝形状，并且，沿所述第一方向以一定间隔形成为直线状，所述第一边的长度为所述第二边的长度的4倍以上50倍以下，所述第二边的长度为1mm以上5mm以下，与所述第一方向及所述第二方向正交的第三方向上的所述开口部的深度为5mm以上20mm以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.07.28 JP 2015-1489661.一种蒸镀源，在该蒸镀源的一个面上形成有射出蒸镀颗粒的多个开口部，该蒸镀源的第一方向的长度比在同一平面内与所述第一方向正交的第二方向的长度长，所述蒸镀源的特征在于：所述多个开口部中的各个开口部，由与所述第一方向平行且相互相对的相同长度的2个第一边和与所述第二方向平行且相互相对的相同长度的2个第二边包围而形成为狭缝形状，并且，沿所述第一方向以一定间隔形成为直线状，所述第一边的长度为所述第二边的长度的4倍以上50倍以下，所述第二边的长度为1mm以上5mm以下，与所述第一方向及所述第二方向正交的第三方向上的所述开口部的深度为5mm以上20mm以下。2.如权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于：所述第一边的长度为所述第二边的长度的10倍以上。3.如权利要求1或2所述的蒸镀源，其特征在于：所述第一边的长度为所述第二边的长度的30倍以下。4.如权利要求1～3中任一项所述的蒸镀源，其特征在于：在所述一个面上，所述多个开口部设置有至少5个以上。5.如权利要求1～4中任一项所述的蒸镀源，其特征在于：所述一定间隔和所述第一边的长度相加的长度为所述第一边的长度的1.5倍以上、所述蒸镀源的在所述第一方向上...

【专利技术属性】
技术研发人员：川户伸一，菊池克浩，二星学，井上智，小林勇毅，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP