一种蒸镀速率测量装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种蒸镀速率测量装置，包括至少一个可移动蒸镀速率测量探头，用于监控至少一个蒸发源的蒸镀速率。由此，实现了对至少一个蒸发源的蒸镀速度的测量。

A device for measuring the rate of steam plating

The utility model discloses a measuring device for evaporation rate, which comprises at least one movable steaming rate measuring probe, which is used for monitoring the evaporation rate of at least one evaporation source. Thus, the measurement of the evaporation rate for at least one steam source is realized.

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀速率测量装置
本技术涉及半导体
，具体涉及一种蒸镀速率测量装置。
技术介绍
蒸镀是一种将待成膜物质置于真空中进行蒸发或升华，使之在工件或基片表面析出的工艺，一般通过蒸镀机来实现。蒸镀机包括用于进行蒸镀的真空腔室，以及设置在真空腔室内的容纳待成膜物质(蒸发源)的坩埚，坩埚具体可以包括锅体和锅体上的喷嘴，待成膜物质蒸发或升华后通过喷嘴析出在工件或基片表面。为了获得厚度均匀的蒸镀膜层，蒸镀机一般还设置有膜厚计。现有的膜厚计一般只检测一个预设喷头的蒸镀速率并将其作为蒸发源的整体蒸镀速率。然而由于多种原因，比如每个坩埚的实际温度可能是不同的，每个喷头的构造可能存在误差，导致每个蒸发源的实际蒸镀速率可能是有差别的。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题在于，现有的膜厚计一般只检测一个预设喷头的蒸镀速率并将其作为蒸发源的整体蒸镀速率，而每个蒸发源的实际蒸镀速率可能是有差别的。为此，本技术实施例提供了一种蒸镀速率测量装置，包括：至少一个可移动蒸镀速率测量探头，用于监控至少一个蒸发源的蒸镀速率。可选的，还包括：基板固定单元，用于固定被蒸镀的基板；所述基板固定单元与所述蒸镀速率测量探头的移动区域错本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀速率测量装置，其特征在于，包括：至少一个可移动蒸镀速率测量探头，用于监控至少一个蒸发源的蒸镀速率。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀速率测量装置，其特征在于，包括：至少一个可移动蒸镀速率测量探头，用于监控至少一个蒸发源的蒸镀速率。2.根据权利要求1所述的蒸镀速率测量装置，其特征在于，还包括：基板固定单元，用于固定被蒸镀的基板，所述基板固定单元与所述蒸镀速率测量探头的移动区域错开。3.根据权利要求2所述的蒸镀速率测量装置，其特征在于：所述基板固定单元设置在所述蒸发源的正上方；所述蒸镀速率测量探头的移动区域设置在所述蒸发源的侧上方。4.根据权利要求2所述的蒸镀速率测量装置，其特征在于：所述基板固定单元设置在所述蒸发源的侧上方；所述蒸镀速率测量探头的移动区域设置在所述蒸发源的正上方。5.根据权利要求2-4中任一项所述的蒸镀速率测量...

【专利技术属性】
技术研发人员：高峰，王卫卫，何麟，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32