一种蒸发源装置制造方法及图纸
A steam source device
The invention provides an evaporation source device, the evaporation source device comprises an evaporation source, is arranged on the substrate; the evaporation source shielding plate, is arranged in the steaming between source and the substrate; the driving parts, and the evaporation source shielding plate is electrically connected; the driving part for driving the evaporation source shielding plate relative to the evaporation source rotation, rotation rate and control the evaporation source baffle plate in the process of coating, plating rate to adjust the evaporation source of steam. The evaporation source device of the invention can control the coating rate of the steam source during the coating process.
【技术实现步骤摘要】
一种蒸发源装置
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种蒸发源装置。
技术介绍
OLED显示技术较之当前主流的液晶显示技术，具有对比度高、色域广、柔性、轻薄以及节能等优点，逐渐在智能手机和平板电脑等移动设备、智能手表等柔性可穿戴设备、大尺寸曲面电视以及白光照明等领域普及。OLED技术主要包括以真空蒸镀技术为基础的小分子OLED技术和以溶液制程为基础的高分子OLED技术。蒸镀机是当前已量产的小分子OLED器件生产的主要设备，其设备核心部分为蒸发源装置，蒸发源装置分为点蒸发源、线蒸发源以及面蒸发源等。线蒸发源为当前重要的OLED量产技术，主要分为一体式线蒸发源和输送式线蒸发源。如图1所示，现有点蒸发源广泛应用于研发及量产设备，在一个蒸镀腔体内，蒸发源11-14沿圆弧形分布于腔体底部，各蒸发源之间设置有限制板16，以限定蒸发气流到达范围，基板10位于蒸发源11-14的上方，蒸镀时可沿腔体及基板10的中心位置旋转，从而提高膜厚均匀性。每个蒸发源通过独立的蒸发源遮挡板15控制蒸发源镀膜的开始或结束时间。蒸发源遮挡板15主要通过气缸控制其转动，使得现有的蒸发源只有开...
【技术保护点】
一种蒸发源装置，其特征在于，所述蒸发源装置用于对基板进行蒸镀操作，所述蒸发源装置包括：蒸发源，设置在所述基板的下方；蒸发源遮挡板，设置在所述蒸发源和所述基板之间；驱动部件，与所述蒸发源遮挡板连接；所述驱动部件用于驱动所述蒸发源遮挡板相对于所述蒸发源旋转，并控制所述蒸发源遮挡板在镀膜过程中的旋转速率，以调整所述蒸发源的蒸镀速率。
【技术特征摘要】
1.一种蒸发源装置，其特征在于，所述蒸发源装置用于对基板进行蒸镀操作，所述蒸发源装置包括：蒸发源，设置在所述基板的下方；蒸发源遮挡板，设置在所述蒸发源和所述基板之间；驱动部件，与所述蒸发源遮挡板连接；所述驱动部件用于驱动所述蒸发源遮挡板相对于所述蒸发源旋转，并控制所述蒸发源遮挡板在镀膜过程中的旋转速率，以调整所述蒸发源的蒸镀速率。2.如权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，所述驱动部件用于通过控制所述蒸发源遮挡板在镀膜过程中的旋转速率，改变所述蒸发源遮挡板与所述蒸发源之间的遮挡面积，以调整所述蒸发源的蒸镀速率。3.如权利要求2所述的蒸发源装置，其特征在于，所述蒸发源装置的工作状态包括完全关闭状态、部分开启状态以及完全开启状态。4.如权利要求3所述的蒸发源装置，其特征在于，当所述蒸发源装置处于所述完全关闭状态时，所述蒸发源遮挡板完全遮挡所述蒸发源；当所述蒸发源装置处于所述部分开启状态时，所述蒸发源遮挡板部分遮挡所述蒸发源；当所述蒸发源装置处于所述完全开启状态时，所述蒸发源遮挡板未遮挡所述蒸...
【专利技术属性】
技术研发人员：沐俊应，李相烨，李先杰，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42
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