蒸镀坩埚及蒸镀系统技术方案

技术编号:17262022 阅读:56 留言:0更新日期:2018-02-14 08:14
本发明专利技术提供一种蒸镀坩埚以及一种包括所述蒸镀坩埚的蒸镀系统,所述蒸镀坩埚包括:坩埚本体和缠绕在所述坩埚本体四周的至少两个加热装置;所述坩埚本体包括至少两个筒状结构,每个所述筒状结构具有不同的直径,所述坩埚本体用于盛放蒸镀材料;每个所述筒状结构对应设置一个所述加热装置,所述加热装置对所述对应筒状结构中的蒸镀材料进行加热。本发明专利技术提供一种蒸镀坩埚以及一种包括所述蒸镀坩埚的蒸镀系统,不仅可以有效改善目前蒸镀系统中蒸镀坩埚横向和纵向温差过大的问题,而且可以减少蒸镀材料的浪费,提高材料的利用率,降低工厂的生产成本。

Steam plating crucible and evaporation system

The present invention provides a vapor deposition crucible and a crucible comprising the evaporation evaporation system, including the evaporation crucible crucible body and wrapped in at least two of the heating device around the crucible body; the crucible body comprises at least two cylindrical structure, each of the cylindrical structure with different diameters, the crucible body for containing plating material; each of the cylindrical structure corresponding to a set of the heating device, the heating device on the corresponding cylindrical structure of evaporation materials for heating. The present invention provides a vapor deposition crucible and a crucible comprising the evaporation evaporation system, not only can effectively improve the steam evaporation crucible of horizontal and vertical temperature difference is too large the deposition system, and can reduce the evaporation material waste, improve material utilization, reduce manufacturing costs.

【技术实现步骤摘要】
蒸镀坩埚及蒸镀系统
本专利技术涉及设备制造
,具体涉及一种蒸镀坩埚以及一种包括所述蒸镀坩埚的蒸镀系统。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)显示器具有亮度高、响应快、能耗低、可弯曲等一系列的优点,在当今的平板显示器市场中占据了越来越重要的地位,代表了下一代显示器的发展趋势;而有机发光二极管与液晶显示(LiquidCrystalDisplay,LCD)相比,最大的优势就是可制备大尺寸、超薄、柔性、透明。目前OLED比较成熟的工艺是使用小分子蒸镀方式,但是在目前的蒸镀制程中,点源通常是采用圆柱形坩埚且加热丝为一体式加热,坩埚内的温差是固定的,坩埚纵向长度越长,温差越难控制,所以一段式加热会造成坩埚上端和下端温差较大的问题,从而使得材料的有效使用率在10%~80%之间,量产中会造成大量的材料浪费。
技术实现思路
本专利技术提供一种蒸镀坩埚以及一种包括所述蒸镀坩埚的蒸镀系统,不仅可以有效改善目前蒸镀系统中蒸镀坩埚横向和纵向温差过大的问题,而且可以减少蒸镀材料的浪费,提高材料的利用率,降低生产成本。根据本专利技术的一个方面,提供一种蒸镀坩埚,包括:坩埚本体和缠绕在所述坩埚本体四周的至少两个加热装置;所述坩埚本体包括至少两个筒状结构,每个所述筒状结构具有不同的直径,所述坩埚本体用于盛放蒸镀材料;每个所述筒状结构对应设置一个所述加热装置,所述加热装置对所述对应筒状结构中的蒸镀材料进行加热。根据本专利技术一优选实施例,所述蒸镀坩埚还包括至少两个蒸镀筛片,每一个所述蒸镀筛片与一个所述筒状结构相对应,所述蒸镀筛片设置于其对应筒状结构的顶端,用于将所述坩埚本体内蒸镀材料的气流变的更加均匀。根据本专利技术一优选实施例,所述蒸镀筛片与所述坩埚本体均采用钛制备。根据本专利技术一优选实施例,每一个所述筒状结构为一个加热区域,所述坩埚本体包括三个加热区域:第一加热区域、第二加热区域、第三加热区域,所述第一加热区域为所述坩埚本体底部区域,所述第二加热区域为所述坩埚本体中部区域,所述第三加热区域为所述坩埚本体上部区域,所述第一加热区域的直径<第二加热区域的直径<第三加热区域的直径。根据本专利技术一优选实施例,所述第一加热区域的高度占所述坩埚本体高度的10%,所述第三加热区域的高度占所述坩埚本体高度的15%。根据本专利技术一优选实施例,所述蒸镀筛片包括第一蒸镀筛片、第二蒸镀筛片和第三蒸镀筛片,所述第一蒸镀筛片与所述第一加热区域相对应,第二蒸镀筛片与所述第二加热区域相对应,所述第三蒸镀筛片与所述第三加热区域相对应,所述第一蒸镀筛片的面积<所述第二蒸镀筛片的面积<所述第三蒸镀筛片的面积。根据本专利技术一优选实施例,所述第一蒸镀筛片的圆孔直径>所述第二蒸镀筛片的圆孔直径>所述第三蒸镀筛片的圆孔直径。根据本专利技术一优选实施例,所述加热装置包括延纵向方向设置的第一加热装置、第二加热装置和第三加热装置,每个所述加热装置设置在其对应加热区域的四周,能够实现所述第一加热区域、第二加热区域、第三加热区域的分开均匀加热。根据本专利技术一优选实施例,所述加热装置还包括温度测控部分,用以分别测控所述至少两个加热区域的加热温度。根据本专利技术的另一个方面,提供一种蒸镀系统,所述蒸镀系统包括蒸镀坩埚,所述蒸镀坩埚为任一项上述的蒸镀坩埚。本专利技术提供一种蒸镀坩埚以及一种包括所述蒸镀坩埚的蒸镀系统,不仅可以有效改善目前蒸镀系统中蒸镀坩埚横向和纵向温差过大的问题,而且可以减少蒸镀材料的浪费,提高材料的利用率,降低生产成本。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术的蒸镀坩埚结构示意图;图2为本专利技术实施例的蒸镀坩埚的结构示意图;图3为本专利技术实施例的蒸镀坩埚的又一结构示意图。图4为本专利技术实施例的蒸镀筛片的结构示意图;具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示,用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语,例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术,而非用以限制本专利技术。在图中,结构相似的单元是用以相同标号表示。图1为现有技术的蒸镀坩埚结构示意图。如图1所示,在目前蒸镀制程中,使用蒸镀坩埚1进行加热时,坩埚本体11内盛放的蒸镀材料会蒸发直至消耗完毕,材料的放置量是由坩埚本体11的容量决定的,但是由于现有蒸镀坩埚1的加热装置12为一体式加热,坩埚本体11内的温差固定,坩埚本体11的纵向长度越大,坩埚本体11内的蒸镀材料的温差就越大,从而容易出现所述蒸镀材料的融化不均,坩埚本体11长度引起的突沸所造成的速率不稳以及蒸镀材料内部导热不均所导致的蒸镀材料裂解的缺陷,从而使得蒸镀材料的有效使用率在10%~80%,在进行OLED的量产中会造成蒸镀材料的大量浪费。而本专利技术提出一种蒸镀坩埚2以及一种包括所述蒸镀坩埚2的蒸镀系统,能够解决上述问题。如图2所示,本专利技术提供一种蒸镀坩埚2,包括:坩埚本体21和缠绕在所述坩埚本体21四周的至少两个加热装置22;所述坩埚本体21包括至少两个筒状结构,每个所述筒状结构具有不同的直径,所述坩埚本体21用于盛放蒸镀材料;每个所述筒状结构对应设置一个所述加热装置22,所述加热装置22对所述对应筒状结构中的蒸镀材料进行加热。优选的,如图3所示,坩埚本体21包括至少两个筒状结构,每一个所述筒状结构为一个加热区域,所述坩埚本体包括三个加热区域:第一加热区域211、第二加热区域212、第三加热区域213,第一加热区域211为所述坩埚本体底部区域,第二加热区域212为所述坩埚本体中部加热区域,第三加热区域213为上部加热区域,所述底部加热区域的直径<中部加热区域的直径<上部加热区域的直径。这样设置的好处在于,由于第一加热区域211的直径较小,所以第一加热区域211蒸镀材料的温度上升更快,致使第一加热区域211蒸镀材料的热量会往上传递给第二加热区域212的蒸镀材料,而第二加热区域212的直径较大,未直接受热的蒸镀材料部分更多,所以第二加热区域212蒸镀材料的温度上升速度原本会慢于第一加热区域211蒸镀材料的温度,但是吸收了所述第一加热区域211热量的第二加热区域212的温度上升速度会加快,从而达到第一加热区域211蒸镀材料与第二加热区域212蒸镀材料的温度上升速度相平衡;同理,由于第三加热区域213的直径最大,第三加热区域213未能直接受热的蒸镀材料也就越多,从而导致第三加热区域213温度上升速度最慢,但是,温度上升后的第二加热区域212会将热量传递给第三加热区域213,致使第三加热区域213蒸镀材料与第二加热区域212蒸镀材料的温度上升速度平衡,由此,第一加热区域211、第二加热区域212和第三加热区域213温度的上升速率达到平衡,从而不会在所述坩埚本体21的纵向方向产生较大的温度差。优选的,如图4所示,为了防止坩埚本体内的蒸镀材料发生爆沸和水平方向受热不均现象的发生,在每个所述加热区域顶部设置蒸镀筛片23。本文档来自技高网...
蒸镀坩埚及蒸镀系统

【技术保护点】
一种蒸镀坩埚,其特征在于,包括:坩埚本体和缠绕在所述坩埚本体四周的至少两个加热装置;所述坩埚本体包括至少两个筒状结构,每个所述筒状结构具有不同的直径,所述坩埚本体用于盛放蒸镀材料;每个所述筒状结构对应设置一个所述加热装置,所述加热装置对所述对应筒状结构中的蒸镀材料进行加热。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀坩埚,其特征在于,包括:坩埚本体和缠绕在所述坩埚本体四周的至少两个加热装置;所述坩埚本体包括至少两个筒状结构,每个所述筒状结构具有不同的直径,所述坩埚本体用于盛放蒸镀材料;每个所述筒状结构对应设置一个所述加热装置,所述加热装置对所述对应筒状结构中的蒸镀材料进行加热。2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述蒸镀坩埚还包括至少两个蒸镀筛片,每一个所述蒸镀筛片与一个所述筒状结构相对应,所述蒸镀筛片设置于其对应筒状结构的顶端,用于将所述坩埚本体内蒸镀材料的气流变的更加均匀。3.根据权利要求2所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述蒸镀筛片与所述坩埚本体均采用钛制备。4.根据权利要求2所述的蒸镀坩埚,其特征在于,每一个所述筒状结构为一个加热区域,所述坩埚本体包括三个加热区域:第一加热区域、第二加热区域、第三加热区域,所述第一加热区域为所述坩埚本体底部区域,所述第二加热区域为所述坩埚本体中部区域,所述第三加热区域为所述坩埚本体上部区域,所述第一加热区域的直径<第二加热区域的直径<第三加热区域的直径。5.根据权利要求4所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述第一加热区域...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐超
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:湖北,42

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