显示面板制造技术

技术编号:46509905 阅读:3 留言:0更新日期:2025-09-26 19:28
本申请实施例公开了一种显示面板,本申请实施例的显示面板包括直边区域和角落区域,直边区域中的所述衔接区为第一衔接区,角落区域中的衔接区为第二衔接区;第二衔接区包括第一子区和第二子区,第一过孔包括第一有效过孔和第一冗余过孔,位于第一衔接区和第一子区的第一有效过孔为走线的换线孔,位于显示区的第一有效过孔为像素电路的换线孔;第一子区中设置有多个第一冗余过孔,第一冗余过孔和第一有效过孔贯穿相同的膜层。本申请实施例采用在角落区域的第一子区中增设第一冗余过孔,以提高角落区域中第一过孔对栅极驱动电路临近衔接区的晶体管的正偏影响,进而缩小与直边区域的栅极驱动电路临近衔接区的晶体管的电性差异。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及显示,具体涉及一种显示面板


技术介绍

1、oled面板包括栅极驱动区、显示区和设置在栅极驱动区和显示区之间的衔接区,其中,栅极驱动区中设置有栅极驱动电路,显示区中设置有像素电路,衔接区中设置有连接栅极驱动电路和像素驱动电路的走线。

2、在对现有技术的研究和实践过程中,本申请的专利技术人发现,脱氢制程会对晶体管的阈值电压vth产生正偏的影响。在现有的oled面板中,通过开设有第一过孔和第二过孔,形成第一过孔之后便有脱氢制程,以便氢从第一过孔逃脱,而形成第二过孔之后没有脱氢制程。

3、现有的oled面板具有直边区域和圆弧区域,圆弧区域位于面板的四个角落。基于直边区域中,衔接区的第一过孔的密度较低,且其宽度比较窄,临近衔接区的晶体管受到显示区中的第一过孔和第二过孔的密度影响较大。但是,在圆弧区域中,衔接区的宽度较宽,使得临近衔接区的晶体管距离显示区较远,这使得临近衔接区的晶体管主要受衔接区的第一过孔的密度影响;且圆弧区域的衔接区中第一过孔和第二过孔的密度更稀疏。最终结果是直边区域中临近衔接区的晶体管受到衔接区和显示区的第一过孔本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种显示面板,包括直边区域和角落区域,所述角落区域位于相邻的两个所述直边区域之间,所述直边区域和所述角落区域均具有依次相连的栅极驱动区、衔接区和显示区,所述栅极驱动区中设置有多个栅极驱动电路,所述显示区中设置有多个像素电路,所述衔接区中设有连接所述栅极驱动电路和所述像素电路的走线,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一衔接区包括第三子区和第四子区,所述第三子区靠近所述栅极驱动区,所述第四子区靠近所述显示区;所述走线包括多个所述第一有效过孔,多个所述第一有效过孔的部分位于所述第三子区,多个所述第一有效过孔的另一部分位于所述第四子区;

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【技术特征摘要】

1.一种显示面板,包括直边区域和角落区域,所述角落区域位于相邻的两个所述直边区域之间,所述直边区域和所述角落区域均具有依次相连的栅极驱动区、衔接区和显示区,所述栅极驱动区中设置有多个栅极驱动电路,所述显示区中设置有多个像素电路,所述衔接区中设有连接所述栅极驱动电路和所述像素电路的走线,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一衔接区包括第三子区和第四子区,所述第三子区靠近所述栅极驱动区,所述第四子区靠近所述显示区;所述走线包括多个所述第一有效过孔,多个所述第一有效过孔的部分位于所述第三子区,多个所述第一有效过孔的另一部分位于所述第四子区;

3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第二子区中设置有多个冗余过孔组,所述冗余过孔组设置在所述走线之间的空余空间,每一所述冗余过孔组包括至少一所述第一冗余过孔。

4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板包括第一浮置结构,所述第一浮置结构包括第一浮置金属部和第二浮置金属部,所述第二浮置金属部通过所述第一冗余过孔连接所述第一浮置金属部。

5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板包括依次设置的衬底、硅基半导体层、第一绝缘层、第一金属层、第二绝缘层、第二金属层、第三绝缘层、金属氧化物半导体层、第四绝缘层、第三金属层、第五绝缘层、第四金属层、第六绝缘层和第五金属层,所述第一浮置金属部形成于所述第一金属层中,所述第一冗余过孔贯穿所述第二绝缘层至所述第六绝缘层,所述第二浮置金属部形成于所述第五金属层中。

6.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一子区的宽度等于所述第三子区的宽度。

7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,在所述角落区域中,在垂直于所述栅极驱动电路排列的方向上,所述栅极驱动电路中距离所述显示区最近的晶体管的边缘向所述显示区方向的设定距离所在的区域为第一子区;

8.根据权利要求2-7任意一项所述显示面板,其特征在于,在所述第一子区和所述第三子区中,每100平方微米区域内设置有至少一个所述第一过孔。

9.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:张欢喜
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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