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本发明提供了一种坩埚及蒸镀装置，属于蒸镀技术领域。所述坩埚包括：坩埚本体和坩埚盖，坩埚本体上设置有出口，坩埚盖覆盖出口；坩埚盖包括：弹性圈，弹性圈上的中空部分连通出口，中空部分靠近坩埚本体一端的开口面积大于远离坩埚本体一端的开口面积。本发明...该专利属于合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。