三唑并嘧啶化合物及其用途制造技术

提供了式(I)化合物或其可药用盐，其中R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】三唑并嘧啶化合物及其用途专利
本公开内容涉及三唑并嘧啶化合物、包含这类化合物的组合物和它们用于治疗多梳抑制复合物2(PolycombRepressiveComplex2,PRC2)-介导的疾病或障碍的用途。背景多梳基团(PcG)蛋白质是一种染色质修饰酶，在很多人类癌症中是失控的。多梳抑制复合物2(PRC2)包括SUZ12(zeste12的阻抑基因)、EED(胚胎外胚层发育)和催化亚基、EZH2(zeste同系物2的增强子)，通过在靶基因的启动区处和周围使核组蛋白H3赖氨酸27(H3K27me3)甲基化来抑制基因。PRC2是参与基因转录的外遗传调节的细胞机械的关键组分，其在发育和组织分化和再生中发挥重要功能。虽然EZH2是催化亚基，但是PRC2由于其甲基转移酶活性而要求至少EED和SUZ12。EED、SUZ12和EZH2在很多癌症中是过表达的，包括但不限于乳癌、前列腺癌、肝细胞癌等。在DLBCL(弥漫性大B细胞淋巴瘤)患者和FL(滤泡型淋巴瘤)患者中已经识别出EZH2激活突变。在DLBCL中通过化合物与辅因子S-腺苷甲硫氨酸(SAM)竞争而实现的PRC2甲基转移酶活性抑制逆转了H3本文档来自技高网...

【技术保护点】
式(I)化合物：

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.23 CN PCT/CN2014/094644;2015.11.23 CN PCT/1.式(I)化合物：或其可药用盐，其中:是单键或双键；R1和R2独立地是H或卤素；R3独立地选自：卤素、苯基和包含碳原子和1-4个选自N、NRa、O和S(O)p的杂原子的5-至6-元杂芳基；其中所述苯基和杂芳基被0-3个R3A取代；R3A各自独立地选自：卤素、CN、-(O)m-(被0-1个R3B取代的C1-C6烷基)、C1-C6卤代烷基、C1-C6卤代烷氧基、R3C、-OR3C、-C(＝O)R3D、NR3ER3F、-C(＝O)NR3ER3F、-NHC(＝O)R3D、-S(＝O)2R3D、-S(＝O)2NR3ER3F、-NHS(＝O)2(C1-C4烷基)和-CR3CR3ER3G；R3B独立地选自：OH、NReRf、C1-C4烷氧基、-C(＝O)NReRf、-S(＝O)2(C1-C4烷基)、-NHC(＝O)(C1-C4烷基)和包含碳原子和1-2个选自N、NRa、O和S(O)p的杂原子的5-至6-元杂环烷基；其中所述杂环烷基被0-2个Rc取代；R3C各自独立地选自：C3-C6环烷基、苯基和包含碳原子和1-4个选自N、NRa、O和S(O)p的杂原子的4-至7-元杂环；其中各部分被0-2个Rc取代；R3D各自独立地选自：C1-C4烷基和R3C；R3E和R3G在各自出现时独立地选自：H和C1-C4烷基；R3F各自独立地选自：H和被0-1个Rd取代的C1-C4烷基；R4独立地选自：H、卤素和C1-C4烷基；R5独立地选自OH和C1-C4烷基；Ra各自独立地选自：H、→O、被0-1个Rb取代的C1-C4烷基、-C(＝O)H、-C(＝O)(C1-C4烷基)、-CO2(C1-C4烷基)、C3-C6环烷基和苄基；Rb独立地选自：卤素、OH和C1-C4烷氧基；Rc各自独立地选自：＝O、卤素、OH、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基；Rd独立地选自：OH和NReRf；Re和Rf在各自出现时独立地选自：H和C1-C4烷基；p各自独立地选自0、1和2；且m和n在各自出现时独立地选自0和1。2.根据权利要求1的化合物或其可药用盐，其中:R3A各自独立地选自：卤素、CN、-(O)m-(被0-1个R3B取代的C1-C4烷基)、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、R3C、-C(＝O)R3D、NR3ER3F、-C(＝O)NR3ER3F、-S(＝O)2R3D、-S(＝O)2NHR3F、-NHS(＝O)2(C1-C4烷基)、-O-C3-C6环烷基和Ra独立地选自：H、→O、被0-1个Rb取代的C1-C4烷基、-C(＝O)H、-C(＝O)(C1-C4烷基)、-CO2(C1-C4烷基)和C3-C6环烷基；R4是H；m独立地选自0和1；且n是0。3.根据权利要求1或权利要求2的化合物或其可药用盐，其中:R1独立地是H或F；R2是H；且R3独立地选自：苯基和包含碳原子和1-2个选自N和NRa的杂原子的6-元杂芳基；其中所述苯基和杂芳基被0-3个R3A取代。4.根据权利要求1至3任一项的化合物或其可药用盐，其中:R3独立地选自：苯基、吡啶基、嘧啶基、哒嗪基和吡嗪基；其中各部分被0-3个R3A取代。5.根据权利要求1至4任一项的化合物或其可药用盐，其中:R3独立地选自：6.根据权利要求1至4任一项的化合物或其可药用盐，其中:R3独立地选自：R3A各自独立地选自：卤素、CN、-(O)m-(被0-1个R3B取代的C1-C4烷基)、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、-C(＝O)NH2、-C(＝O)NH(C1-C4烷基)、-C(＝O)N(C1-C4烷基)2、-C(＝O)N(C1-C4烷基)(CH2)2N(C1-C4烷基)2、-CH2NHC(＝O)(C1-C4烷基)、-S(＝O)2R3D、-...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·M·陈，XJ·J·顾，Y·黄，L·李，米媛，W·齐，M·森齐克，Y·孙，王龙，Z·于，张海龙，J·Y·J·张，M·张，张琼，K·赵，
申请(专利权)人：诺华股份有限公司，
类型：发明
国别省市：瑞士,CH