异*唑啉衍生物及其除草剂用途制造技术

式（Ⅰ）化合物适合用作除草剂，其中取代基定义同权利要求１。还要求保护制备其中ｍ为２，ｎ为１，且其它取代基定义同权利要求１的式Ⅰ化合物的方法，所述方法按一步法或分步法，使式Ⅰａ化合物连续与式Ｒ↑［５］－Ｘ和／或Ｒ↑［６］－Ｘ化合物反应，其中Ｒ↑［５］和Ｒ↑［６］定义同权利要求１，且Ｘ为离去基团；并要求制备其中Ｒ↑［６］为Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］烷基或卤素，ｍ为２，ｎ为１，且其它取代基定义同权利要求１的式Ⅰ化合物的方法，所述方法使式Ⅰｂ化合物与式Ｒ↑［５］－Ｘ化合物反应，其中Ｒ↑［５］定义同权利要求１，且Ｘ为离去基团；以及要求制备其中Ｒ↑［５］为氯、溴或碘，ｍ为１或２，ｎ为１，且其它取代基定义同权利要求１的式Ⅰ化合物的方法，所述方法使式Ⅰｃ化合物与Ｎ－卤琥珀酰亚胺和氧化剂反应。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及新的除草用异_唑啉化合物；它们的制备方法；含这些化合物的组合物；和它们在控制杂草，尤其有益植物农作物中的杂草或在抑制植物生长中的用途。表明具有除草作用的异_唑啉化合物已在例如WO 01/012613、WO 02/062770、WO 03/000686、WO 04/010165和JP 2005/035924中描述。这些化合物的制备也在WO 04/013106中描述。现发现新的具有除草和抑制生长特性的异_唑啉化合物。因此，本专利技术涉及式I化合物和式I化合物的N-氧化物、盐和旋光异构体 其中R1和R2各自独立为氢、C1-C10烷基、C1-C10卤代烷基、C3-C8环烷基或C3-C8环烷基-C1-C3烷基，或R1和R2与它们键合的碳原子一起形成C3-C7环，R3和R4各自独立为氢、C1-C10烷基、C1-C10卤代烷基、C3-C8环烷基-C1-C10烷基、C1-C6烷氧基-C1-C10烷基或C3-C8环烷基，或R3和R4与它们键合的碳原子一起形成C3-C7环，或R1和R3或R4与它们键合的碳原子一起形成C5-C8环，或R2和R3或R4与它们键合的碳原子一起形成C5-C8本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种式Ⅰ化合物及式Ⅰ化合物的Ｎ－氧化物、盐和旋光异构体　　　　＊＊＊　　（Ⅰ）　　　　其中：　　　　Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］各自独立为氢、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］卤代烷基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］环烷基或Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］环烷基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷基，或　　　　Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］与它们键合的碳原子一起形成Ｃ↓［３］－Ｃ↓［７］环，　　　　Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］各自独立为氢、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］卤代烷基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］环烷基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］烷基或...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：A普兰特，JE贝默，J布莱克，TD斯帕克斯，
申请(专利权)人：先正达有限公司，
类型：发明
国别省市：GB[英国]