除草三唑制造技术

本发明专利技术公开了式1的化合物，包括其所有立体异构体、其N‑氧化物及其盐，

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】除草三唑
本专利技术涉及某些三唑、它们的N-氧化物、盐和组合物，以及它们用于防治不期望的植被的方法。
技术介绍
防治不期望的植被对于实现高作物效益是极其重要的。实现选择性防治杂草的生长是非常令人期望的，特别是在有用的作物中，如稻、大豆、糖用甜菜、玉米、马铃薯、小麦、大麦、西红柿和种植性作物等。在此类有用作物中未受控制的杂草生长可引起产量的显著减少，由此导致消费者成本上升。在非耕作区防治不期望的植被也是重要的。为此目的，许多产品可商购获得，但是持续需要更有效、更经济、毒性更小、对环境更安全或具有不同作用位点的新型化合物。
技术实现思路
本专利技术涉及式1的化合物(包括所有立体异构体)、其N-氧化物及其盐、包含它们的农业组合物、以及它们作为除草剂的用途：其中X为R1，并且Y为-Q1-J1；或者X为-Q2-J2，并且Y为R2；R1为C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4羟烷基或C3-C6环烷基；Q1为C(R4)(R5)、O、S或NR6；R2为卤素、氰基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C2-C4烷氧基烷基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C2-C6烷基羰氧基、C1-C4羟烷基、S(O)nR3、C2-C4烷硫基烷基、C2-C4烷基磺酰基烷基、C1-C4烷氨基、C2-C4二烷氨基或C3-C6环烷基；Q2为C(R4′)(R5′)；每个J1和J2独立地为被1个R7取代并且任选地被至多2个R8取代的苯基；或者为被1个R7取代并且任选地被碳环成员上的至多2个R8取代的6元芳族杂环环；或者为被碳环成员上的1个R9和氮环成员上的R11取代并且任选地被碳环成员上的1个R10取代的5元芳族杂环环；A为被至多4个R16取代的苯基；或者为被碳环成员上的至多3个R16和氮环成员上的R17取代的5元或6元芳族杂环环；R3独立地为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；每个R4和R4′独立地为H、F、Cl、Br、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基或CO2R13；每个R5和R5′独立地为H、F、C1-C4烷基、OH或OR13；或者R4和R5或者R4′和R5′与它们所连接的碳合在一起以形成C(＝O)、C(＝NOR13)或C(＝N-N(R14)(R15))；R6为H、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；R7为SF5、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基或S(O)pR18；每个R8独立地为卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基或S(O)pR19；或者R7和R8合在一起以形成包含环成员的5元碳环环，所述环成员选自至多两个O原子或至多两个S原子，并且任选地在碳原子环成员上被至多五个卤素原子取代；R9为SF5、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基或S(O)pR18，其在环连接到式1的其余部分的间位处；R10为卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基或S(O)pR19；R11为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；每个R13独立地为C1-C4烷基；R14为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；R15为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；每个R16独立地为H、卤素、氰基、硝基、SF5、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基或S(O)pR20；每个R17独立地为H、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；每个R18独立地为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；每个R19独立地为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；R20为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；n为0或1；并且每个p独立地为0、1或2；前提条件是当R1为乙基并且Q1为CH2时，则J1不是3-三氟甲基-1H-吡唑-1-基。更具体地，本专利技术涉及式1的化合物(包括所有立体异构体)、其N-氧化物或其盐。本专利技术还涉及除草剂组合物，所述除草剂组合物包含本专利技术的化合物(即以除草有效量)和至少一种选自表面活性剂、固体稀释剂和液体稀释剂的组分。本专利技术还涉及用于防治不期望的植被生长的方法，所述方法包括使所述植被或其环境与除草有效量的本专利技术化合物(例如为本文所述组合物形式)接触。本专利技术还包括一种除草剂混合物，所述除草剂混合物包含(a)选自式1的化合物、其N-氧化物及其盐，和(b)至少一种附加活性成分，所述附加活性成分选自(b1)至(b16)以及(b1)至(b16)的化合物的盐。具体实施方式如本文所用，术语“包括”、“包含”、“含有”、“具有”、“容纳”、“特征在于”或其任何其它变型旨在涵盖非排它性的包括，以任何明确指明的限定为条件。例如，包含一系列元素的组合物、混合物、工艺、方法、制品、或设备不必仅限于那些元素，而是可以包括其它未明确列出的元素，或此类组合物、混合物、工艺、方法、制品或设备固有的元素。连接短语“由…组成”不包括任何未指定的元素、步骤或成分。如果是在权利要求中，则此类词限制权利要求，以不包含除了通常与之伴随的杂质以外不是所述那些的材料。当短语“由…组成”出现在权利要求的主体的子句中，而非紧接前序时，其仅限制在该子句中提到的元素；其它元素总体上不会从权利要求中被排除。连接短语“基本上由…组成”用于限定所述组合物、方法或设备除了字面公开的那些以外，还包括物质、步骤、部件、组分或元素，前提条件是，这些附加的物质、步骤、部件、组分或元素不会实质上影响了受权利要求书保护的本专利技术的基本特征和新颖特征。术语“基本上由…组成”居于“包含”和“由…组成”中间。当申请人使用开放式术语(例如“包含”)来限定专利技术或其部分时，应当容易地理解到(除非另有指明)该说明应被解释为也使用了术语“基本上由…组成”或“由…组成”来描述这一专利技术。此外，除非明确指明相反，“或”是指包含性的“或”而非排他性的“或”。例如，条件A或B满足下列中的任一项：A为真实的(或存在的)且B为虚假的(或不存在的)，A为虚假的(或不存在的)且B为真实的(或存在的)，以及A和B均为真实的(或存在的)。另外，在本专利技术的要素或组分之前的不定冠词“一个”、“一种”无意于限制该要素或组分的实例(即出现)的数量。因此，“一个”、“一种”应理解为包括一个/种或至少一个/种，并且要素或组分的单数词语形式还包括复数，除非该数值明显意指单数。如本文所提及的，单独或以词语的组合使用的术语“幼苗”是指由种子的胚发育的植物幼苗。如本文所指，术语“阔叶”可单独使用或以词语诸如“阔叶杂草”形式使用，是指双子叶或双子叶植物，双子叶植物是用于描述一类被子植物的术语，其以具有两个子叶的胚为特征。如本文所用，术语“烷基化试剂”是指其中含碳基团通过碳原子与离去基团诸如卤素或磺酸酯键合的化学化合物，所述离去基团可通过亲核物质与所述碳原子键合而置换。除非另外指明，术语“烷基化”没有将含碳基团限制为烷基；烷基化试剂中的含碳基团包括对R1和Q2指定的各种碳连接的取代基。在上述表述中，单独使用或在复合词如“烷硫基烷基”“卤代烷基”中使用的术语“烷基”包括直链或支链的烷基，如甲基、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种选自式1的化合物、其N‑氧化物及其盐，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.08.29 US 62/043,9421.一种选自式1的化合物、其N-氧化物及其盐，其中X为R1，并且Y为-Q1-J1；或者X为-Q2-J2，并且Y为R2；R1为C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4羟烷基或C3-C6环烷基；Q1为C(R4)(R5)、O、S或NR6；R2为卤素、氰基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C2-C4烷氧基烷基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C2-C6烷基羰氧基、C1-C4羟烷基、S(O)nR3、C2-C4烷硫基烷基、C2-C4烷基磺酰基烷基、C1-C4烷氨基、C2-C4二烷氨基或C3-C6环烷基；Q2为C(R4′)(R5′)；每个J1和J2独立地为被1个R7取代并且任选地被碳环成员上的至多2个R8取代的6元芳族杂环环；或被碳环成员上的1个R9和氮环成员上的R11取代并且任选地被碳环成员上的1个R10取代的5元芳族杂环环；A为被至多4个R16取代的苯基；或被碳环成员上的至多3个R16和氮环成员上的R17取代的5元或6元芳族杂环环；R3独立地为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；每个R4和R4′独立地为H、F、Cl、Br、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基或CO2R13；每个R5和R5′独立地为H、F、C1-C4烷基、OH或OR13；或者R4和R5或者R4′和R5′与它们所连接的碳合在一起以形成C(＝O)、C(＝NOR13)或C(＝N-N(R14)(R15))；R6为H、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；R7为SF5、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基或S(O)pR18；每个R8独立地为卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基或S(O)pR19；或者R7和R8合在一起以形成包含环成员的5元碳环环，所述环成员选自至多两个O原子或至多两个S原子，并且任选地在碳原子环成员上被至多五个卤素原子取代；R9为SF5、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基或S(O)pR18，其在环连接到式1的其余部分的间位处；R10为卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基或S(O)pR19；R11为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；每个R13独立地为C1-C4烷基；R14为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；R15为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；每个R16独立地为H、卤素、氰基、硝基、SF5、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基或S(O)pR20；每个R17独立地为H、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；每个R18独立地为C1-C4卤代烷基；每个R19独立地为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；R20为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；n为0或1；并且每个p独立地为0、1或2；前提条件是当R1为乙基并且Q1为CH2时，则J1不是3-三氟甲基-1H-吡唑-1-基。2.根据权利要求1所述的化合物，其中每个J1或J2独立地选自3.根据权利要求2所述的化合物，其中X为R1，并且Y为-Q1-J1；R1为C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4...

【专利技术属性】
技术研发人员：P·L·夏普，
申请(专利权)人：杜邦公司，
类型：发明
国别省市：美国,US