一类双给电子芳胺类光敏剂及其在可见LED光固化的应用制造技术

本发明专利技术公开一类双给电子芳胺类光敏剂，该类光敏剂的结构特点是具有芳胺类双给电子共轭基团，结构通式如Ⅰ。该类光敏剂与一般所报道的可见光引发体系相比，该类光敏剂在可见光区具有强吸收且合成方法简单，可应用在可见LED光源的自由基和阳离子固化体系中，具有应用潜力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光功能有机分子
，具体涉及一类双给电子芳胺类光敏剂及在可见LED光源光固化的应用。
技术介绍
紫外光固化技术已经被广泛应用于许多工业领域如：印刷、油墨、涂层、粘合剂、光学器件、电子电路等。近年来，在新兴的数字存储、三维精密加工等领域也有涉及。与热聚合或热固化相比，它具有固化速率快、设备简单占地面积小、可室温操作、少污染、固化产物性能优异等特点，是一种环境友好的绿色技术。但紫外光固化存在许多弱点：①紫外辐射对人体有害、环保安全性差，设备要求高；②紫外光穿透力弱，光固化配方中一些具有共轭结构的组分或色素物质对紫外光有较强吸收，导致光强衰减严重、固化不彻底、光固化膜性能差；③易产生臭氧污染环境等。为此，发展了可见光固化技术，近些年来，摈弃了紫外光固化技术缺点的可见光固化正以其广泛的适应性越来越多地得到大家的研究和关注。可见光固化技术的关键在于寻求能够高效引发固化的可见光引发剂或引发体系。目前获取可见光引发剂有以下几种途径：①改造现有的紫外光引发剂，增加分子的共轭结<本文档来自技高网...

【技术保护点】
一类双给电子芳胺类光敏剂，其特征在于所述的结构式为：其中，R1为含氮或硫芳香杂环，其中为三苯胺、咔唑、卟啉、噻吩、苯并噻吩、苯并咪唑、N‑苯基咔唑、吩噻嗪；R2为C1到C10的直链或支链烷基。

【技术特征摘要】
1.一类双给电子芳胺类光敏剂，其特征在于所述的结构式为：
其中，R1为含氮或硫芳香杂环，其中为三苯胺、咔唑、卟啉、噻吩、苯并噻吩、苯并咪唑、N-
苯基咔唑、吩噻嗪；
R2为C1到C10的直链或支链烷基。
2.根据权利保护书1所述，其结构特征在于：R1选自:三苯胺、咔唑、卟啉、噻吩、苯并噻
吩、苯并咪唑、N-苯基咔唑、吩噻嗪。
3.根据权利保护书1~2所述，其结构特征在于：R2选自：CH3-、CH3CH2-、CH3CH2CH2-、
(CH3)2CH2-、CH3(CH2)3-、CH3(CH2)4-、CH3(CH2)5-、CH3(CH2)6-、CH3(CH2)7-。
4.根据权利要求书1~3所述的具有结构式（Ⅰ）的一类双给电子芳胺类光敏剂在可见-
LED光固化体系的应用。
5.根据权利要求书4所述，其应用特征在于，光固化的激光光源波长的范围为455-
532nm。
6.根据权利要求书4~5所述，其应用特征在于，光固化体系分为阳...

【专利技术属性】
技术研发人员：王涛，周腾飞，
申请(专利权)人：北京化工大学，
类型：发明
国别省市：北京;11