一种LTPS阵列基板的制备方法技术

本发明专利技术提供一种LTPS阵列基板的制备方法。所述LTPS阵列基板的制备方法包括：提供基板，所述基板包括多个面板区域及多个间隔区域，相邻的面板区域由所述间隔区域间隔开，所述间隔区域包括邻近面板区域的边缘区域；在邻近所述基板表面上且在所述基板的面板区域设置导电层，所述导电层构成LTPS阵列基板中的存储电容的一层；在所述导电层远离所述基板的表面涂布光阻层，所述光阻层完全覆盖所述导电层；在所述光阻层远离所述导电层的表面涂布显影液；对所述光阻层进行曝光及显影，以使得所述边缘区域对应的光阻层形成第一图案，其中，所述第一图案不同于对所述边缘区域对应的所述光阻层进行全部曝光并显影后形成的第二图案。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及平面显示领域，尤其涉及一种LTPS阵列基板的制备方法。
技术介绍
低温多晶硅薄膜晶体管(LowTemperaturePoly-silicon，LTPS)液晶显示装置由于具有高分辨率、反应速度快、高亮度、高开口率等优点而得到用户的青睐。LTPS液晶显示装置通常包括LTPS阵列基板。LTPS阵列基板在制备时，通常在一个较大的基板上同时制备多个LTPS阵列基板，制备完成之后，再将这块较大的基板进行切割以形成多块LTPS阵列基板。通常而言，所述LTPS阵列基板包括多个面板区域及多个间隔区域，所述面板区域是制作LTPS阵列基板的区域，间隔区域用于将相邻的面板区域间隔开，以便后续切割形成多个LTPS阵列基板。在制作LTPS阵列基板时，需要曝光和显影步骤。在进行曝光和显影步骤时，所述间隔区域对应的光阻需要全部显影。就目前的涂布显影模式而言，显影液涂布之后，各个区域显影量固定，当所述间隔区域对应的光阻需要全部显影时，需要大量的显影液，会导致邻近所述间隔区域的面板区域中的部分对应的显影液被消耗，进而导致所述面板区域邻近所述间隔区域的部分制备的结构受到影响。比如，对于设置在邻近所述间隔区域的面板区域中的存储电容而言，表现为这一层形成的连通孔比所述面板区域中的其他区域的小1微米，进而影响到所述LTPS阵列基板的性能。由此可见，目前的LTPS阵列基板的制备方法制备出来的LTPS阵列基板的性能较差。
技术实现思路
本专利技术提供一种LTPS阵列基板的制备方法，所述LTPS阵列基板的制备方法包括：提供基板，所述基板包括多个面板区域及多个间隔区域，相邻的面板区域由所述间隔区域间隔开，所述间隔区域包括邻近面板区域的边缘区域；在邻近所述基板表面上且在所述基板的面板区域设置导电层，所述导电层构成LTPS阵列基板中的存储电容的一层；在所述导电层远离所述基板的表面涂布光阻层，所述光阻层完全覆盖所述导电层；在所述光阻层远离所述导电层的表面涂布显影液；对所述光阻层进行曝光及显影，以使得所述边缘区域对应的光阻层形成第一图案，其中，所述第一图案不同于对所述边缘区域对应的所述光阻层进行全部曝光并显影后形成的第二图案。其中，在所述步骤“在所述光阻层远离所述导电层的表面涂布显影液”及所述步骤“对所述光阻层进行曝光及显影，以使得所述边缘区域对应的光阻层形成第一图案，其中，所述第一图案不同于对所述边缘区域对应的所述光阻层进行全部曝光并显影后形成的第二图案”之间，所述LTPS阵列基板的制备方法还包括：提供光罩，所述光罩邻近所述光阻层设置，所述光罩包括多个第一部分及多个第二部分，所述第一部分对应所述面板区域设置，所述第二部分对应所述间隔区域设置，所述第二部分包括对应所述边缘区域的第一子部分；将所述第一子部分设置为第一光罩图案。其中，所述第一光罩图案与第二光罩图案相同，其中，所述第二光罩图案为所述面板区域的显示区域对应的第一部分的图案。其中，所述第一光罩图案与所述第二光罩图案不同，其中，所述第二光罩图案为所述显示面板的显示区域对应的第一部分的图案。其中，在所述步骤“在所述光阻层远离所述导电层的表面涂布显影液”及所述步骤“对所述光阻层进行曝光及显影，以使得所述边缘区域对应的光阻层形成第一图案，其中，所述第一图案不同于对所述边缘区域对应的所述光阻层进行全部曝光并显影后形成的第二图案”之间，所述LTPS阵列基板的制备方法还包括：提供光罩，所述光罩邻近所述光阻层设置，所述光罩包括多个第一部分及多个第二部分，所述第一部分对应所述面板区域设置，所述第二部分对应所述间隔区域设置，所述第二部分包括对应所述边缘区域的第一子部分；提供挡板，所述挡板设置在所述第一子部分与所述边缘区域对应的光阻层之间，所述挡板用于遮挡光线，以防止光线穿透所述挡板照射到所述边缘区域对应的光阻层上。其中，所述光阻层为正光阻，在曝光时，当光线照射到所述光阻层上时，被光线照射到的光阻层的性质发生改变；在显影时，被光线照射到的光阻层被去除。其中，所述边缘区域的长度小于或等于5mm，所述边缘区域的长度小于或等于5mm。其中，在所述步骤“提供基板，所述基板包括多个面板区域及多个间隔区域，相邻的面板区域由所述间隔区域间隔开，所述间隔区域包括邻近面板区域的边缘区域”及所述步骤“邻近所述基板的表面上且在所述基板的面板区域设置导电层，所述导电层构成LTPS阵列基板中的存储电容的一层”之间，所述LTPS阵列基板的制备方法还包括：在所述基板的表面形成缓冲层；所述步骤“邻近所述基板的表面上且在所述基板的面板区域设置导电层，所述导电层构成LTPS阵列基板中的存储电容的一层”包括：邻近所述缓冲层远离所述基板的表面且对应所述面板区域设置导电层，所述导电层构成LTPS阵列基板中的存储电容的一层。其中，所述光阻层为负光阻，在曝光时，当光线照射到所述光阻层上时，未被光线照射到的光阻层的性质发生改变；在显影时，未被光线照射到的光阻层被去除。其中，所述步骤“在邻近所述基板表面上且在所述基板的面板区域设置导电层，所述导电层构成LTPS阵列基板中的存储电容的一层”包括：在邻近所述基板表面上且在所述基板的面板区域设置透明导电层，所述透明导电层构成LTPS阵列基板中的存储电容的一层。相较于现有技术，本专利技术的LTPS阵列基板的制备方法在对所述光阻层进行曝光及显影时，使得所述边缘区域对应的光阻层形成第一图案，且所述第一图案不同于对所述边缘区域对应的所述光阻层进行完全曝光并显影后形成的第二图案。由此可见，本本专利技术的LTPS阵列基板的制备方法由于第一图案不同于第二图案，而形成第二图案时是将边缘区域对应的光阻层完全曝光。因此，本专利技术的LTPS阵列基板的制备方法中形成的第一图案不需要将边缘区域进行完全曝光，因此，本专利技术的LTPS阵列基板的边缘区域对应的光阻层进行曝光显影形成第一图案时相较于将边缘区域对应的光阻层进行完全曝光时需要消耗的显影液更少。因此，本专利技术的LTPS阵列基板的边缘区域在进行曝光显影时会减小甚至消除对邻近所述边缘区域的面板区域的显影液的消耗，因而，所述面板区域邻近所述边缘区域的区域制备出来的结构受所述边缘区域的影响会减小甚至消除。进而，本专利技术的LTPS阵列基板的制备方法提升了制备出来的LTPS阵列基板的性能。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术一较佳实施方式的LTPS阵列基板的制备方法。图2为本专利技术LTPS阵列基板的制备方法中的基板的俯视图。图3为本专利技术LTPS阵列基板的制备方法中的基板的剖面图。图4至图10为本专利技术LTPS阵列基板的制备方法中的各个步骤对应的阵列基板的剖面结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1，图1为本专利技术一较佳实施方式的LTP本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种LTPS阵列基板的制备方法，其特征在于，所述LTPS阵列基板的制备方法包括：提供基板，所述基板包括多个面板区域及多个间隔区域，相邻的面板区域由所述间隔区域间隔开，所述间隔区域包括邻近面板区域的边缘区域；在邻近所述基板表面上且在所述基板的面板区域设置导电层，所述导电层构成LTPS阵列基板中的存储电容的一层；在所述导电层远离所述基板的表面涂布光阻层，所述光阻层完全覆盖所述导电层；在所述光阻层远离所述导电层的表面涂布显影液；对所述光阻层进行曝光及显影，以使得所述边缘区域对应的光阻层形成第一图案，其中，所述第一图案不同于对所述边缘区域对应的所述光阻层进行全部曝光并显影后形成的第二图案。

【技术特征摘要】
1.一种LTPS阵列基板的制备方法，其特征在于，所述LTPS阵列基板的制备方法包括：提供基板，所述基板包括多个面板区域及多个间隔区域，相邻的面板区域由所述间隔区域间隔开，所述间隔区域包括邻近面板区域的边缘区域；在邻近所述基板表面上且在所述基板的面板区域设置导电层，所述导电层构成LTPS阵列基板中的存储电容的一层；在所述导电层远离所述基板的表面涂布光阻层，所述光阻层完全覆盖所述导电层；在所述光阻层远离所述导电层的表面涂布显影液；对所述光阻层进行曝光及显影，以使得所述边缘区域对应的光阻层形成第一图案，其中，所述第一图案不同于对所述边缘区域对应的所述光阻层进行全部曝光并显影后形成的第二图案。2.如权利要求1所述的LTPS阵列基板的制备方法，其特征在于，在所述步骤“在所述光阻层远离所述导电层的表面涂布显影液”及所述步骤“对所述光阻层进行曝光及显影，以使得所述边缘区域对应的光阻层形成第一图案，其中，所述第一图案不同于对所述边缘区域对应的所述光阻层进行全部曝光并显影后形成的第二图案”之间，所述LTPS阵列基板的制备方法还包括：提供光罩，所述光罩邻近所述光阻层设置，所述光罩包括多个第一部分及多个第二部分，所述第一部分对应所述面板区域设置，所述第二部分对应所述间隔区域设置，所述第二部分包括对应所述边缘区域的第一子部分；将所述第一子部分设置为第一光罩图案。3.如权利要求2所述的LTPS阵列基板的制备方法，其特征在于，所述第一光罩图案与第二光罩图案相同，其中，所述第二光罩图案为所述面板区域的显示区域对应的第一部分的图案。4.如权利要求2所述的LTPS阵列基板的制备方法，其特征在于，所述第一光罩图案与所述第二光罩图案不同，其中，所述第二光罩图案为所述显示面板的显示区域对应的第一部分的图案。5.如权利要求1所述的LTPS阵列基板的制备方法，其特征在于，在所述步骤“在所述光阻层远离所述导电层的表面涂布显影液”及所述步骤“对所述光阻层进行曝光及显影，以使得所述边缘区域对应的光阻层形成第一图案，其中，所述第一图案不同于对所述边缘区域对应的所述光阻层进行全部曝光并显影后形成的第二图案”之间，所述LTPS阵...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘兴华，张从领，徐勇，唐元江，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42