一种倒装LED芯片及其制备方法技术

技术编号:13448196 阅读:38 留言:0更新日期:2016-08-01 16:27
本发明专利技术提供一种倒装LED芯片的制备方法,该方法包括在蓝宝石衬底上依次形成N型GaN层、多量子阱层、P型GaN层、金属反射层、金属保护层和PN电极焊盘。本发明专利技术所述倒装LED芯片的制备方法即采用了打孔技术,又采用了电流扩展技术,制备出等Pad倒装LED芯片。该芯片N电极焊盘与P电极焊盘之间具有较大的间距,为下游封装工艺提供了较大的工艺窗口,降低了封装过程中虚焊造成灯珠的失效率,从而节约了成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种倒装LED芯片的制备方法,其特征在于,该方法包括:在蓝宝石衬底上从下至上依次生长N型GaN层、多量子阱层和P型GaN层;在所述P型GaN层上形成金属反射层;在所述金属反射层上沉积一层金属保护层;在所述金属保护层表面部分区域刻蚀至暴露出N型GaN层形成N电极孔和N电极槽;在所述N电极孔和N电极槽内沉积N型欧姆接触金属层;在所述金属保护层表面、N电极孔和N电极槽的侧壁形成钝化层,刻蚀钝化层部分区域,暴露出N型欧姆接触金属层和部分金属保护层;将N电极孔和N电极槽连接起来形成N电极焊盘;在未被钝化层覆盖的金属保护层上形成与N电极焊盘大小相同且轴对称的P电极焊盘。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:彭翔赵汉民梁伏波金力傅建华汤松龄
申请(专利权)人:晶能光电江西有限公司
类型:发明
国别省市:江西;36

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