连续式等离子体化学气相沉积装置制造方法及图纸

提供一种即使持续长时间使用也不花费清扫等工夫、能够在维持稳定的成膜条件的同时以高生产效率进行成膜处理的等离子体化学气相沉积装置（100）。等离子体化学气相沉积装置（100）包括成膜室（1）和与成膜室（1）分开的加载互锁真空室（20、30），是在这些室间输送基材并在基材上生成成膜的连续式。成膜室（1）包括真空腔室（2）、将真空腔室（2）内的空气排出的真空排气机构（3）、向真空腔室（2）内供给原料气体的气体供给部（9）、和使真空腔室（2）内产生等离子体的等离子体产生电源（10）。在成膜室（1）中，基材被分为与等离子体产生电源（10）的一极连接的第1组（18）、和与等离子体产生电源（10）的另一极连接的第2组（19），在相互为不同极性的第1组（18）的基材与第2组（19）的基材之间产生等离子体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在基材上形成化学气相沉积皮膜的等离子体化学气相沉积装置，特别涉及在维持稳定的成膜条件的同时生产效率高的连续式等离子体化学气相沉积装置。
技术介绍
对于活塞环那样的汽车的发动机零件等，要求良好的耐磨损性、耐热性、防烧结性等。因此，对于这些机械零件，使用等离子体化学气相沉积方法实施DLC(Diamond-Like-Carbon)那样的耐磨损性涂覆。另外，在对上述基材实施等离子体化学气相沉积方法时，考虑生产率而希望在真空腔室内收纳大量基材而一次进行处理。在这样将大量基材一次处理的情况下，必须使在各个基材上形成的皮膜的厚度及膜质在基材彼此间均匀。因此，在以往的等离子体化学气相沉积装置中，将多个基材排列到同一工作台之上，通过该工作台的驱动，一边进行自转及公转一边进行成膜处理。或者，在其他的生产率提高的观点看，采用所谓的连续型的装置或带有加载互锁真空室的装置。这些装置包括成膜室、和与其分开设置的专门进行真空排气等的室，在这些室彼此之间输送基材。由此，保持将成膜室始终维持为真空状态的状态，实施许多成膜循环。在日本特开平5-295551号公报(专利文献I)中，公开了一种通过等本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种连续式等离子体化学气相沉积装置，包括成膜室和与上述成膜室分开的隔室，在上述成膜室与分开的隔室之间输送基材，并在上述基材上成膜，其特征在于，上述成膜室包括真空腔室、将上述真空腔室内的空气排出的泵、向上述真空腔室内供给原料气体的气体供给部、和使供给到上述真空腔室内的原料气体产生等离子体的交流型的等离子体产生电源；在上述成膜室中，上述基材被分为两组，属于与上述等离子体产生电源的一极连接的第1组和与上述等离子体产生电源的另一极连接的第2组中的某一组。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：玉垣浩，芳贺润二，
申请(专利权)人：株式会社神户制钢所，
类型：发明
国别省市：日本;JP