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提供一种即使持续长时间使用也不花费清扫等工夫、能够在维持稳定的成膜条件的同时以高生产效率进行成膜处理的等离子体化学气相沉积装置（100）。等离子体化学气相沉积装置（100）包括成膜室（1）和与成膜室（1）分开的加载互锁真空室（20、30），...
该专利属于株式会社神户制钢所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社神户制钢所授权不得商用。

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