电弧蒸发源制造技术

技术编号:41288399 阅读:46 留言:0更新日期:2024-05-11 09:37
本发明专利技术提供一种电弧蒸发源,其包括:包含靶材放电面的靶材;电弧电源;被配置在靶材的前方的位置的电磁线圈;以及被配置在靶材的后方的位置的中央磁铁。电磁线圈形成包含与靶材放电面交叉且以沿前后方向通过该电磁线圈的径向内侧的方式延伸的第一磁力线的第一磁场。中央磁铁形成包含在该中央磁铁与靶材放电面之间的区域沿前后方向延伸的第二磁力线的第二磁场。基于第一磁场和第二磁场的排斥作用,在靶材放电面上稳定地形成水平磁场和垂直磁场。据此,通过促进靶材放电面上的电弧斑点的移动,能够抑制飞向工件的宏粒子的发生。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种电弧蒸发源


技术介绍

1、以往,作为以提高耐磨耗性等为目的而在工具及机械零件等的基材的表面形成覆膜的方法,提出了使用电弧放电的各种成膜方法。在日本专利公开公报特开平10-280135号中公开了使用此种电弧放电的薄膜蒸镀装置。在该装置中,在靶材的前方或后方分别配置由永久磁铁或电磁铁形成的电弧调节器。真空腔室构成电弧放电的阳极,支撑靶材的支撑架构成电弧放电的阴极,在两个电极之间施加电弧放电电压。并且,通过由各电弧调节器分别形成从靶材朝向工件(被蒸镀物、成膜对象)的磁力线,受电弧放电而从靶材放电面释放出的蒸镀物质的带电粒子飞向工件并堆积。

2、在日本专利公开公报特开平10-280135号中记载的技术中,由于在靶材放电面上电弧斑点(arc spot)难以移动,因此,容易发生作为覆膜形成材料的块儿的宏粒子(macroparticle,也称为小滴(droplet)),由于该宏粒子附着于工件而存在工件上的覆盖膜的面粗糙度变差的问题。具体而言,在上述的技术中,配置在靶材的周围的永久磁铁或电磁铁在垂直于靶材放电面的方向上分别形成以相同的取向通本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种电弧蒸发源,其特征在于,利用电弧放电使覆膜形成材料蒸发,并向工件供给所述覆膜形成材料,所述电弧蒸发源包括:

2.根据权利要求1所述的电弧蒸发源,其特征在于还包括:

3.根据权利要求2所述的电弧蒸发源,其特征在于还包括:

4.根据权利要求3所述的电弧蒸发源,其特征在于,

5.根据权利要求4所述的电弧蒸发源,其特征在于还包括:

6.根据权利要求5所述的电弧蒸发源,其特征在于,

7.根据权利要求5或6所述的电弧蒸发源,其特征在于,

【技术特征摘要】

1.一种电弧蒸发源,其特征在于,利用电弧放电使覆膜形成材料蒸发,并向工件供给所述覆膜形成材料,所述电弧蒸发源包括:

2.根据权利要求1所述的电弧蒸发源,其特征在于还包括:

3.根据权利要求2所述的电弧蒸发源,其特征在于还包括:

【专利技术属性】
技术研发人员:高桥哲也藤田润树久次米进山本兼司
申请(专利权)人:株式会社神户制钢所
类型:发明
国别省市:

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