一种薄膜晶体管及其制备方法和应用技术

本发明专利技术所述的一种薄膜晶体管，包括衬底，沿衬底垂直方向，依次在衬底上形成的栅极层、栅极绝缘层、半导体层和源/漏电极层，半导层在衬底上的投影落入栅极层在衬底上的投影区域范围内；在栅极绝缘层中留出可修复区域并进行修复处理，可促使栅极绝缘层中缺陷态捕获的电荷释放出来，修复缺陷态，提高栅极绝缘层性能，从而使得薄膜晶体管特性有所改善，提高薄膜晶体管的使用性能。同时，本发明专利技术所述的一种薄膜晶体管的制备方法，在半导体层图案化的过程中，使得半导层在衬底上的投影落入栅极层在衬底上的投影区域范围内，采用钝化工艺对栅极绝缘层暴露部分进行修复处理，即可实现薄膜晶体管特性的改善，制备工艺简单、成本低、易实现工业化生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，具体涉及一种薄膜晶体管及其制备方法，以及在平板 显示装置中的应用。
技术介绍
薄膜晶体管(英文全称Thin Film Transistor,简称TFT)在显示
有着广 泛的应用，现有技术中底栅型薄膜晶体管，如图1所示，包括设置基板1上的栅极层3和半 导体层5,以及覆盖在栅极层3上绝缘栅极层3和半导体层5的栅极绝缘层4。 栅极绝缘层通常采用溶液法、化学气相沉积、原子层沉积法等工艺制备。溶液法主 要为：在栅极层上涂布硅氧烷等前驱体，通过前驱体的水解形成二氧化硅层等介电层以作 为栅极绝缘层；化学气相沉积为将硅烷（SiH x)与硝气（N2O)或四乙氧基硅烷（TEOS)等离子 体化后扩散到栅极层上，经化学反应、长大最终成膜为栅极绝缘层。原子层沉积法为通过 将气相前躯体脉冲交替充反应室，前躯体在衬底表面逐层反应形成单原子层薄膜，诸如氧 化铝等以作为栅绝缘层。上述工艺在制备栅极绝缘层的过程中，难免会在栅极绝缘层中形 成H\寄生电荷以及夹杂电荷，导致栅极绝缘层中的缺陷态增加，影响栅极绝缘层的介电性 能，从而影响薄膜晶体管的开关电流等整体特性。 更重要的是，在栅极绝缘层上还需要制备半导体层，在半导体层的制备过程中，特 别是采用溅射等冲击力较大的工艺制备半导体层时，会进一步加剧栅极绝缘层的损伤，影 响栅极绝缘层的膜层质量。
技术实现思路
为此，本专利技术所要解决的是现有技术中底栅型薄膜晶体管的栅极绝缘层在制备过 程中会受到损伤，进而影响薄膜晶体管性能的问题，提供一种栅极绝缘层可得到有效修复 的薄膜晶体管及其制备方法和应用。 为解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案如下： 本专利技术所述的一种薄膜晶体管，包括衬底，沿垂直衬底方向，依次在衬底上形成的 栅极层、栅极绝缘层、半导体层和源/漏电极层，所述源/漏电极层中的源极和漏极分别与 半导体层两端的源区和漏区接触连接，所述半导层在所述衬底上的投影落入所述栅极层在 所述衬底上的投影区域范围内。 所述半导体层为金属氧化物半导体层。 所述金属氧化物半导体层上还设置有保护层，所述保护层包括刻蚀阻挡层、光线 阻挡层、钝化层中的一种或多种的堆叠结构。 所述衬底上还设置有缓冲层。 本专利技术所述的薄膜晶体管的制备方法，包括如下步骤： S1、在衬底上形成第一导电层，并图案化形成栅极层； S2、在衬底上形成覆盖栅极层的栅极绝缘层； S3、在栅极绝缘层上形成半导体材料层，并图案化制得半导体层，半导体层在衬底 上的投影落入栅极层在衬底上的投影区域范围内； S4、对栅极绝缘层未被半导体层覆盖区域进行钝化处理； S5、在栅极绝缘层上形成覆盖半导体层的第二导电层，并图案化形成分别覆盖半 导体层两端源区和漏区的源极和漏极。 步骤S4中所述钝化处理包括氢等离子体处理、高温高湿处理、卤素等离子处理、 高纯氢退火处理中的一种。 步骤S4之后还包括在所述栅极绝缘层上形成覆盖所述半导体层的保护层，并图 案化所述保护层以露出所述半导体层两端源区和漏区的步骤，所述保护层包括刻蚀阻挡 层、光线阻挡层、钝化层中的一种或多种的堆叠结构。 步骤Sl中还包括在所述衬底上直接形成缓冲层的步骤。 本专利技术所述的一种平板显示装置，包括显示单元，所述显示单元进一步包括第一 像素电极； 所述平板显示装置还包括权利要求1-4任一所述的薄膜晶体管，所述第一像素电 极与所述薄膜晶体管的源极或漏极电连接。 所述平板显示装置为液晶显示装置或有机发光显示装置。 本专利技术的上述技术方案相比现有技术具有以下优点： 1、本专利技术所述的一种薄膜晶体管，包括衬底，沿衬底垂直方向，依次在衬底上形成 的栅极层、栅极绝缘层、半导体层和源/漏电极层，所述源/漏电极层中的源极和漏极分别 与半导体层两端的源区和漏区接触连接，半导层在衬底上的投影落入栅极层在衬底上的投 影区域范围内；即半导体层相对于栅极层的面积较小，制备完半导体层之后，可以暴露出大 部分栅极绝缘层区域，采用钝化工艺对所述栅极绝缘层进行修复处理，可促使栅极绝缘层 中缺陷态捕获的电荷释放出来，修复缺陷态，提高栅极绝缘层性能，从而使得薄膜晶体管特 性有所改善，提高薄膜晶体管的使用性能。 2、本专利技术所述的一种薄膜晶体管的制备方法，在半导体层图案化的过程中，使得 半导层在衬底上的投影落入栅极层在衬底上的投影区域范围内，即半导体层相对于栅极层 的面积较小，采用钝化工艺对栅极绝缘层暴露部分进行修复处理，可促使栅极绝缘层中缺 陷态捕获的电荷释放出来，修复缺陷态，提高栅极绝缘层性能，从而使得薄膜晶体管特性有 所改善，提高薄膜晶体管的使用性能，制备工艺简单、成本低、易实现工业化生产。 3、本专利技术所述的一种平板显示装置，对薄膜晶体管中的栅极绝缘层进行钝化修 复，促使栅极绝缘层中缺陷态捕获的电荷释放出来，修复缺陷态，提高栅极绝缘层性能，从 而使得薄膜晶体管特性有所改善，提高薄膜晶体管的使用性能，进而优化了平板显示装置 的性能。【附图说明】 为了使本专利技术的内容更容易被清楚的理解，下面根据本专利技术的具体实施例并结合 附图，对本专利技术作进一步详细的说明，其中 图1是现有技术中底栅型薄膜晶体管的结构示意图； 图2a_2d是本专利技术实施例所述薄膜晶体管在制备过程中的结构示意图。 图中附图标记表示为：1-衬底、2-缓冲层、3-栅极层、4-栅极绝缘层、5-半导体 层、61-源极、62-漏极、7-保护层。【具体实施方式】 为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术的实 施方式作进一步地详细描述。 本专利技术可以以许多不同的形式实施，而不应该被理解为限于在此阐述的实施例。 相反，提供这些实施例，使得本公开将是彻底和完整的，并且将把本专利技术的构思充分传达给 本领域技术人员，本专利技术将仅由权利要求来限定。在附图中，为了清晰起见，会夸大层和区 域的尺寸和相对尺寸。应当理解的是，当元件例如层、区域或基板被称作"形成在"或"设置 在"另一元件"上"时，该元件可以直接设置在所述另一元件上，或者也可以存在中间元件。 相反，当元件被称作"直接形成在"或"直接设置在"另一元件上时，不存在中间元件。 实施例 本实施例提供一种薄膜晶体管及其制备方法，如图2d所示，包括衬底1，沿垂直衬 底1的方向，依次在衬底1上形成的栅极层3、栅极绝缘层4、半导体层5和源/漏电极层，所 述源/漏电极层中的源极61和漏极62分别与半导体层5两端的源区和漏区接触连接。所 述半导层5在所述衬底1上的投影落入所述栅极层3在所述衬底1上的投影区域范围内； 即半导体层4相对于栅极层3的面积较小，制备完半导体层4之后，可以暴露出大部分栅极 绝缘层4区域，采用钝化工艺对所述栅极绝缘层4进行修复处理，可促使栅极绝缘层中缺陷 态捕获的电荷释放出来，修复缺陷态，提高栅极绝缘层4性能，从而使得薄膜晶体管特性有 所改善，提高薄膜晶体管的使用性能。 本实施例中，所述栅极层3选自但不限于铜、铝、钥、钛、铟锡氧化物、铟锌氧化 物、掺杂多晶硅中的一种或多种材料的堆叠结构层，本实施例优选钥；本实施例中所述 栅极层3的厚度为2500A，作为本专利技术的其他实施例，所述栅极层3的厚度还可以为 500~7000人，均可以实现本专利技术的目的，属于本专利技术的保护范围。 所述栅极绝缘层4选自但本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜晶体管，包括衬底，沿垂直衬底方向，依次在衬底上形成的栅极层、栅极绝缘层、半导体层和源/漏电极层，所述源/漏电极层中的源极和漏极分别与半导体层两端的源区和漏区接触连接，其特征在于，所述半导层在所述衬底上的投影落入所述栅极层在所述衬底上的投影区域范围内。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：顾维杰，蔡世星，
申请(专利权)人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司，昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32