【技术实现步骤摘要】
用于制造多栅器件的鳍的方法和用于制造鳍的芯结构
本专利技术涉及多栅器件,更具体地,涉及在制造多栅器件时采用的侧壁图像转移(sidewallimagetransfer)方法和结构。
技术介绍
可通过执行多个侧壁图像转移蚀刻步骤以形成多栅器件的鳍来实现鳍密度控制,具体地,实现鳍密度四倍化。然而,这些工艺一般采用相对复杂的图案化(patterning)叠层。例如,一个这样的叠层由至少十个不同的层构成,其制造成本以及在鳍形成工艺中使用时的成本相对较高。
技术实现思路
一个实施例涉及一种用于制造多栅器件的鳍的方法。根据此方法,在半导体衬底之上的多个芯(mandrel)中或多个芯上形成多个侧壁,以便每个所述芯包括由第一材料构成的第一侧壁以及由不同于所述第一材料的第二材料构成的第二侧壁。选择性地去除所述多个芯中第一芯的所述第一侧壁。此外,将由所述多个侧壁中剩余的侧壁构成的图案转移到下伏层(underlyinglayer)上以在所述下伏层中形成硬掩模。进一步地,通过采用所述硬掩模并且蚀刻所述衬底中的半导电材料来形成所述鳍。另一实施例也涉及一种用于制造多栅器件的鳍的方法。根据此方法,通过执行倾斜离子注入工艺,在半导体衬底之上的多个芯中形成多个侧壁,以便每个所述芯包括由第一材料构成的第一侧壁以及由不同于所述第一材料的第二材料构成的第二侧壁。去除所述多个芯中第一芯的所述第一侧壁。此外,将由所述多个侧壁中剩余的侧壁构成的图案转移到下伏层上以在所述下伏层中形成硬掩模。进一步地,通过采用所述硬掩模并且蚀刻所述衬底中的半导电材料来形成所述鳍。备选实施例涉及一种用于制造多栅器件的鳍的方法。根 ...
【技术保护点】
一种用于制造多栅器件的鳍的方法,包括:在半导体衬底之上的多个芯中或多个芯上形成多个侧壁,以便每个所述芯包括由第一材料构成的第一侧壁以及由不同于所述第一材料的第二材料构成的第二侧壁;选择性地去除所述多个芯中第一芯的所述第一侧壁;将由所述多个侧壁中剩余的侧壁构成的图案转移到下伏层上以在所述下伏层中形成硬掩模;以及通过采用所述硬掩模并且蚀刻所述衬底中的半导电材料来形成所述鳍。
【技术特征摘要】
2013.12.23 US 14/1391211.一种用于制造多栅器件的鳍的方法,包括:在半导体衬底之上的多个芯中或多个芯上形成多个侧壁,以便每个所述芯包括由第一材料构成的第一侧壁以及由不同于所述第一材料的第二材料构成的第二侧壁,所述第一侧壁和所述第二侧壁分别与每个所述芯的横向上相反的两侧直接接触;选择性地去除所述多个芯中第一芯的所述第一侧壁;将由所述多个侧壁中剩余的侧壁构成的图案转移到下伏层上以在所述下伏层中形成硬掩模;以及通过采用所述硬掩模并且蚀刻所述衬底中的半导电材料来形成所述鳍。2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述去除进一步包括在所述多个侧壁之上形成光刻掩模,以便暴露所述第一芯的所述第一侧壁和与所述第一芯相邻地设置的第二芯的所述第二侧壁,并且其中,所述剩余的侧壁包括所述第二芯的所述第二侧壁。3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述光刻掩模覆盖所述第二芯的所述第一侧壁,并且其中,所述剩余的侧壁包括所述第二芯的所述第一侧壁。4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一材料为TiN,所述第二材料为TaN。5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述形成包括在单个蚀刻步骤中形成每个所述鳍。6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述去除包括应用O2等离子体蚀刻工艺以去除所述第一芯的所述第一侧壁。7.一种用于制造多栅器件的鳍的方法,包括:通过执行倾斜离子注入工艺,在半导体衬底之上的多个芯中形成多个侧壁,以便每个所述芯包括由第一材料构成的第一侧壁以及由不同于所述第一材料的第二材料构成的第二侧壁;选择性地去除所述多个芯中第一芯的所述第一侧壁;将由所述多个侧壁中剩余的侧壁构成的图案转移到下伏层上以在所述下伏层中形成硬掩模;以及通过采用所述硬掩模并且蚀刻所述衬底中的半导电材料来形成所述鳍。8.根据权利要求7所述的方法,其中,所述去除进一步包括在所述多个侧壁之上形成光刻掩模,以便暴露所述第一芯的所述第一侧壁和与所述第一芯相邻地设置的第二芯的所述第二侧壁,并且其中,所述剩余的侧壁包括所述第二芯的所述第二侧壁。9.根据权利要求8所述的方法,其中,所述光刻掩模覆盖所述第二芯的所述第一侧壁,并且其中,所述剩余的侧壁包括所述第二芯的所述第一侧壁。10.根据权利要求7所述的方法,其中,所述倾斜离子注入工艺包括倾斜注入第一金属离子以形成所述第一侧壁、以及倾斜注入第二金属离子以形成所述第二侧壁。11.根据权利要求10所述的方法,其中,所述第一金属为Ti,所述第二金属为Ta。12.根据权利要求11所述的方法,其中,所述第一材料为TiN,所述第二材料为TaN。13.根据权利要求7所...
【专利技术属性】
技术研发人员:何虹,C·曾,叶俊呈,殷允朋,
申请(专利权)人:国际商业机器公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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