本发明专利技术公开了一种可增进集成电路基板植球良率的集成电路基板植球装置与方法，尤特指在吸球治具上方加装一导球板，铺球时焊球会先经由导球板的导球孔，再铺设至吸球治具的球槽中，所以即使吸球治具的球槽制作的比较浅，也可以使得焊球完全铺设在吸球治具上，而且不会有刮球的问题产生；同时，因为球槽制作的比较浅，所以在植球时基板上升的高度更容易控制，不会有助焊剂沾粘到吸球治具或者是焊球散球的情形发生。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种可增进集成电路基板植球良率的集成电路基板植球装置与方法，尤特指在吸球治具上方加装一导球板，铺球时焊球会先经由导球板的导球孔，再铺设至吸球治具的球槽中，所以即使吸球治具的球槽制作的比较浅，也可以使得焊球完全铺设在吸球治具上，而且不会有刮球的问题产生；同时，因为球槽制作的比较浅，所以在植球时基板上升的高度更容易控制，不会有助焊剂沾粘到吸球治具或者是焊球散球的情形发生。【专利说明】
本专利技术涉及可增进集成电路基板植球良率的方法，主要是为了避免在铺球时会有刮球问题产生，以及在植球时会有助焊剂沾粘到吸球治具或者是焊球散球情形发生的焊球铺球与植球技术上。
技术介绍
按，公知集成电路基板植球的方法，敬请参阅图1所示:其为公知技术的植球方法的截面组合示意图。主要在于:吸球治具10设有多个上方开口较大、下方开口较小的球槽11，每一个球槽11中可供容设一个焊球I，每一个球槽11的下方都设有一穿孔12，该吸球治具10下方设有一真空装置20，该真空装置20内部设有一真空气室21，该真空气室21对应于球槽11的穿孔12处设有连接孔22，该真空气室21的中间设有一气孔23，由该气孔23将真空气室21中的空气抽出，藉以吸附住焊球1，或由该气孔23重新将空气排进真空气室21中，藉以释放出焊球1，该真空装置20两侧设有翻转轴持装置24，做为将吸球治具10翻转一百八十度之用，该吸球治具10上方设有一铺球治具30，该铺球治具30中可供容纳众多的焊球1，当铺球治具30来回在吸球治具10移动时，即可使焊球I直接铺设在吸球治具10的球槽11中(如图2和图3所示)，再由真空装置20的气孔23将真空气室21中的空气抽出，藉以吸附住焊球1，完成铺球作业(如图4所示)，再由翻转轴持装置24将吸球治具10向下翻转一百八十度，使得吸球治具10的焊球I朝下准备植球(如图5所示)，此时基板40上升(如图6所示)，再由真空装置20的气孔23重新将空气排进真空气室21中，藉以释放出焊球1，让焊球I可以掉落至基板40的助焊剂41上，进行植球(如图7所示)，最后基板40下降(如图8所示)，完成植球作业。 惟，上述公知技术的集成电路基板植球的方法，为了能够有效固定焊球(锡球)1以及避免铺球时造成刮球情形，所以会将吸球治具10里的球槽11制作的比较深，若吸球治具10里的球槽11制作的比较浅(如图9所示)，会造成焊球I铺不满的情形，因为球槽11制作的太浅，会因前面一颗焊球I凸出较多，导致后面焊球I被向上推挤，导致该焊球I无法顺利掉落至球槽11里，进而发生缺球的情形(如图10所示);同时，球槽11制作的太浅也容易发生刮球的情形，因为焊球I会卡在两颗焊球I的中间而无法动弹(如第图11所示)，当铺球治具30移动时，即会将卡住的焊球I刮掉上半层(如第图12所示)。 但是若将吸球治具10里的球槽11制作的比较深，会造成基板40在植球的时侯，上升高度比较不好控制，因为当基板40上升时太靠近吸球治具10，则助焊剂41很容易沾附到吸球治具10 (如图7局部放大所示);反之，当基板40上升时离吸球治具10太远(如图13所示)，则植球时掉落时可能会偏离植球点位置，造成焊球I散球情形(如图14所示)，为其既存尚待克服解决的问题与缺陷。
技术实现思路
针对现有技术中存在的问题，本专利技术的目的在于提供一种集成电路基板植球装置于方法，以增进集成电路基板植球良率。 专利技术解决问题所应用的技术手段以及对照现有技术的功效在于:吸球治具的上方及下方设有一导球板及一真空装置，该真空装置两侧设有翻转轴持装置，该导球板对应于吸球治具的球槽处设有导球孔，该导球孔中可供容设一个焊球，该导球板上方还设有一铺球治具，该铺球治具中可供容纳众多的焊球；由于在吸球治具上方加装一导球板，铺球时焊球会先经由导球板的导球孔，再铺设至吸球治具的球槽中，所以即使吸球治具的球槽制作的比较浅，也可以使得焊球完全铺设在吸球治具上，而且不会有刮球的问题产生；同时，因为球槽制作的比较浅，所以在植球时基板上升的高度更容易控制，不会有助焊剂沾粘到吸球治具或者是焊球散球的情形发生。 【专利附图】【附图说明】 图1:为现有技术植球方法的截面组合示意图。 图2:为现有技术植球方法翻转轴持装置向右倾斜时的动作示意图。 图3:为现有技术植球方法翻转轴持装置向左倾斜时的动作示意图。 图4:为现有技术植球方法真空装置吸住焊球的动作示意图。 图5:为现有技术植球方法翻转轴持装置将吸球治具翻转向下时的动作示意图。 图6:为现有技术植球方法基板上升时的动作示意图。 图7:为现有技术植球方法真空装置释放焊球的动作示意图。 图8:为现有技术植球方法基板下降时的动作示意图。 图9:为现有技术植球方法焊球无法顺利掉落至球槽里的状态示意图。 图10:为现有技术植球方法球槽发生缺球的状态示意图。 图11:为现有技术植球方法焊球卡在两颗焊球中间的状态示意图。 图12:为现有技术植球方法铺球治具移动时将卡住的焊球刮掉的状态示意图。 图13:为现有技术植球方法基板上升时离吸球治具太远的状态示意图。 图14:为现有技术植球方法焊球散球的状态示意图。 图15:为本专利技术植球方法的截面组合示意图。 图16:为本专利技术导球板下降与吸球治具结合的动作示意图。 图17:为本专利技术翻转轴持装置向右倾斜时的动作示意图。 图18:为本专利技术翻转轴持装置向左倾斜时的动作示意图。 图19:为本专利技术真空装置吸住焊球的动作示意图。 图20:为本专利技术导球板上升与吸球治具脱离的动作示意图。 图21:为本专利技术翻转轴持装置将吸球治具翻转向下时的动作示意图。 图22:为本专利技术基板上升时的动作不意图。 图23:为本专利技术真空装置释放焊球的动作示意图。 图24:为本专利技术基板下降时的动作示意图。 其中，附图标记说明如下: I焊球 10吸球治具 11球槽 12穿孔 20真空装置 21真空气室 22连接孔 23气孔 24翻转轴持装置 30铺球治具 40基板 41助焊剂 本专利技术部分 I焊球 50吸球治具 51球槽 52穿孔 60真空装置 61真空气室 62连接孔 63气孔 64翻转轴持装置 70导球板 71导球孔 80铺球治具 90基板 91助焊剂 【具体实施方式】 为使本
的技术人员易于深入了解本专利技术的装置内容以及所能达成的功能效益，兹列举一具体实施例，并配合附图详细介绍说明如下: 一种可增进集成电路基板植球良率的集成电路基板植球方法，敬请参阅图15所示:其为本专利技术的截面组合示意图。主要在于: 吸球治具50设有多个上方开口较大、下方开口较小的球槽51，每一个球槽51中可供容设一个焊球1，每一个球槽51的下方都设有一穿孔52，该吸球治具50下方设有一真空装置60，该真空装置60内部设有一真空气室61，该真空气室61对应于球槽51的穿孔52处设有连接孔62，该真空气室61的中间设有一气孔63，由该气孔63将真空气室61中的空气抽出，藉以吸附住焊球1，或由该气孔63重新将空气排进真空气室61中，藉以释放出焊球1，该真空装置60两侧设有翻转轴持装置64，本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种集成电路基板植球装置，其特征在于，该集成电路基板植球装置包括：吸球治具，设有多个上方开口大于下方开口的球槽，每一所述球槽中可供容设一个焊球，每一所述球槽的下方都设有一穿孔；真空装置，设置于该吸球治具的下方，该真空装置内部设有一真空气室，该真空气室对应于该球槽的该穿孔处设有连接孔，该真空气室的中间设有一气孔，该气孔用以将真空气室中的空气抽出以吸附住该焊球及重新将空气排进真空气室中以释放出该焊球；翻转轴持装置，设置于该真空装置两侧，用以将吸球治具翻转180度；导球板，设置于该吸球治具的上方；导球孔，设置于该导球板对应于该吸球治具的该球槽处，每一所述导球孔中都可供容设一个焊球；铺球治具，设置于该导球板上方，该铺球治具中可供容纳多个所述焊球。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈照上，林于凯，
申请(专利权)人：博磊科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71
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