六氯乙硅烷机台及其保养维护方法技术

一种六氯乙硅烷机台，包括：工艺机台，为六氯乙硅烷之工艺制程腔室；泵抽单元，通过具有主阀的管路与所述工艺机台连接；冷阱装置，进一步包括金属隔离网以及设置在金属隔离网外围的冷却装置，且冷阱装置设置在管路之异于泵抽单元的一端与主阀之间。本发明专利技术通过在主阀和管路之间设置冷阱装置，使得工艺机台之副产物溅落在活动设置的金属隔离网上，而不会在管路内聚集，在对六氯乙硅烷机台进行清理时不仅操作简单、方便，而且提高保养效率，提高了六氯乙硅烷机台的在线生产时间。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种。
技术介绍
众所周知，在半导体领域所用的六氯乙硅烷机台通常是通过具有主阀的管道与泵抽单元连接。但是，随着所述六氯乙硅烷机台长时间的工作以及工艺特性，其副产物较多，并伴随着泵抽单元的作用溅落在所述管道内。据统计分析，完成每次管道例行保养维护的时间需要至少6h。特别地，所述管道采用分段连接方式，且根据安装需要，部分管道设置在地板夹层内，进一步增加了保养维护的时间。 在竞争激烈的市场大环境下， 如何提高所述六氯乙硅烷机台的在线生产时间，减少机台保养维护时间，以提高生产效率，降低生产成本已成为本领域技术人员亟待解决的技术问题之一。 故针对现有技术存在的问题，本案设计人凭借从事此行业多年的经验，积极研究改良，于是有了本专利技术一种。
技术实现思路
本专利技术是针对现有技术中，传统的六氯乙硅烷机台保养维护的时间较长，且操作难度大等缺陷提供一种六氯乙硅烷机台。 本专利技术之又一目的是针对现有技术中，传统的六氯乙硅烷机台保养维护的时间较长，且操作难度大等缺陷提供一种六氯乙硅烷机台的保养维护方法。 为了解决上述问题，本专利技术提供一种六氯乙硅烷机台，所述六氯乙硅烷机台包括:工艺机台，所述工艺机台为六氯乙硅烷之工艺制程腔室；泵抽单元，所述泵抽单元通过具有主阀的管路与所述工艺机台连接；冷阱装置，所述冷阱装置进一步包括金属隔离网以及设置在所述金属隔离网外围的冷却装置，且所述冷阱装置设置在所述管路之异于所述泵抽单元的一端与所述主阀之间。 可选地，所述冷阱装置之金属隔离网活动设置在所述管路之异于所述泵抽单元的一端与所述主阀之间。 可选地，所述冷阱装置之金属隔离网为抽屉式设计。 可选地，所述冷阱装置之冷却装置为循环冷却水。 为实现本专利技术之又一目的，本专利技术提供一种六氯乙硅烷机台的保养维护方法，所述六氯乙硅烷机台的保养维护方法，包括: 执行步骤S1:所述工艺机台完成工艺制程； 执行步骤S2:所述工艺机台之工艺制程气体在所述泵抽单元的作用下进入所述管路； 执行步骤S3:所述冷阱装置之冷却装置将所述工艺制程气体冷却，并将所述副产物溅落在所述冷阱装置之金属隔离网上； 执行步骤S4:在所述六氯乙硅烷机台进行保养维护时，抽出所述冷阱装置之金属隔离网，并进行更换。 综上所述，本专利技术所述六氯乙硅烷机台通过在所述主阀和所述管路之间设置具有金属隔离网和冷却装置的所述冷阱装置，使得所述工艺机台之工艺制程气体进入所述管路所产生的副产物溅落在所述活动设置的金属隔离网上，而不会在所述管路内聚集，在对所述六氯乙硅烷机台进行清理时不仅操作简单、方便，而且提高保养效率，提高了所述六氯乙硅烷机台的在线生产时间。 【附图说明】 图1所示为本专利技术六氯乙硅烷机台的结构示意图。 【具体实施方式】 为详细说明本专利技术创造的
技术实现思路
、构造特征、所达成目的及功效，下面将结合实施例并配合附图予以详细说明。 请参阅图1，图1所示为本专利技术六氯乙硅烷机台的结构示意图。所述六氯乙硅烷机台1，包括:工艺机台11，所述工艺机台11为所述六氯乙硅烷之工艺制程腔室；泵抽单元12，所述泵抽单元12通过具有主阀13的所述管路14与所述工艺机台11连接；冷阱装置15，所述冷阱装置15进一步包括金属隔离网151，以及设置在所述金属隔离网151外围的所述冷却装置152，且所述冷阱装置15设置在所述管路14之异于所述泵抽单元12的一端与所述主阀13之间。 作为具体的实施方式，非限制性的列举，所述冷阱装置15之金属隔离网151活动设置在所述管路14之异于所述泵抽单元12的一端与所述主阀13之间。更具体地，所述冷阱装置15之金属隔离网151为抽屉式设计。即，在对所述六氯乙硅烷机台I进行保养维护时，可独立的抽出所述金属隔离网151进行副产物清理或进行更换。优选地，所述冷阱装置15之冷却装置152为循环冷却水。 为了更直观的揭露本专利技术之技术方案，凸显本专利技术之有益效果，现结合具体的实施方式为例进行阐述，所述【具体实施方式】之具体结构不应视为对本技术方案的限制。 请继续参阅图1，详述本专利技术六氯乙硅烷机台的保养维护工作原理。所述六氯乙硅烷机台的保养维护方法，包括: 执行步骤S1:所述工艺机台11完成工艺制程； 执行步骤S2:所述工艺机台11之工艺制程气体在所述泵抽单元12的作用下进入所述管路14 ； 执行步骤S3:所述冷阱装置15之冷却装置152将所述工艺制程气体冷却，并将所述副产物溅落在所述冷阱装置15之金属隔离网151上； 执行步骤S4:在所述六氯乙硅烷机台I进行保养维护时，抽出所述冷阱装置15之金属隔离网151，并进行更换。 显然地，所述工艺机台11之工艺制程气体进入所述管路14，其产生的副产物溅落在所述冷阱装置15之金属隔离网151上，而不会在所述管路14内聚集。故在对所述六氯乙硅烷机台I进行保养维护时仅需更换所述冷阱装置15之金属隔离网151，不仅使得所述保养维护操作简单、方便，而且提高保养效率，将保养维护时间缩短在Ih以内，提高了所述六氯乙硅烷机台I的在线生产时间。 综上所述，本专利技术所述六氯乙硅烷机台通过在所述主阀和所述管路之间设置具有金属隔离网和冷却装置的所述冷阱装置，使得所述工艺机台之工艺制程气体进入所述管路所产生的副产物溅落在所述活动设置的金属隔离网上，而不会在所述管路内聚集，在对所述六氯乙硅烷机台进行清理时不仅操作简单、方便，而且提高保养效率，提高了所述六氯乙硅烷机台的在线生产时间。 本领域技术人员均应了解，在不脱离本专利技术的精神或范围的情况下，可以对本专利技术进行各种修改和变型。因而，如果任何修改或变型落入所附权利要求书及等同物的保护范围内时，认为本专利技术涵盖这些修改和变型。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种六氯乙硅烷机台，其特征在于，所述六氯乙硅烷机台包括： 工艺机台，所述工艺机台为六氯乙硅烷之工艺制程腔室； 泵抽单元，所述泵抽单元通过具有主阀的管路与所述工艺机台连接； 冷阱装置，所述冷阱装置进一步包括金属隔离网以及设置在所述金属隔离网外围的冷却装置，且所述冷阱装置设置在所述管路之异于所述泵抽单元的一端与所述主阀之间。

【技术特征摘要】
1.一种六氯乙硅烷机台，其特征在于，所述六氯乙硅烷机台包括: 工艺机台，所述工艺机台为六氯乙硅烷之工艺制程腔室； 泵抽单元，所述泵抽单元通过具有主阀的管路与所述工艺机台连接； 冷阱装置，所述冷阱装置进一步包括金属隔离网以及设置在所述金属隔离网外围的冷却装置，且所述冷阱装置设置在所述管路之异于所述泵抽单元的一端与所述主阀之间。2.如权利要求1所述的六氯乙硅烷机台，其特征在于，所述冷阱装置之金属隔离网活动设置在所述管路之异于所述泵抽单元的一端与所述主阀之间。3.如权利要求1所述的六氯乙硅烷机台，其特征在于，所述冷阱装置之金...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈志平，俞玮，万家俊，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31