专利查询
首页
专利评估
登录
注册
中国科学院半导体研究所专利技术
中国科学院半导体研究所共有5962项专利
制备低温超薄异质外延用柔性衬底的方法技术
本发明一种制备低温超薄异质外延用柔性衬底的方法,其中包括如下步骤:(1)选择一机械支撑衬底,该机械支撑衬底对于整个结构起机械支撑作用;(2)用分子束外延在机械支撑衬底上生长去耦合的中间层;(3)用分子束外延在去耦合的中间层上生长顶层结构。
氮化镓及其化合物半导体的横向外延生长方法技术
本发明提出了一种氮化镓及其化合物半导体的横向外延生长方法,先在衬底蓝宝石(0001)或硅(111)或碳化硅(0001)晶面上采用金属有机物化学气相沉积或分子束外延或氢化物气相外延生长一层本征氮化硅,随后其上沉积一层氮化硅或二氧化硅或氮氧...
退火非掺杂磷化铟制备半绝缘衬底的方法技术
一种高温退火非掺杂磷化铟制备半绝缘衬底的方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)选用非掺磷化铟材料;(2)使用纯度为光谱纯以上的铁粉和6N纯度以上的红磷,将在磷化铟材料及红磷一起放入石英管中;(3)磷化铟材料的晶片要放置在样品架上,彼此隔...
高频肖特基二极管的电化学制作方法技术
一种高频肖特基二极管的电化学制作方法,其特征在于,包括如下步骤: 1)用电化学工艺在半导体表面上形成阳极氧化多孔绝缘薄膜; 2)把阳极氧化多孔绝缘薄膜作为形成肖特基二极管的掩膜; 3)用电化学阳极氧化腐蚀和镀金工艺首先...
CMOS结构的硅基发光器件制造技术
一种CMOS结构的硅基发光器件,其特征在于,包括: 一p型衬底; 一n↑[+]区,该n↑[+]区为圆形,制作在p型衬底上; 一环形n↑[+]区,该环形n↑[+]区围绕在n↑[+]区的周围,该环形n↑[+]区制作在p型衬...
大规模光电集成RCE探测器面阵器件制造技术
大规模光电集成RCE探测器面阵器件,该面阵器件的每个器件的机构都是相同的,该面阵器件都是由两部分构成,即砷化镓基光探测器和硅基后处理电路,包括:一衬底;一布拉格反射镜,该布拉格透射镜制作在衬底上;一多量子阱光吸收区,该多量子阱光吸收区制...
提高半导体光电转换器件性能的方法技术
本发明涉及一种半导体光电转换器件,其是将入射光与光电转换器件表面法线形成一小于90度的夹角θ。其可提高半导体光电转换器件的光生电流和光电转换效率,其特点是倾斜半导体光电转换器件,使器件表面与入射光不垂直,而成一定的夹角。由于光线在器件中...
氮化镓基发光二极管N型层欧姆接触电极的制作方法技术
一种氮化镓基发光二极管N型层欧姆接触电极的制作方法,包括如下步骤:1)在蓝宝石衬底上的氮化镓基发光二极管的外延结构上用干法刻蚀或湿法腐蚀的方法在设计的管芯的N电极区域刻蚀出直径或边长小于50μm的圆型或方形或任意形状的刻蚀孔,直到N型接...
氮化镓基发光二极管管芯的制作方法技术
本发明一种氮化镓基发光二极管管芯的制作方法,该方法适用于碳化硅衬底、硅衬底和砷化镓等导电衬底上外延的氮化镓基发光二极管结构的管芯的制作,包括如下步骤:1)在碳化硅等导电衬底上分别制作N型氮化镓层、有源区和P型氮化镓层;2)在P型GaN层...
提高n型硅原位掺杂载流子浓度的方法技术
一种提高n型硅(Si)原位掺杂浓度的方法,它是在进行Si原位掺杂生长的过程中掺入锗(Ge)来实现。也可以说,它是生长n型原位掺杂的Ge组分较低的SiGe材料代替n型Si材料,以达到提高载流子浓度、减小电阻等目的。
无破坏性检测高电子迁移率晶体管外延材料性能的方法技术
一种无破坏性检测高电子迁移率晶体管外延材料性能的方法,包括:采用相同工艺对一系列不同结构的晶体管材料进行器件制备,根据器件结果选取最优的晶体管外延材料;将所确定的外延材料在一确定温度T下做PL谱实验,找出沟道层的2DEG的导带电子第一二...
多能态离子注入法制备磁性半导体的方法技术
一种多能态离子注入法制备磁性半导体材料的方法,其特征在于,包括如下步骤: 首先选择半导体材料为衬底; 然后在衬底上采用多能态离子注入法直接制备磁性半导体材料,形成稀磁半导体材料。
一种氢致解耦合的异质外延用柔性衬底制造技术
一种氢致解偶合的异质外延用柔性衬底,其特征在于,其中包括: 一机械支撑衬底,对于整个结构起机械支撑作用; 一层去耦合的中间层,通过氢离子或氢气注入形成,对整个结构起解偶合作用; 一顶层结构,厚度低于1000纳米,与机械...
大计量离子注入法制备磁体/半导体混杂结构的方法技术
大计量离子注入法制备磁体/半导体混杂结构的方法,其特征在于,包括如下步骤: 选择半导体材料为衬底; 在半导体衬底中直接进行大计量离子注入; 退火,使得磁性团族均匀分布于衬底中。
光纤陀螺用单片集成波导型光收发芯片及其制作方法技术
一种光纤陀螺用单片集成波导型光收发芯片,其特征在于,该芯片是把超辐射发光二极管7、波导型探测器和3dB耦合器集成制作在同一InP基片上;其中超辐射发光二极管和波导型探测器通过3dB耦合器连接在一起并通过3dB耦合器的第三端发射和接收光。
与CMOS工艺兼容的硅光电探测器及制作方法技术
一种与互补金属氧化物半导体工艺兼容的硅光电探测器,其特征在于,其中包括: 一个p↑[-]型半导体衬底; 一个n型阱,该n型阱制作在衬底上; 一个6条叉指状的P↑[+]型扩散区,该6条叉指状的P↑[+]型扩散区设置在n型...
大功率氮化镓基发光二极管的制作方法技术
一种大功率氮化镓基发光二极管管芯的制作方法,其特征在于,包括如下步骤: 1)在蓝宝石等绝缘衬底上用金属化学气相沉积技术分别外延生长N型氮化镓层、有源区和P型氮化镓层; 2)利用光刻和干法刻蚀技术将设计好的大面积管芯刻蚀分隔成...
倒装焊技术制作氮化镓基发光二极管管芯的方法技术
一种倒装焊技术制作氮化镓基发光二极管管芯的方法,其特征在于,包括如下步骤:1)在蓝宝石等绝缘衬底上利用金属化学有机气相沉积方法外延生长氮化镓N型氮化镓层,发光有源区和P型氮化镓层;2)设计管芯和相应的管芯分割道的尺寸,在设计 ...
利用倒装焊技术制作氮化镓基发光二极管管芯的方法技术
一种利用倒装焊技术制作氮化镓基发光二极管管芯的方法,其特征在于,包括如下步骤: 1)在蓝宝石等绝缘衬底上利用金属化学有机气相沉积方法外延生长N型氮化镓层、发光有源区和P型氮化镓层; 2)在设计好的管芯的P型氮化镓层上制备具有...
中浓度P型掺杂透射式砷化镓光阴极材料及其制备方法技术
一种中浓度P型掺杂透射式砷化镓光阴极材料,其特征在于,光阴极材料的有源区分两层:内层和表面层,有源区内层为中浓度掺杂,表面层为低浓度掺杂;内层的外侧是窗口层,表面层的外侧是激活层。
首页
<<
274
275
276
277
278
279
280
>>
尾页
科研机构数量排行前10
华为技术有限公司
133943
珠海格力电器股份有限公司
99092
中国石油化工股份有限公司
87105
浙江大学
81097
三星电子株式会社
68153
中兴通讯股份有限公司
67281
国家电网公司
59735
清华大学
56382
腾讯科技深圳有限公司
54182
华南理工大学
51641
最新更新发明人
中国科学院合肥物质科学研究院
8303
杭州瑞盟科技股份有限公司
70
成都瀚联九霄科技有限公司
12
重庆电子科技职业大学
309
中国矿业大学
23793
哈尔滨工业大学
43831
上海交通大学医学院附属第九人民医院
4534
深圳市永鑫环球纸品有限公司
12
重庆邮电大学
14120
平顶山中昱能源有限公司
28